Пристрій для утримання плазми
Формула / Реферат
Пристрій для утримання плазми, що містить розрядну камеру та оснащений зовнішньою магнітною системою, яка складається з концентрично встановлених основного і біполярного постійних магнітів, при цьому біполярний постійний магніт має магнітний зв'язок з внутрішньою екваторіальною частиною основного постійного магніту, який відрізняється тим, що основний постійний магніт зовнішньої магнітної системи має внутрішню порожнину, в якій концентрично основному магніту встановлений біполярний постійний магніт, при цьому основний та біполярний постійні магніти виконані в вигляді кілець, а основний постійний магніт складається із зовнішнього та внутрішнього кілець, причому співвідношення радіуса внутрішнього кільця основного постійного магніту та радіуса його порожнини розраховуються таким чином, що забезпечується розрахункова величина щільності магнітного поля всередині розрядної камери.
Текст
Пристрій для утримання плазми, що містить розрядну камеру та оснащений зовнішньою магнітною системою, яка складається з концентрично 3 91630 Він складається (див. фіг. 1) з розрядної камери 1, основного кільцевого магніту 2 (далі магніт 2) в порожнині якого концентрично встановлений біполярний кільцевий постійний магніт 3 (далі магніт 3). Пристрій утримує плазму 4 у центрі середньої частини розрядної камери 1. Тіло магніту 2 (по магнітним ознакам) складається з зовнішнього кільця 6 і внутрішнього кільця 5 (див. фіг.2), з зовнішнім радіусом R. При цьому зовнішнє кільце 6 полюса N до полюса S замикає свої магнітосилові лінії ззовні магніту 2. В той час магнітний потік внутрішнього кільця 5 замикається через вузьку порожнину магніту 2, з радіусом r. Ця конструктивна особливість пристрою дозволяє шляхом збільшення R, при постійному г, досягти розрахункової величини щільності магнітного поля, в середині розрядної камери 1. так як, магнітний потік внутрішнього кільця 5 магніту 2, проходячи через його порожнину ущільнюється в рази, пропорційно площі внутрішнього кільця 5 і порожнини магніту 2. Комп’ютерна верстка І.Скворцова 4 Кожний іон тіла плазми 4 під дією магнітного поля магніту 2 (див. фіг.2) створює свою магнітосферу, біполярну до магнітосфери магніту 2. Тому одержана магнітосфера плазми 4 буде біполярна магнітосфері магніту 2. На магнітосфери кожного іона тіла плазми 4 взаємодіють одночасно два постійних магніту пристрою. Магніт 2 має на них вертикальний вплив, збираючи іони плазми 4 в центрі розрядної камери 1, а магніт 3 стискає тіло плазми 4 по горизонталі. В результаті сумарного впливу вказаних постійних магнітів на щільне тіло плазми 4, воно приймає сферичну форму, знаходячись у центрі розрядної камери 1. Тіло плазми 4 розміщено в магнітні потоки постійних магнітів (2 і 3) , тому його іони бомбардуються їх електронами. При цьому електрони гальмуються, а гравітаційні оболонки іонів, збираючи повільні електрони в електронні хвилі, перетворюють енергію постійних магнітів в теплову. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for plasma confinement
Автори англійськоюShyrokov Volodymyr Pavlovych
Назва патенту російськоюУстройство для удержания плазмы
Автори російськоюШироков Владимир Павлович
МПК / Мітки
МПК: H05H 1/02
Мітки: плазми, пристрій, утримання
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-91630-pristrijj-dlya-utrimannya-plazmi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для утримання плазми</a>
Пристрій для утримання плазми
Номер патенту: 84446
Опубліковано: 27.10.2008
Автор: Широков Володимир Павлович
МПК: H05H 1/02
Мітки: утримання, плазми, пристрій
Формула / Реферат:
1. Пристрій для утримання плазми, що складається з розрядної камери, оснащений зовнішньою магнітною системою, який відрізняється тим, що зовнішня магнітна система складається з концентрично встановлених основного і біполярного постійних магнітів, при цьому біполярний постійний магніт має магнітний зв'язок з внутрішньою екваторіальною частиною основного постійного магніту.2. Пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що у центрі...
Пристрій для утримання високотемпературної плазми у згустку сферичної форми та її керованої емісії за о.о.нахабою
Номер патенту: 16104
Опубліковано: 17.07.2006
Автор: Нахаба Олександр Олександрович
МПК: H05H 1/02
Мітки: емісії, плазми, високотемпературної, о.о.нахабою, керованої, сферичної, форми, згустку, пристрій, утримання
Формула / Реферат:
Пристрій для утримання високотемпературної плазми у згустку сферичної форми та її керованої емісії, що являє собою електромагнітний контейнер для плазми, який відрізняється тим, що він являє собою камеру 1 сферичної форми з отворами 2, у центрі котрої розташований реакторний відсік 3, камера 1 складається з надпровідних електромагнітних обмоток конічної форми 4 без сердечників з вузькими центральними каналами та двох обмоток конічної форми 5...
Пристрій для утримання високотемпературної плазми у згустку сферичної форми та її керованої емісії у строго детермінованому напрямі за о.о.нахабою
Номер патенту: 82551
Опубліковано: 25.04.2008
Автор: Нахаба Олександр Олександрович
Мітки: сферичної, напрямі, плазми, о.о.нахабою, детермінованому, форми, керованої, емісії, згустку, високотемпературної, утримання, строго, пристрій
Формула / Реферат:
Пристрій для утримання високотемпературної плазми у згустку сферичної форми та її керованої емісії у строго детермінованому напрямі, що являє собою електромагнітний контейнер для плазми, який відрізняється тим, що контейнер виконаний у вигляді камери 1 сферичної форми з отворами 2, у центрі котрої розташований реакторний відсік 3, камера 1 складається з надпровідних електромагнітних обмоток конічної форми, серед яких є екваторіальні обмотки...
Пристрій для утримання високотемпературної плазми у згустку сферичної форми та її керованої емісії у строго детермінованому напрямі за о.о.нахабою
Номер патенту: 17149
Опубліковано: 15.09.2006
Автор: Нахаба Олександр Олександрович
МПК: H05H 1/02
Мітки: сферичної, плазми, форми, емісії, утримання, строго, пристрій, напрямі, о.о.нахабою, керованої, детермінованому, високотемпературної, згустку
Формула / Реферат:
Пристрій для утримання високотемпературної плазми у згустку сферичної форми та її керованої емісії у строго детермінованому напрямі, що являє собою електромагнітний контейнер для плазми, який відрізняється тим, що виконаний у вигляді камери 1 сферичної форми з отворами 2, у центрі котрої розташований реакторний відсік 3, камера 1 складається з надпровідних електромагнітних обмоток конічної форми без сердечників з вузькими центральними...
Пристрій для отримання, утримання та використання антипротонної плазми за о.о.нахабою
Номер патенту: 35724
Опубліковано: 10.10.2008
Автор: Нахаба Олександр Олександрович
МПК: H02K 44/00, H05H 3/00, H05H 1/02, G21D 5/00
Мітки: використання, плазми, отримання, утримання, пристрій, о.о.нахабою, антипротонної
Формула / Реферат:
Пристрій для отримання, утримання та використання антипротонної плазми, що являє собою вакуумну камеру для протікання реакцій, у ході котрих виділяються антипротони, який відрізняється тим, що по екватору даної камери (14) розташовані джерела постійного електричного та магнітного поля, силові лінії котрих розташовані під кутом 90°, під дією котрих відбувається розділення продуктів реакції на негативно заряджені іони (18) (серед котрих...
Попередній патент: Ніж-пістолет
Наступний патент: Електрокоагулятор для очищення стічних вод
Випадковий патент: Формувач складних кусково-лінійних функцій