Патенти з міткою «vo2-sio2»

Номер патенту: 103698

Опубліковано: 25.12.2015

Автори: Савченко Марія Олегівна, Карніна Альона Юріївна, Мисов Олег Петрович, Гиренко Альона Олександрівна

МПК: C01G 31/00, C01B 33/12

Мітки: vo2-sio2, спосіб, композиційного, матеріалу, отримання

Формула / Реферат:

Спосіб отримання композиційного матеріалу складу VO2-SiO2, що проявляє зворотний фазовий перехід метал-напівпровідник за температури 55¸60 °С, в якому вміст VO2 становить 12¸15 %, що включає приготування суміші з SiO2 та ванадійвмісної сполуки, її термообробку у інертній атмосфері, який відрізняється тим, що до високодисперсного SiO2, попередньо прожареного при температурі 950 °C у потоці аргону протягом 30 хвилин,...