Патенти з міткою «штемпелів»

Номер патенту: 22676

Опубліковано: 25.04.2007

Автор: Жваколюк Юрій Вікторович

МПК: B41K 1/00

Мітки: шару, печаток, спосіб, еластичного, штемпелів, реставрації

Формула / Реферат:

1. Спосіб реставрації еластичного шару печаток і штемпелів, що включає накладення фрагменту, який залишився від цілого еластичного шару, на відповідну ділянку негативної фотоформи, за допомогою якої був створений цілий еластичний шар, нанесення на вільну від вказаного фрагменту ділянку негативної фотоформи рідкої композиції, потім ультрафіолетове опромінювання негативної фотоформи і вимивання пробільних елементів вказаної форми, який...

Номер патенту: 41239

Опубліковано: 16.06.2003

Автор: Жваколюк Юрій Вікторович

МПК: G03F 7/12, C08J 3/02, B41K 1/00 ...

Мітки: печаток, спосіб, виготовлення, штемпелів

Формула / Реферат:

Спосіб виготовлення печаток та штемпелів, що передбачає нанесення на негативну фотоформу рідкої композиції, яка фотополімеризується, УФ-опромінювання негативної фотоформи, та вимивання пробільних елементів вказаної форми, який відрізняється тим, що використовують композицію, яка містить олігоуретанакрилат, олігоефіракрилат та фото ініціатор при такому співвідношенні компонентів, мас. %:                            ...

Номер патенту: 41238

Опубліковано: 15.08.2001

Автор: Жваколюк Юрій Вікторович

МПК: C08J 3/02, C08J 5/24, B41K 1/00 ...

Мітки: спосіб, печаток, реставрації, штемпелів, фотополімерного, шару

Формула / Реферат:

Спосіб реставрації фотополімерного шару печаток та штемпелів, який відрізняється тим, що здійснюють накладання фрагмента, який залишився від цілого фотополімерного шару, на відповідну ділянку негативної фотоформи, з допомогою якої був створений цілий фотополімерний шар, нанесення на вільну від вказаного фрагмента ділянку негативної фотоформи рідкої композиції, яка фотополімеризусться, УФ-опромінювання негативної фотоформи та вимивання...