Путавала Анвер

Номер патенту: 57728

Опубліковано: 15.07.2003

Автор: Путавала Анвер

МПК: C02F 1/461

Мітки: воднем, насичення, води, пристрій

Формула / Реферат:

1. Пристрій (1) для насичення газом воднем (Н2) води (W), що подається у підсистемі (2) технічної установки, який відрізняється тим, що до підсистеми (2) під’єднаний електролізний блок (3) для розкладання часткової кількості води (W), що в нього подається, на водень (Н2) і кисень (О2), причому до електролізного блока (3) підключена система відведення кисню (O2).2. Пристрій для насичення газом за п. 1, який відрізняється тим, що...

Номер патенту: 44808

Опубліковано: 15.03.2002

Автори: Штюнкель Гельмут, Путавала Анвер

МПК: G21C 17/02, G21C 19/28, G21D 1/02 ...

Мітки: першого, теплоносія, охолоджуваного, водою, рідкого, контуру, газації, реактора, тиском, пристрій, воднем

Формула / Реферат:

1. Пристрій для газації воднем рідкого теплоносія першого контуру реактора, охолоджуваного водою під тиском, і що містить ємність компенсатора об'єму і, принаймні, один насос високого тиску, при цьому пристрій має місце підживлення для водню, у всмоктуючому трубопроводі насоса високого тиску і оснащений регулювальним пристроєм, який з боку входу з'єднаний з пристроєм вимірювання концентрації водню, та регулювальним клапаном в живильному...