Модифіковане маркування на основі хіральних рідкокристалічних полімерів

Реферат: Рідкокристалічне полімерне маркування доступне шляхом процесу, який включає нанесення хіральної рідкокристалічної композиції-попередника на підкладку, нагрівання композиції, щоб привести її до хірального рідкокристалічного стану, нанесення щонайменше на одну ділянку композиції-попередника модифікуючої композиції, якщо необхідно, нагрівання щонайменше однієї ділянки, щоб привести її до модифікованого рідкокристалічного стану, а потім тверднення та/або полімеризація отриманого продукту. UA 104660 C2 (12) UA 104660 C2 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 ПЕРЕХРЕСНЕ ПОСИЛАННЯ НА СПОРІДНЕННІ ЗАЯВКИ [0001] Дана заявка заявляє пріоритет за 35 U.S.C. §119(e) попередньої заявки на патент США № 61/267654, поданої 8 грудня 2009 р., повне розкриття якої явно включене шляхом посилання в даному документі. ПЕРЕДУМОВИ ВИНАХОДУ 1. Галузь винаходу [0002] Дійсний винахід стосується маркування на основі хіральних нематичних (також називаємих холестеричними) рідкокристалічних полімерів. Дійсний винахід також стосується способу модифікації хіральних нематичних рідкокристалічних плівок, в яких хіральний нематичний рідкокристалічний шар локально або вибірково (одну або декілька зон) модифікують за допомогою модифікуючої композиції. 2. Обговорення передумов винаходу [0003] Згідно звіту, опублікованому Європейською економічною комісією ООН в 2007 р. зростаюча присутність підроблених товарів на ринку коштує уряду та легальним продавцям мільярдів доларів упущеного прибутку щорічно. Наряду з економічним впливом підроблені продукти або товари з підробленими марками підтвердження відповідності можуть також представляти серйозні проблеми для здоров'я та безпеки. Такі продукти можуть охоплювати фальсифіковані або заражені продукти харчування, шкідливі іграшки, фальсифіковані електротехнічні товари та запчастини для автомобілів. Всесвітня організація охорони здоров'я визначила підроблені медикаменти як величезну загрозу для здоров'я, що потенційно завдають серйозну шкоду пацієнтам та інколи призводять до смерті. [0004] Класичний спосіб захистити продукти або товари від підробки полягає в тому, щоб маркувати їх унікальним ідентифікатором. Маркування може бути у вигляді, наприклад, коду, знаку або матриці даних. Декілька заявок на патенти стосуються маркування та пристроїв для його аутентифікації. Наприклад, міжнародна заявка WO 2003/049047, повне розкриття якої включене як посилання в даному документі, описує спосіб і пристрій для нанесення унікальних комбінованих знаків або форм на послідовність предметів, де кожний унікальний комбінований знак включає два або більше знаків. Щонайменше частина кожного із знаків може бути співрозміщена в попередньо визначеному місцезнаходженні на предметі з таким співрозміщенням, що є унікальним або відмінним для кожного комбінованого знаку для кожного предмету. Знак можна додатково друкувати з одним або декількома зображеннями, логотипами або кольоровими схемами. Код (наприклад, літерно-цифровий код), який зберігається в базі даних, можна отримати із комбінованого знаку, виходячи з однієї або декількох математичних властивостей. Код згодом може бути доступним для ідентифікації або контролю предмету із знаком. Міжнародна заявка WO 2006/1 18889, повне розкриття якої включене як посилання в даному документі, стосується предмету, що включає хемілюмінесцентну речовину. Цей документ також стосується способів та механізму, які виявляють наявність хемілюмінесценції з метою передачі інформації, пов'язаної з предметом. Корисні застосування даного винаходу охоплюють підтвердження автентичності предмету або його вмісту або навпаки виявлення підробки. Спосіб за даним винаходом стосується інформаційного етапу, який забезпечує видимий знак. Міжнародна заявка WO 2009/121605, повне розкриття якої включене як посилання в даному документі, розкриває маркування полімерного рідкокристалічного матеріалу з попередньо заданими оптичними характеристиками, які дозволяють його аутентифікацію та зчитування машиною та аутентифікацію людським оком. Маркування наносять на виріб, товар або предмет. Маркування є у вигляді знаку, що відображає унікальний код, який передбачає легку аутентифікацію людським оком та стеження та спостереження безпеки маркованого виробу, товару або предмету протягом всього циклу довговічності. [0005] Навіть якщо наведені способи здаються надійними та ефективними, щоб захистити товари або предмети від підробки, фактом є те, що підроблювачі застосовують все більш витончені інструменти, щоб скопіювати та/або відтворити знак або маркування. Це, зокрема, правда, коли поєднано з технологіями друку, які швидко удосконалюються, такими як струменевий друк, лазерні технології і т. д. Тому досі є необхідність створити більш удосконалену систему, що має більше хімічних та кодуючих змін, ніж наявні в даний час, без збитку для надійності, простоти застосування, простоти виготовлення, простоти виявлення, вартості виготовлення та аутентифікації. [0006] Таким чином було б вигідно мати придатні нові способи та нові маркування для стеження та/або аутентифікації, застосовуючи маркування, яке зручно наносити, виявляти, зчитувати та розшифровувати уповноваженому користувачу, і яке між тим має багатократний рівень кодування, щоб бути вкрай важким для відтворення або копіювання неправомочним користувачем або підроблювачем. 1 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 КОРОТКИЙ ОПИС ДАНОГО ВИНАХОДУ [0007] Даний винахід забезпечує рідкокристалічне полімерне маркування Маркування доступне шляхом процесу, який включає: (i) нанесення першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника щонайменше на одну поверхню (твердої) підкладки; (ii) нагрівання нанесеної композиції, щоб привести її до першого хірального рідкокристалічного стану; (iii) нанесення на одну або декілька ділянок нанесеної композиції щонайменше однієї з: (1) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках, та (2) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка при нагріванні модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках; (iv) у випадку (2) нагрівання щонайменше однієї з однієї або декількох ділянок, щоб привести її щонайменше до одного з другого хірального рідкокристалічного стану та ізотропного стану, та (v) щонайменше одне з тверднення та полімеризації таким чином локально модифікованої композиції-попередника для перетворення її на рідкокристалічне полімерне маркування [0008] В одному аспекті маркування даного винаходу щонайменше одна модифікуюча композиція може щонайменше частково перетворити перший хіральний рідкокристалічний стан (переважно або по суті) в ізотропний стан. В іншому аспекті щонайменше одна модифікуюча композиція може щонайменше частково перетворити перший хіральний рідкокристалічний стан в другий хіральний рідкокристалічний стан, який відрізняється від першого стану. В іншому аспекті на етапі (iii) щонайменше дві або щонайменше три різні модифікуючі композиції наносять одночасно або послідовно [0009] В одному аспекті хіральна рідкокристалічна композиція-попередник може включати (i) одну або декілька (наприклад, дві, три, чотири, п'ять або більше та, зокрема, щонайменше дві) різних нематичних сполук A та (ii) одну або декілька (наприклад дві, три, чотири, п'ять або більше) різних хіральних легувальних сполук B, які здатні при нагріванні зумовлювати холестеричний стан хіральної рідкокристалічної композиції-попередника. Більш того, як одна або декілька нематичних сполук A, так і одна або декілька хіральних легувальних сполук B можуть включати щонайменше одну сполуку, яка включає щонайменше одну групу, здатну полімеризуватися. Наприклад, всі з однієї або декількох нематичних сполук A і всі з однієї або декількох хіральних легувальних сполук B можуть включати щонайменше одну групу, здатну полімеризуватися. Щонайменше одна група, яка здатна полімеризуватися, може, наприклад, включати групу, яка здатна приймати участь у вільнорадикальній полімеризації та, зокрема, (переважно активований) ненасичений вуглець-вуглецевий зв'язок, як, наприклад, група з формулою H2C=CH-C(О)-. [0010] Іще в одному аспекті маркування за дійсним винаходом хіральна рідкокристалічна композиція-попередник може включати щонайменше одну хіральну легувальну сполуку B з формулою (I): , де: R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл та C1-C6 алкоксі; A1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою (i)-(iii): (i) -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; (ii) -C(О)-D1-О-[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; (iii) -C(О)-D2-O-(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; D1 означає групу з формулою 2 UA 104660 C2 , D2 означає групу з формулою 5 10 15 20 25 30 35 40 45 , m, n, o, p, q, r, s та t, кожний незалежно означає 0, 1 або 2; y означає 0, 1, 2, 3, 4, 5 або 6; z дорівнює 0, якщо y дорівнює 0, і z дорівнює 1, якщо y дорівнює 1-6. [0011] Іще в додатковому аспекті маркування даного винаходу щонайменше одна модифікуюча композиція може включати щонайменше одну сполуку, яку вибирають з кетонів, що мають від 3 до приблизно 6 атомів вуглецю (наприклад, 3, 4, 5 або 6 атомів вуглецю), алкілових складних ефірів та діалкіламідів карбонових кислот, які включають всього від приблизно 2 до приблизно 6 атомів вуглецю (наприклад, 2, 3, 4, 5 або 6 атомів вуглецю), діалкілсульфоксидів, що включають всього від 2 до приблизно 4 атомів вуглецю (наприклад, 2, 3 або 4 атомів вуглецю) та факультативно заміщеного нітробензолу. Наприклад, щонайменше один модифікуючий засіб може включати щонайменше один з диметилкетону, метилетилкетону, етилацетату, диметилформаміду, диметилсульфоксиду та нітробензолу. [0012] В іншому аспекті маркування даного винаходу щонайменше одна модифікуючи композиція може включати другу хіральну рідкокристалічну композицію-попередник. Перша хіральна рідкокристалічна композиція-попередник та друга хіральна рідкокристалічна композиція-попередник можуть бути ідентичними. Альтернативно, перша та друга хіральні рідкокристалічні композиції-попередники можуть відрізнятися одна від одної. Наприклад, друга хіральна рідкокристалічна композиція-попередник може відрізнятися від першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника щонайменше тим, що друга композиція включає щонайменше одну з однієї або декількох хіральних легувальних сполук B в концентрації, яка відрізняється від концентрації такої ж хіральної легувальної сполуки в першій композиції та/або щонайменше тим, що друга композиція включає щонайменше одну хіральну легувальну сполуку B, яка відрізняється від будь-якої однієї з однієї або декількох хіральних легувальних сполук B, які присутні в першій композиції. [0013] Іще в іншому аспекті маркування даного винаходу щонайменше одна модифікуюча композиція може включати хіральну легувальну композицію. Хіральна легувальна композиція може включати, наприклад, щонайменше одну хіральну легувальну сполуку C, яка представляє собою сполуку з формулою (I) як визначено вище. В іншому аспекті хіральна легувальна композиція може також включати щонайменше одну хіральну легувальну сполуку D, яка відрізняється від сполуки з формулою (I). [0014] В іншому аспекті миттєвого маркування модифікуюча композиція може також включати щонайменше одну смолу та/або щонайменше одну сіль, та/або щонайменше один пігмент та/або барвник, що поглинає в видимій або невидимій зоні електромагнітного спектру, та/або щонайменше один люмінесцентний пігмент та/або барвник. [0015] В іншому аспекті маркування дійсного винаходу етап (ii) процесу може включати нагрівання нанесеної композиції до температури від приблизно 55 °C до приблизно 150 °C, наприклад, від приблизно 55 °C до приблизно 100 °C або від приблизно 60 °C до приблизно 100 °C. [0016] В ще додатковому аспекті етап (iii) процесу може включати нанесення (наприклад, осадження) щонайменше однієї модифікуючої композиції безперервним струменевим друком та/або краплинно-імпульсним струменевим друком, та/або покриттям напиленням, та/або клапанним друком. 3 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 [0017] В іншому аспекті відразу після етапу (iii) процесу можна пустити потік повітря над поверхнею однієї або декількох ділянок, переважно (практично) паралельно їм. [0018] Іще в одному аспекті маркування дійсного винаходу може бути у формі щонайменше одного з зображення, картинки, логотипа, знаку або узору, що являє собою код, вибраний з одного або декількох з 1-вимірних штрих-кодів, складених 1-вимірних штрих-кодів, 2-вимірних штрих-кодів, 3-вимірних штрих-кодів та матриці даних. [0019] Дійсний винахід також забезпечує підкладку, яка включає (наприклад, несе на своїй поверхні) маркування дійсного винаходу, як вказано вище, включаючи різні його аспекти. [0020] В одному аспекті підкладки маркування може служити щонайменше одним з елементу захисту, елементу автентичності, елементу ідентифікації та елементу стеження та спостереження. [0021] В іншому аспекті підкладка може бути, або включати, щонайменше однією з ідентифікаційного документа, ярлика, упаковки, банкноти, цінного папера, паспорта, штампа, перебивної плівки та відбиваючої плівки. [0022] Дійсний винахід також забезпечує захисну фарбу, що включає (i) одну або декілька нематичних сполук A та (ii) одну або декілька хіральних легувальних сполук B, які здатні при нагріванні зумовлювати холестеричний стан захисної фарби при її нанесенні. [0023] В одному аспекті захисна фарба може включати щонайменше одну хіральну легувальну сполуку B з формулою (I), як вказано вище. [0024] Дійсний винахід також забезпечує спосіб забезпечення підкладки з рідкокристалічним полімерним маркуванням. Спосіб включає: (i) нанесення першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника щонайменше на одну поверхню (твердої) підкладки; (ii) нагрівання нанесеної композиції, щоб привести її до першого хірального рідкокристалічного стану; (iii) нанесення на одну або декілька ділянок нанесеної композиції щонайменше однієї з: (1) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках, та (2) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка при нагріванні модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках; (iv) у випадку (2) нагрівання щонайменше однієї з однієї або декількох ділянок, щоб привести її щонайменше до одного з другого хірального рідкокристалічного стану та ізотропного стану, та (v) щонайменше одне з тверднення та полімеризації таким чином локально модифікованої композиції-попередника для перетворення її на рідкокристалічне полімерне маркування [0025] Дійсний винахід також забезпечує підкладку, яка включає маркування (наприклад, щонайменше на одній (зовнішній) її поверхні). Маркування включає шар або плівку хірального рідкокристалічного полімеру. Шар або плівка включає щонайменше в одній його(її) ділянці (зоні) рідкокристалічний полімер, що має щонайменше одну оптичну властивість, яка відрізняється від оптичної властивості решти шару або плівки [0026] В одному аспекті підкладки рідкокристалічний полімер щонайменше в одній ділянці шару або плівки може включати (наприклад, може бути в) ізотропний стан. В іншому аспекті рідкокристалічний полімер щонайменше в одній ділянці шару або плівки може включати (наприклад, може бути в) ізотропний стан. .[0027] Дійсний винахід також забезпечує підкладку, яка включає маркування (наприклад, щонайменше на одній (зовнішній) її поверхні). Маркування включає шар або плівку першого хірального рідкокристалічного полімеру, що має першу оптичну властивість. Шар або плівка включає щонайменше в одній його(її) ділянці (зоні) другий рідкокристалічний полімер, що має щонайменше одну другу оптичну властивість, яка відрізняється від першої оптичної властивості. [0028] Дійсний винахід також забезпечує підкладку, яка включає маркування (наприклад, щонайменше на одній (зовнішній) її поверхні). Маркування включає шар або плівку хірального рідкокристалічного полімеру, що має першу оптичну властивість. Шар або плівка включає щонайменше в одній його(її) ділянці (зоні) рідкокристалічний полімер в другому хіральному рідкокристалічному стані, що має щонайменше одну оптичну властивість, яка відрізняється від оптичної властивості полімеру в першому хіральному рідкокристалічному стані. КОРОТКИЙ ОПИС ГРАФІЧНИХ МАТЕРІАЛІВ [0029] Дійсний винахід додатково описується в докладному описі, який іде далі, відносно сукупності графічних матеріалів за допомогою необмежуючих прикладів ілюстративних варіантів здійснення дійсного винаходу, і де: 4 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 Фіг. 1 представляє собою схематичне зображення, яке ілюструє нематичні, смектичні та холестеричні рідкі кристали; Фіг. 3 демонструє фотографії маркування за дійсним винаходом. ДОКЛАДНИЙ ОПИС ДІЙСНОГО ВИНАХОДУ [0030] Подробиці, продемонстровані в даному документі, наведені лише в якості прикладу та з метою ілюстративного обговорення варіантів здійснення дійсного винаходу та представлені з метою забезпечення того, що, як вважається, є найбільш придатним та легко зрозумілим описом принципів та концептуальних аспектів дійсного винаходу. У зв'язку з цим не ужито ніяких заходів, щоб показати структурні деталі дійсного винаходу більш докладно, ніж це необхідно для фундаментального розуміння дійсного винаходу, при цьому опис разом з графічними матеріалами роблять зрозумілим для фахівців даної галузі, як можуть бути втілені на практиці декілька форм дійсного винаходу. [0031] Підкладка для застосування в дійсному винаході конкретно не обмежена та може бути різних типів. Підкладка може, наприклад, складатися з (по суті) або включати один або декілька з металу (наприклад, в формі ємності, такої як посудина для зберігання різних видів продукції, таких як, наприклад, напої або харчові продукти), оптичних волокон, тканого матеріалу, покриття та їх еквівалентів, пластичного матеріалу, скла (наприклад, в формі ємності, такої як пляшка для зберігання різних видів продукції, таких як, наприклад, напої або харчові продукти), картону, упаковки, паперу та полімерного матеріалу. Підкреслюється, що ці матеріали підкладки приведені виключно з ілюстративною метою без обмеження обсягу дійсного винаходу. Підкладка буде мати переважно помірну пористість (і може бути, наприклад, практично без пор). [0032] Підкладка додатково буде мати переважно темну або чорну поверхню або тло, на яке має бути нанесена композиція-попередник. Не бажаючи пов'язуватися з будь-якою теорією, припускають, що у випадку темного або чорного тла світло, пропущене холестеричним рідкокристалічним матеріалом, переважно поглинається тлом, завдяки чому будь-яке залишкове зворотне випромінювання від тла не заважає сприйняттю власного відображення холестеричного рідкокристалічного матеріалу неозброєним оком. На відміну від цього, на підкладці зі світлою або білою поверхнею або тлом колір відображення холестеричного рідкокристалічного матеріалу менш помітний у порівнянні з темним або чорним тлом за рахунок сильного зворотного випромінювання від тла. Проте, навіть у випадку світлого або білого тла холестеричний рідкокристалічний матеріал завжди можна ідентифікувати за допомогою фільтра з круговою поляризацією, тому що він вибірково відбиває тільки одну з двох можливих частинок світла з круговою поляризацією відповідно до його хіральної спіральної структури. [0033] Необмежуючі приклади придатних підкладок включають: картон, затемнений чорною фарбою глибокого друку (без друку поверх лаком); картон, затемнений чорною фарбою офсетного друку (без друку поверх лаком); картон, затемнений будь-якою чорною фарбою та надрукований поверх лаком на водній основі; картон, затемнений будь-якою чорною фарбою та надрукований поверх лаком з розчинником; метал, оброблений чорним покриттям. Загалом, будь-яка (переважно без пор та переважно чорна) підкладка (яка може не обов'язково бути плоскою та може бути нерівною), чиє покриття є нерозчинним, або тільки дещо розчинним, в розчиннику(ах), застосовуваному(них) в хіральній рідкій композиції-попереднику та в модифікуючому засобі, представляє собою придатну підкладку для цілей дійсного винаходу. [0034] Хіральна рідкокристалічна композиція-попередник, яку застосовують для здійснення маркування за дійсним винаходом та наносять (наприклад, осаджують) щонайменше на частину щонайменше однієї поверхні підкладки, включає суміш (i) однієї або декількох нематичних сполук A та (ii) однієї або декількох холестеричних (тобто, хіральних легувальних) сполук B (включаючи холестерин), які здатні зумовлювати холестеричний стан композиції. Крок спіралі отримуваного холестеричного стану залежить від відносного співвідношення нематичних та холестеричних сполук. Зазвичай, (загальна) концентрація однієї або декількох нематичних сполук A в хіральній рідкокристалічній композиції-попереднику для застосування в дійсному винаході буде приблизно в п'ять - двадцять разів більше (загальної) концентрації однієї або декількох холестеричних сполук B. Як правило, композиція-попередник з високою концентрацією холестеричних сполук не є бажаною (хоча можлива в будь-якому випадку), оскільки одна або декілька холестеричних сполук мають тенденцію до кристалізації, таким чином позбавляючи можливості отримати бажаний рідкокристалічний стан зі специфічними оптичними властивостями. [0035] В даній галузі відомі нематичні сполуки A, які придатні для застосування в хіральній рідкокристалічній композиціії-попереднику, застосовувані за дійсним винаходом; при їх застосуванні окремо (тобто, без холестеричних сполук) вони організовуються самі по собі в 5 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 стан, що характеризується його двозаломленням. Необмежуючі приклади нематичних сполук A, які придатні для застосування в дійсному винаході, описуються, наприклад, в WO 93/22397, WO 95/22586, EP-B-0847432, патенті США № 6589445, US 2007/0224341 Al та JP 2009-300662 A. Повні розкриття цих документів включені шляхом посилання в даному документі. [0036] Переважний клас нематичних сполук для застосування в дійсному винаході включає одну або декілька (наприклад, 1, 2 або 3) груп, здатних полімеризуватися, ідентичних або які відрізняються одна від одної, на молекулу. Приклади груп, здатних полімеризуватися, включають групи, які здатні приймати участь у вільнорадикальній полімеризації та, зокрема, групи, що включають вуглець-вуглецевий подвійний або потрійний зв'язок, такі як, наприклад, акрилатний фрагмент, вінільний фрагмент або ацетиленовий фрагмент. Особливо переважними в якості груп, здатних полімеризуватися, є акрилатні фрагменти. [0037] Нематичні сполуки для застосування в дійсному винаході додатково можуть включати одну або декілька (наприклад, 1, 2, 3, 4, 5 або 6) факультативно заміщених ароматичних груп, переважно фенільних груп. Приклади факультативних замісників ароматичних груп включають такі, котрі визначені в даному документі як приклади груп-замісників на фенільних кільцях хіральних легувальних сполук з формулою (I), такі як, наприклад, алкільні та алкоксі - групи. [0038] Приклади груп, які факультативно можуть бути присутніми для з'єднання груп, здатних полімеризуватися, та арильних (наприклад, фенільних) груп в нематичних сполуках A, включають такі, які приведені в якості прикладу в даному документі для хіральних легувальних сполук B з формулою (I) (включаючи такі з формулою (IA) та з формулою (IB), які викладені нижче). Наприклад, нематичні сполуки A можуть включати одну або декілька груп з формулою (i)-(iii), які вказані вище як значення для A1 та A2 в формулі (I) (та формулах (IA) та (IB)), як правило, зв'язані з факультативно заміщеними фенільними групами. Конкретні необмежуючі приклади нематичних сполук, які придатні для застосування в дійсному винаході, наводяться нижче в Прикладі. [0039] Для застосування в дійсному винаході бажано, щоб одна або декілька нематичних сполук A (а також одна або декілька хіральних легувальних сполук B) практично не містили сполук, які не включають будь-яку групу, здатну полімеризуватися (тобто, щоб переважно включали сполуки без будь-якої групи, здатної полімеризуватися, тільки в якості домішок, якщо це станеться). Також переважно для нематичних сполук, щоб вони відрізнялися від похідних целюлози. [0040] Одна або декілька холестеричних (тобто, хіральних легувальних) сполук B для застосування в хіральній рідкокристалічній композиції-попереднику (а також одна або декілька хіральних легувальних сполук в хіральній легувальній композиції, яку застосовували як модифікуючу композицію) переважно включають щонайменше одну групу, здатну полімеризуватися. [0041] Як викладено вище, придатні приклади однієї або декількох хіральних легувальних сполук B (а також однієї або декількох хіральних легувальних сполук в хіральній легувальній композиції, яку застосовували як модифікуючу композицію) включають такі з формулою (I): , де: R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл та C1-C6 алкоксі; A1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою (i)-(iii): (i) -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; (ii) -C(О)-D1-О-[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; (iii) -C(О)-D2-O-(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; D1 означає групу з формулою 6 UA 104660 C2 , D2 означає групу з формулою 5 10 15 20 , m, n, o, p, q, r, s та t, кожний незалежно означає 0, 1 або 2; y означає 0, 1, 2, 3, 4, 5 або 6; z дорівнює 0, якщо y дорівнює 0, та z дорівнює 1, якщо y дорівнює 1-6. [0042] В одному аспекті одна або декілька хіральних легувальних сполук B (а також одна або декілька хіральних легувальних сполук в хіральній легувальній композиції, яку застосовували як модифікуючу композицію) можуть включати одну або декілька похідних ізоманіду з формулою (IA): де: R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл та C1-C6 алкоксі; A1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою (i)-(iii): (i) -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; (ii) -C(O)-D1-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2; (iii) -C(О)-D2-О-[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; D1 означає групу з формулою , D2 означає групу з формулою 7 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 , m, n, о, p, q, r, s та t, кожний незалежно означає 0, 1 або 2; y означає 0, 1, 2, 3, 4, 5 або 6; z дорівнює 0, якщо y дорівнює 0, та z дорівнює 1, якщо y дорівнює 1-6. [0043] В одному варіанті здійснення сполук з формулою (IA) (та сполук з формулою (I)) R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл. В альтернативному варіанті здійснення R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8 в формулі (IA) (та в формулі (I)), кожний незалежно означає C1-C6 алкоксі. [0044] В іншому варіанті здійснення сполук з формулою (I) та з формулою (IA) A 1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; R1, R2, R3 та R4 кожний незалежно означає C1-C6 алкіл; і m, n, o та p, кожний незалежно означає 0, 1 або 2. У ще одному варіанті здійснення A1 та A2 в формулі (I) та в формулі (IA), кожний незалежно означає групу з формулою -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; R1, R2, R3 та R4, кожний незалежно означає C1-C6 алкоксі; і m, n, o та p, кожний незалежно означає 0, 1 або 2. [0045] В іншому варіанті здійснення сполук з формулою (IA) (та з формулою (I)) A 1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою -C(O)-D1-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2 та/або з формулою -C(O)-D2-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2; і R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл. В альтернативному варіанті здійснення A1 та A2 в формулі (IA) (та в формулі (I)), кожний незалежно означає групу з формулою -C(O)-D1-O-[(CH2)y-О]z-C(O)CH=CH2 та/або групу з формулою -C(O)-D2-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2; і R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкоксі. [0046] В іншому аспекті одна або декілька хіральних легувальних сполук B (а також одна або декілька хіральних легувальних сполук в хіральній легувальній композиції, яку застосовували як модифікуючу композицію) можуть включати одне або декілька похідних ізосорбіду, представлених формулою (IB): де: R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл та C1-C6 алкоксі; A1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою (i)-(iii): (i) -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; (ii) -C(O)-D1-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2; (iii) -C(О)-D2-О-[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; D1 означає групу з формулою , D2 означає групу з формулою 8 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 , m, n, о, p, q, r, s та t, кожний незалежно означає 0, 1 або 2; y означає 0, 1, 2, 3, 4, 5 або 6; z дорівнює 0, якщо y дорівнює 0, та z дорівнює 1, якщо y дорівнює 1-6. [0047] В одному варіанті здійснення сполук з формулою (IB) R 1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл. В альтернативному варіанті здійснення R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8 в формулі (IB), кожний незалежно означає C1-C6 алкоксі. [0048] В іншому варіанті здійснення сполук з формулою (IB) A1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою -[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; R1, R2, R3 та R4, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл; і m, n, o та p, кожний незалежно означає 0, 1 або 2. У ще одному іншому варіанті здійснення A1 та A2 в формулі (IB), кожний незалежно означає групу з формулою [(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; R1, R2, R3 та R4, кожний незалежно означає C1-C6 алкоксі; та m, n, o та p, кожний незалежно означає 0, 1 або 2. [0049] В іншому варіанті здійснення сполук з формулою (IB) A1 та A2, кожний незалежно означає групу з формулою -C(O)-D1-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2 та/або з формулою -C(О)-D2-О[(CH2)y-О]z-C(О)-CH=CH2; і R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкіл. В альтернативному варіанті здійснення A1 та A2 в формулі (IB), кожний незалежно означає групу з формулою -C(O)-D1-O-[(CH2)y-О]z-C(O)-CH=CH2 та/або групу з формулою -C(О)-D2-О-[(CH2)yО]z-C(О)-CH=CH2; і R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає C1-C6 алкоксі. [0050] В переважному варіанті здійснення алкільні та алкоксі - групи R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8 в формулах (I), (IA) та (IB) можуть включати 3, 4, 6 або 7 атомів вуглецю та, зокрема, 4 або 6 атомів вуглецю. [0051] Приклади алкільних груп, які містять 3 або 4 атомів вуглецю, включають ізопропіл та бутил. Приклади алкільних груп, які містять 6 або 7 атомів вуглецю, включають гексил, 2метилпентил, 3-метилпентил, 2,2-диметилпентил та 2,3-диметилпентил. [0052] Приклади алкоксі - груп, які містять 3 або 4 атомів вуглецю, включають ізопропоксі, бут-1-оксі, бут-2-оксі та трет-бутоксі. Приклади алкоксі - груп, які містять 6 або 7 атомів вуглецю, включають гекс-1-оксі, гекс-2-оксі, гекс-3-оксі, 2-метилпент-1-оксі, 2-метилпент-2-оксі, 2метилпент-3-оксі, 2-метилпент-4-оксі, 4-метилпент-1-оксі, 3-метилпент-1-оксі, 3-метилпент-2оксі, 3-метилпент-3-оксі, 2,2-диметилпент-1-оксі, 2,2-диметилпент-3-оксі, 2,2-диметилпент-4оксі, 4,4-диметилпент-1-оксі, 2,3-диметилпент-1-оксі, 2,3-диметилпент-2-оксі, 2,3-диметилпент3-оксі, 2,3-диметилпент-4-оксі та 3,4-диметилпент-1-оксі. [0053] Необмежуючі конкретні приклади хіральних легувальних сполук B з формулою (I) для застосування в дійсному винаході наведені в Прикладі нижче. [0054] Одна або декілька хіральних легувальних сполук B будуть присутні у композиціїпопереднику, як правило, в загальній концентрації від приблизно 0,1 % до приблизно 30 % за вагою, наприклад, від приблизно 0,1 % до приблизно 25 % або від приблизно 0,1 % до приблизно 20 % за вагою від загальної ваги композиції. Найкращі результати часто отримуватимуть при концентраціях від 3 % до 10 % за вагою, наприклад, від 5 % до 8 % за вагою від загальної ваги композиції-попередника. Одна або декілька нематичних сполук A будуть присутні часто в концентрації від приблизно 30 % до приблизно 50 % за вагою від загальної ваги композиції-попередника. [0055] В маркуванні за дійсним винаходом нанесення (наприклад, осадження) композиціїпопередника переважно виконують за допомогою технології друку та, зокрема, технології друку, вибраної щонайменше із однієї з безперервного струменевого друку, краплинно-імпульсного струменевого друку та покриття напиленням. Звичайно, можна також застосовувати інші технології друку, відомі фахівцям в галузі друку. В переважному варіанті здійснення застосовують струменевий друк. Промислові струменеві засоби друку, які зазвичай застосовують при нанесенні нумерації, кодування та маркування на лініях післядрукарської обробки та друкарських машинах, являються особливо придатними. Переважні струменеві засоби друку включають струменеві засоби друку з одним соплом безперервної дії (також називаємі растровими або засобами друку багаторівневого засвічення) та краплинно-імпульсні 9 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 струменеві засоби друку, зокрема клапанні засоби друку. Товщина нанесеної композиціїпопередника буде складати, як правило, від приблизно 3 до приблизно 20 мкм, наприклад, від приблизно 5 до приблизно 15 мкм. [0056] Зокрема,якщо композицію-попередник наносять шляхом технологій друку, визначених вище, наприклад, струменевим друком, композиція буде включати, як правило, розчинник для коригування її в'язкості до значень, які придатні для задіяної технології нанесення (друку). Типові значення в'язкості для фарб струменевого друку знаходяться в діапазоні від приблизно 4 до приблизно 30 мПа·с при 25 °C. Придатні розчинники відомі фахівцям у даній галузі. Необмежуючі приклади таких включають розчинники низької в'язкості, слабо полярні та апротонні органічні розчинники, такі як, наприклад, метилетилкетон (MEK), ацетон, етилацетат, етил - 3-етоксипропіонат, толуол та суміші двох або більше з них. [0057] Додатково, зокрема, якщо композицію-попередник потрібно наносити шляхом безперервного струменевого друку, композиція-попередник для застосування в дійсному винаході, як правило, також буде включати щонайменше один електропровідний засіб (наприклад, сіль). Електропровідний засіб буде мати значну розчинність в композиції. Необмежуючі приклади придатних електропровідних засобів включають солі, такі як, наприклад, солі тетраалкіламонію (наприклад, тетрабутиламонію нітрат, тетрабутиламонію перхлорат та тетрабутиламонію гексафторфосфат), тіоцианати лужних металів, такі як тіоцианат калію, та перхлорати лужних металів, такі як літію перхлорат. Електропровідний засіб буде присутній в достатній концентрації, щоб забезпечити електропровідність, яка є необхідною або бажаною. Звичайно, можна застосовувати суміші двох або більше різних електропровідних засобів (солей). [0058] Якщо хіральна рідкокристалічна композиція-попередник для застосування в дійсному винаході має тверднути/полімеризуватися під дією УФ-випромінювання, композиція також буде включати щонайменше один фотоініціатор, який демонструє значну розчинність в композиції. Необмежуючі приклади багатьох придатних фотоініціаторів включають α-гідроксикетони, такі як 1-гідроксі-циклогексил-феніл-кетон та суміш (наприклад, приблизно 1:1) 1-гідроксі-циклогексилфеніл-кетону та одного або декількох з бензофенону, 2-гідроксі-2-метил-1-феніл-1-пропанону та 2-гідроксі-1-[4-(2-гідроксіетоксі)феніл]-2-метил-1-пропанону; фенілгліоксилати, такі як метилбензоїлформіат та суміш складного 2-[2-оксо-2-феніл-ацетоксі-етоксі]-етилового ефіру оксі-феніл-оцтової кислоти та складного 2-[2-гідроксі-етоксі]-етилового ефіру оксі-феніл-оцтової кислоти; бензилдиметилові кеталі, такі як альфа, альфа-диметоксі-альфа-фенілацетофенон; αамінокетони, такі як 2-бензил-2-(диметиламіно)-1-[4-(4-морфолініл)феніл]-1-бутaнон та 2-метил1-[4-(метилтіо)феніл]-2-(4-морфолініл)-1-пропанон; оксид фосфіну та похідні оксиду фосфіну, такі як оксид дифеніл(2,4,6-триметилбензоїл)-фосфіну; фенілбіс(2,4,6- триметилбензоїл), що постачаються Ciba; а також тіоксантонові похідні, такі як Speedcure ITX (CAS 14277О-42-1), Speedcure DETX (CAS 82799-44-8), Speedcure CPTX (CAS 5495-84-1-2 або CAS 83846-86-0), що постачаються Lambson. [0059] Якщо композиція-попередник має тверднути способом, який відрізняється від опромінювання УФ-світлом, таким як, наприклад, за допомогою високоенергійних частинок (наприклад, електронних пучків), рентгенівських променів, гама-променів і т. д., можна звичайно ж обійтися без застосування фотоініціатора. [0060] Хіральна рідкокристалічна композиція-попередник для застосування в дійсному винаході може також включати різновиди інших факультативних компонентів, які придатні та/або бажані для досягнення особливо бажаної властивості композиції та, загалом, можуть включати будь-які компоненти/речовини, які значною мірою не мають негативного впливу на бажану властивість композиції-попередника. Необмежуючі приклади таких факультативних компонентів представляють собою смоли, силанові сполуки, сенсибілізатори для фотоініціаторів (якщо присутні) і т. д. Наприклад, композиція може включати одну або декілька силанових сполук, які демонструють значну розчинність в композиції. Необмежуючі приклади придатних силанових сполук включають факультативно силани, здатні полімеризуватися, з формулою R1R2R3-Si-R4, де R1, R2 та R3 незалежно один від одного представляють собою алкоксі та алкоксіалкоксі, що мають загалом від 1 до приблизно 6 атомів вуглецю, а R 4 представляє собою вініл, аліл, (C1-10)алкіл, (мет)акрилоксі(C1-6)алкіл та гліцидилоксі(C1-6)алкіл, такий як, наприклад, вінілтриетоксисилан, вінілтриметоксисилан, вінілтрис(2метоксіетоксі)силан, 3-метакрилоксипропіл-триметоксисилан, октилтри-етоксисилан та 3® гліцидилоксипропілтриетоксисилан з сімейства Dynasylan , надані Evonik. [0061] Концентрація однієї або декількох силанових сполук в композиції-попереднику, якщо присутні, буде складати, як правило, від приблизно 0,5 % до приблизно 5 % за вагою від загальної ваги композиції. 10 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 [0062] Після нанесення (наприклад, осадження) хіральної рідкокристалічної композиціїпопередника за дійсним винаходом на підкладку композиція-попередник переходить до хірального рідкокристалічного стану, що має особливі оптичні властивості. Для цього хіральну рідкокристалічну композицію-попередник нагрівають, розчинник, який міститься в композиції, якщо присутній, випаровується та відбувається перехід у бажаний хіральний рідкокристалічний стан. Температура, яку застосовували для випаровування розчинника та стимуляції утворення рідкокристалічного стану, залежить від компонентів хіральної рідкокристалічної композиціїпопередника та в багатьох випадках буде знаходитись в діапазоні від приблизно 55 °C до приблизно 150 °C, наприклад, від приблизно 55 °C до приблизно 100 °C, переважно від приблизно 60 °C до приблизно 100 °C. Приклади придатних нагрівальних джерел включають традиційні нагрівальні засоби та, зокрема, джерела випромінювання, такі як, наприклад, інфрачервона лампа. Час нагрівання, який необхідний, залежить від декількох факторів, таких як, наприклад, компоненти композиції-попередника, тип нагрівального пристрою та інтенсивність нагрівання (виробіток енергії нагрівального пристрою). В багатьох випадках буде достатньо, щоб час нагрівання складав від приблизно 1 секунди до приблизно 30 секунд, як, наприклад, не більше ніж приблизно 20 секунд, не більше ніж приблизно 10 секунд або не більше ніж приблизно 5 секунд. [0063] Вираз ''специфічні оптичні властивості" варто розуміти як рідкокристалічний стан з конкретним кроком спіралі, що відбиває конкретний діапазон довжини хвиль. Перевагою композиції-попередника, яка містить хіральну легувальну сполуку згідно формули (I) та пов'язаних формул, є здатність після нагрівання (та випаровування розчинника) швидко утворювати стійкий рідкокристалічний стан. На відміну від цього, рідкокристалічні стани, які отримують після нагрівання та випаровування розчинника, з композиціями-попередниками даного рівня техніки (дивись, наприклад, EP 1299375, EP 1669431 та EP 1339812, повні розкриття яких включені посиланнями в даному документі) дуже часто можуть легко зруйнуватися під дією незначних змін температури. Отже, щоб підтримувати стабільність рідкокристалічного стану, необхідно в останньому випадку заморозити або зафіксувати рідкокристалічний стан за допомоги щонайменше процесу часткового тверднення або полімеризації. Як згадувалося раніше, при заморожуванні або фіксуванні рідкокристалічного стану створення коду або маркування у маркуванні ускладнюється. На відміну від цього в процесі здійснення маркування за дійсним винаходом тверднення/полімеризацію компонентів композицій-попередників не виконують перед етапом (v). Іншими словами процес тверднення/полімеризації виконують тільки після того, як хіральний рідкокристалічний стан композиції локально модифікували хіральною легувальною композицією. [0064] Після нанесення першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника та утворення першого хірального рідкокристалічного стану (який може бути у формі, наприклад, шару, узору або плівки) (щонайменше одну) модифікуючу композицію наносять на одну або декілька зон нанесеної композиції в першому хіральному рідкокристалічному стані. Модифікуюча композиція здатна змінювати перший хіральний рідкокристалічний стан (факультативно при нагріванні, в залежності від типу модифікуючої композиції). Модифікуючу композицію можна наносити, поки хіральна рідкокристалічна композиція-попередник все ще знаходиться в нагрітому стані (наприклад, відразу після завершення операції нагрівання), або можна нанести після того, як хіральна рідкокристалічна композиція-попередник охолоне принаймні до певної міри (наприклад, являється практично кімнатної температури). За необхідністю охолодження композиції-попередника можна прискорити засобами, відомими фахівцям у даній галузі, такими як, наприклад, обдуванням навколишнім повітрям попередньо нагрітої композиції. Нанесення модифікуючої композиції на композицію-попередник в охолодженому стані може покращити розрізнення маркування. З іншого боку може бути необхідним нанесення модифікуючої композиції відразу після завершення операції нагрівання, якщо весь процес здійснення маркування потрібно провести якоможна простим та швидким способом. [0065] Модифікуюча композиція для застосування в даному винаході не буде значною мірою (і переважно зовсім ні) видаляти будь-які зі сполук, які утворюють хіральний рідкокристалічний стан, а також не буде модифікувати хімічні структури цих сполук. Не бажаючи пов'язуватися будь-якою теорією, припускають, що модифікуюча композиція буде ініціювати часткову та регульовану реорганізацію рідкокристалічного стану. У зв'язку з цим варто зазначити, що спосіб даного винаходу є швидким та легким для здійснення в промислових масштабах та не потребує складних засобів. [0066] В маркуванні за даним винаходом модифікуюча композиція, яка залежить від її природи, буде, як правило, модифікувати перший хіральний рідкокристалічний стан від 11 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 (переважно або по суті) анізотропного стану, що відрізняється специфічними оптичними властивостями, до: (i) (переважно або по суті) ізотропного рідкокристалічного стану, де властивості зміни кольору рідкокристалічного стану по суті відсутні та/або більше не виявляються неозброєним оком, або (ii) другого хірального рідкокристалічного стану щонайменше з однією оптичною властивістю, яка відрізняється від відповідної оптичної властивості першого хірального рідкокристалічного стану. [0067] Модифікуюча композиція може, наприклад, представляти собою або включати модифікуючий засіб. Модифікуючий засіб, як правило, буде включати одну або декілька апротонних органічних сполук, які є рідкими при кімнатній температурі та переважно мають відносно високий дипольний момент та відносно високу діелектричну проникність. Необмежуючі приклади таких охоплюють кетони, що мають від 3 до 6 атомів вуглецю, алкілові складні ефіри та діалкіламіди карбонових кислот, що включають всього від 2 до приблизно 6 атомів вуглецю, діалкілсульфоксиди, що включають всього від 2 до приблизно 4 атомів вуглецю та факультативно заміщений (наприклад, алкілзаміщений) нітробензол, такі як, наприклад, диметилкетон, метилетилкетон, етилацетат, диметилформамід, диметилсульфоксид, нітробензол, нітротолуол та суміші двох або більше з них. Переважні сполуки для застосування в модифікуючому засобі охоплюють ацетон, метилетилкетон та етилацетат. [0068] Модифікуючий засіб для застосування в даному винаході може також включати одну або декілька смол для корегування його в'язкості. Звичайно, смола(и) мають бути сумісні із технологією нанесення (наприклад, друком), яку задіяли. Необмежуючі приклади смол, які можуть бути придатними в залежності від окремих обставин, охоплюють поліефірні смоли, такі як, наприклад, DYNAPOL® L 1203, L 205, L 206, L 208, L 210, L 411, L 651, L658, L 850, L 912, L 952, LH 530, LH 538, LH 727, LH 744, LH 773, LH 775, LH 818, LH 820, LH 822, LH 912, LH 952, LH 530, LH 538, LH 727, LH 744, LH 773, LH 775, LH 818, LH 820, LH 822, LH 823, LH 826, LH 828, LH 830, LH 831, LH 832, LH 833, LH 838, LH898, LH 908, LS 436, LS 615, P 1500, S 1218, S1227, S 1247, S 1249, S 1252, S 1272, S 1401, S 1402, S 1426, S 1450, S 1510, S 1606, S1611, S243, S320, S341, S361, S394 та S EP1408 від Evonik. Інші придатні смоли, відомі фахівцям в даній галузі, можна також застосовувати. В переважному варіанті здійснення одна або декілька смол вибирають з DYNAPOL® L 1203, L 205, L 206, L 208, L 210, L 411, L 651, L658, L 850, L 912, L 952, LH 530, LH 538, LH 727, LH 744 від Evonik. Типовий діапазон концентрацій для однієї або декількох смол складає від приблизно 3 % до приблизно 15 % за вагою від загальної ваги модифікуючого засобу. [0069] Модифікуючий засіб може також включати один або декілька електропровідних засобів, таких як, наприклад, солі, які мають надати достатню електропровідність модифікуючому засобу, щоб дозволити застосовувати його в комбінації з засобом друку, таким як, наприклад, безперервний струменевий засіб друку. Приклади придатних електропровідних засобів включають ті, які визначаються вище як приклади електропровідних засобів для застосування в композиції-попереднику даного винаходу, такі як, наприклад, тетрабутиламонію нітрат, тетрабутиламонію перхлорат, тетрабутиламонію гексафторфосфат, калію тіоцианат, літію перхлорат та інші електропровідні засоби, відомі в даній галузі. [0070] Коли модифікуючий засіб включає розчинник або розчинну суміш, після випаровування розчинника перший хіральний рідкокристалічний стан буде локально (в одній або декількох зонах) переключатися від (переважно або по суті) анізотропного стану до (переважно або по суті) ізотропного стану. [0071] В іншому варіанті здійснення даного винаходу модифікуюча композиція може представляти собою або включати другу хіральну рідкокристалічну композицію-попередник. Друга хіральна рідкокристалічна композиція-попередник, яку наносять в одну або декілька ділянок на першій хіральній рідкій композиції-попереднику в першому хіральному рідкокристалічному стані, може бути такою ж або відрізнятися від першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника. Надалі, все, що сформульовано вище відносно першої хіральної рідкої композиції-попередника (наприклад, компоненти, способи нанесення і т. д.) застосовують однаково та без виключення також щодо другої хіральної рідкої композиціїпопередника. Наприклад, як і у випадку першої хіральної рідкокристалічної композиціїпопередника одна або декілька хіральних легувальних сполук B, як правило, будуть присутні в другій хіральній рідкіокристалічній композиції-попереднику в загальній концентрації від приблизно 0,1 % до приблизно 30 % за вагою, наприклад, від приблизно 0,1 % до приблизно25 % або від приблизно 0,1 % до приблизно 20 % за вагою від загальної ваги другої композиції. Також одна або декілька нематичних сполук A часто будуть присутні в другій 12 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 хіральній рідкокристалічній композиції-попереднику в концентрації від приблизно 30 % до приблизно 50 % за вагою від загальної ваги другої композиції-попередника. [0072] Якщо друга хіральна рідкокристалічна композиція-попередник відрізняється від першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника, одна або декілька відмінностей можуть стосуватися, наприклад, однієї або декількох сполук A та B, які присутні в цих композиціях, та/або концентрацій однієї або декількох з цих сполук. Наприклад, деяка або єдина відмінність між цими композиціями може бути в тому, що одна або декілька (або всі) хіральних легувальних сполук B присутні в другій композиції в концентрації/концентраціях, що відрізняється/відрізняються від відповідної концентрації/концентрацій в першій композиції. Додатково, деяка або єдина відмінність між першою та другою композиціями може бути в тому, що одна або декілька хіральних легувальних сполук B в першій композиції мають формулу (I), наведену вище, та/або пов'язані формули, та щонайменше одна з однієї або декількох хіральних легувальних сполук B в другій композиції відрізняється від формули (I) та/або пов'язаних формул. Наприклад, щонайменше одна з однієї або декількох хіральних легувальних сполук B в другій композиції може бути похідним ізосорбіду або ізоманіду, як описано, наприклад, в EP-B-0847432, GB-A-2330139 та патенті США № 6589445, повні розкриття яких включені посиланням у даному документі. [0073] Після нанесення (наприклад, осадження) другої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника на одну або декілька ділянок першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника в першому хіральному рідкокристалічному стані, що має перші специфічні оптичні властивості, другу композицію-попередник приводять до другого хірального рідкокристалічного стану, що має другі специфічні оптичні властивості. Для цього щонайменше частину однієї або декількох ділянок, на які була нанесена друга хіральна рідкокристалічна композиція-попередник, нагрівають, розчинник, що міститься в композиції, якщо присутній, випаровується та відбувається перехід у бажаний другий хіральний рідкокристалічний стан. Температура, застосовувана для випаровування розчинника та для стимулювання утворення другого рідкокристалічного стану, залежить від компонентів другої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника та в більшості випадків буде знаходитись в діапазоні від приблизно 55 °C до приблизно 150 °C, наприклад, від приблизно 55 °C до приблизно 100 °C, переважно від приблизно 60 °C до приблизно 100 °C. Приклади придатних нагрівальних джерел включають традиційні нагрівальні засоби та зокрема, джерела випромінювання, такі як, наприклад, інфрачервона лампа. [0074] Варто зазначити, що у випадку застосування другої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника в якості модифікуючої композиції маркування за даним винаходом не ідентичне або співставне з простою суперпозицією двох хіральних нематичних рідкокристалічних шарів У цьому полягає суттєва відмінність та велика перевага щодо дійсного рівня техніки. Зокрема, коли першу хіральну рідкокристалічну композицію-попередник осаджують на підкладку та приводять до першого хірального рідкокристалічного стану, цей стан відрізняється кроком спіралі p1. Таким же чином, коли другу хіральну рідкокристалічну композицію-попередник осаджують на одну або декілька ділянок нанесеної першої композиції і приводять до другого хірального рідкокристалічного стану, другий стан відрізняється кроком спіралі p2 (який може бути таким же або відрізнятися від p1). У зв'язку з цим підкреслюється, що продукт, який отримують після етапу (iv), і додатково стверднений/полімеризований на етапі (v) процесу дійсного винаходу, не представляє собою суміщення першого хірального рідкокристалічного стану, що має крок спіралі p1, та другого хірального рідкокристалічного стану, що має крок спіралі p2. Швидше за все, ділянка, що несе другу хіральну рідкокристалічну композицію-попередник, після приведення до другого хірального рідкокристалічного стану, має крок спіралі p2', який відрізняється від p1 та p2, але певною мірою залежить від природи p1. Не бажаючи пов'язуватися з будь-якою теорією, припускають, що перший хіральний рідкокристалічний стан впливає на утворення другого хірального рідкокристалічного стану. Індукція першого хірального рідкокристалічного стану на другу хіральну рідкокристалічну композицію-попередник прискорить та стимулює другий хіральний рідкокристалічний стан, який відрізняється від хірального рідкокристалічного стану, що можна спрогнозувати виключно на основі лише другої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника. У цьому полягає суттєва відмінність і велика перевага щодо дійсного рівня техніки, що розкриває просте суміщення двох різних шарів двох різних хіральних рідкокристалічних станів в якості маркування або кодування. [0075] Маркування за дійсним винаходом контролюють за першою хіральною рідкокристалічною композицією-попередником, яка відома тільки виробнику маркування. З різних перших хіральних рідкокристалічних композицій-попередників можна утворити велику 13 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 кількість конкретних маркувань та кодувань та зберегти їх в конкретній базі даних, яка включає всі отримані маркування або кодування. Не бажаючи пов'язуватися будь-якою теорією, припускають, що друга композиція-попередник буде ініціювати часткову та контрольовану реорганізацію першого хірального рідкокристалічного стану. Додатково варто зазначити, що спосіб дійсного винаходу є швидким та легким для здійснення в промислових масштабах та не потребує складних засобів. [0076] Іще в одному варіанті здійснення даного винаходу модифікуюча композиція може представляти собою або включати хіральну легувальну композицію. Хіральна легувальна композиція переважно включає одну або декілька (наприклад, одну, дві, три або чотири) хіральних легувальних сполук C формули (I), як визначено вище, та/або пов'язаних формул. В більш переважному варіанті здійснення хіральна легувальна композиція включає щонайменше одну хіральну легувальну сполуку C і щонайменше одну іншу хіральну легуючу домішку D, яка відрізняється від сполуки з формулою (I) та пов'язаних формул. Щонайменше одну хіральну легувальну сполуку D можна вибрати, наприклад, з похідних ізосорбідів та ізоманідів, які розкриті, наприклад, EP-B-0 847 432, патенті Великобританії GB-A-2330139 та патенті США № 6589445, повні розкриття яких включені як посилання в даному документі. [0077] В якості хіральних легувальних сполук С, які переважно присутні в хіральній легувальній композиції, можна, наприклад, застосовувати хіральні легувальні сполуки В, які визначені вище. Відповідно, все, що визначено вище відносно сполук B, застосовують однаково та без виключення також щодо сполук C. Також варто зазначити, що одна (або єдина) хіральна легувальна сполука C, яка присутня в хіральній легувальній композиції, може бути ідентичною одній (або єдиній) хіральній легувальній сполуці B, яка присутня в хіральній рідкокристалічній композиції-попереднику. [0078] Хіральна легувальна композиція буде, як правило, включати одну або декілька хіральних легувальних сполук в загальній концентрації від приблизно 0,1 % до приблизно 30 % за вагою, наприклад, від приблизно 0,1 % до приблизно 25 % або від приблизно 0,1 % до приблизно 20 % за вагою від загальної ваги композиції. Часто загальна концентрація буде складати від 3 % до 10 % за вагою, наприклад, від 5 % до 8 % за вагою від загальної ваги композиції-попередника. [0079] Зокрема, якщо хіральну легувальну композицію наносять шляхом технологій друку, визначених вище, наприклад, струменевим друком, композиція буде включати, як правило, розчинник для корегування її в'язкості до значення, яке придатне для задіяної технології нанесення (друку). Типові значення в'язкості для чорнил струменевого друку знаходяться в діапазоні від приблизно 4 до приблизно 30 мПа·с при 25 °C. Придатні розчинники відомі фахівцям у даній галузі техніки. необмежуючі приклади таких включають розчинники низької в'язкості, слабо полярні та апротонні органічні, такі як, наприклад, метилетилкетон (MEK), ацетон, етилацетат, етил-3-етоксипропіонат, толуол та суміші двох або більше з них. Інші придатні компоненти, необхідні для технологій друку, що застосовували в контексті даного винаходу, також можуть бути присутні (смоли, солі і т. д.) та відомі фахівцям в даній галузі. Наприклад, хіральна легувальна композиція може включати один або декілька електропровідних засобів, таких як, наприклад, солей, які мають надати достатню електропровідність хіральній легувальній композиції, щоб дозволити застосовувати її в комбінації з засобом друку, таким як, наприклад, безперервним струменевим засобом друку. Приклади придатних електропровідних засобів включають ті, які визначаються вище як приклади електропровідних засобів для застосування в композиції - попереднику даного винаходу, такі як, наприклад, тетрабутиламонію нітрат, тетрабутиламонію перхлорат, тетрабутиламонію гексафторфосфат, калію тіоцианат, літію перхлорат та інші електропровідні засоби, відомі в даній галузі. [0080] Після нанесення хіральної легувальної композиції на одну або декілька ділянок хіральної рідкокристалічної композиції-попередника в першому хіральному рідкокристалічному стані, що має перші специфічні оптичні властивості, щонайменше одну з однієї або декількох ділянок приводять до другого хірального рідкокристалічного стану, що має другі специфічні оптичні властивості. Для цього щонайменше частину однієї або декількох ділянок, на яку нанесли хіральну легувальну композицію, нагрівають, розчинник, що міститься в композиції, якщо присутній, випаровується і відбувається стимуляція бажаного другого хірального рідкокристалічного стану. Температура, яку застосовували для випаровування розчинника та для стимулювання утворення другого рідкокристалічного стану, залежить, наприклад, від компонентів хіральної легувальної композиції та в більшості випадків буде знаходитись в діапазоні від приблизно 55 °C до приблизно 150 °C, наприклад, від приблизно 55 °C до приблизно 100 °C, переважно від приблизно 60 °C до приблизно 100 °C. Приклади придатних 14 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 нагрівальних джерел охоплюють звичайні нагрівальні засоби та, зокрема, джерела випромінювання, такі як, наприклад, інфрачервона лампа [0081] В маркуванні за дійсним винаходом осадження модифікуючої композиції виконують на одній або декількох зонах хіральної рідкокристалічної композиції-попередника в рідкокристалічному стані переважно за допомогою технології друку та, зокрема, технології, вибраної з безперервного струменевого друку, краплинно-імпульсного струменевого друку, клапанного друку та покриття напиленням. Перевагою, зокрема у порівнянні з даним рівнем техніки із застосуванням лазерів або екстракційних реагентів на полімеризованих або частково полімеризованих рідких кристалах, є швидкість та легкість утворення маркування, яке створюють практично в реальному часі. Іншою перевагою застосування вищезгаданих технологій друку є чіткість та стійкість створеного маркування в хіральному рідкокристалічному стані. Іншою перевагою застосування цієї технології друку є майже необмежені можливості маркування, яке можна створювати та змінювати практично в реальному часі. В переважному варіанті здійснення для нанесення модифікуючої композиції застосовують технології струменевого друку. Особливо придатними є промислові струменеві засоби друку, які зазвичай застосовують для нанесення нумерації, та кодування, та маркування на лініях післядрукарської обробки та друкарських машинах. Переважні струменеві засоби друку представляють собою струменеві засоби друку з одним соплом безперервної дії (також називаємі растровими або засобами друку багаторівневого засвічення) та краплинно-імпульсні струменеві засоби друку, зокрема клапанні засоби друку. [0082] З метою удосконалити розрізнення нанесеного маркування часто буде ефективним, якщо відразу після нанесення модифікуючої композиції на одну або декілька зон нанесеної хіральної рідкокристалічної композиції-попередника пустити потік повітря над поверхнею композиції-попередника, переважно (практично) паралельно їй. Потік повітря можна утворити будь-якими засобами, наприклад, за допомогою (промислової) повітряної сушарки. Потік повітря переважно не буде інтенсивним та/або високої швидкості. Температура повітря буде, як правило, оточуючого середовища (наприклад, приблизно 20 °C), але може бути дещо нижчою або вищою, наприклад, до приблизно 60 °C, до приблизно 40 °C або до приблизно 30 °C. Вираз "відразу після нанесення модифікуючої композиції " мають на увазі як такий, що позначає без затримки, наприклад, протягом періоду не довше ніж приблизно 10 секунд, наприклад, не довше ніж приблизно 5 секунд, не довше ніж приблизно 3 секунди, не довше ніж приблизно 2 секунди або не довше ніж приблизно 1 секунда після завершення нанесення модифікуючої композиції. [0083] Ділянка нанесеної (першої) композиції-попередника, на яку наносять модифікуючу композицію, як правило, буде складати від приблизно 0,1 % до приблизно 99,9 % загальної ділянки нанесеної композиції-попередника. Ділянка найчастіше буде складати щонайменше приблизно 1 %, наприклад, щонайменше приблизно 5 % або щонайменше приблизно 10 % та не більше ніж приблизно 99 %, наприклад, не більше ніж приблизно 95 % або не більше ніж приблизно 90 % загальної ділянки нанесеної першої композиції-попередника. [0084] Маркування за дійсним винаходом може бути в формі зображення, картинки, логотипа, знаку та/або узору, що відображає (1-вимірний, 2-вимірний, 3-вимірний) код, такий як, наприклад, 1-вимірний штрих-код, складений 1-вимірний штрих-код, 2-вимірний штрих-код, 3вимірний штрих-код та/або матрицю даних. Приклад відповідного маркування представлений Фігурою 2. [0085] Звичайно, можна застосувати більше ніж одну модифікуючу композицію (наприклад, дві, три або декілька різних модифікуючих композицій) та нанести їх одночасно та/або послідовно на нанесену (першу) композицію-попередник (наприклад, в різні зони нанесеної першої композиції-попередника). Просто в якості прикладу різні модифікуючі композиції можуть включати дві різні хіральні легувальні композиції або вони можуть включати хіральну легувальну композицію та модифікуючий засіб та другу хіральну рідкокристалічну композиціюпопередник, або вони можуть включати дві різні другі хіральні рідкокристалічні композиціїпопередники та модифікуючий засіб, або вони можуть включати (щонайменше один) модифікуючий засіб, (щонайменше одну) другу хіральну рідкокристалічну композиціюпопередник та (щонайменше одну) хіральну легувальну композицію і т. д. Також можна, наприклад, нанести першу модифікуючу композицію та після цього нанести відмінну другу модифікуючу композицію щонайменше в частину зони (зон), в яку нанесли першу модифікуючу композицію першочергового нанесення (і факультативно також в одну або декілька зон, куди першу модифікуючу композицію не нанесли). У зв'язку з цим також варто враховувати, що особливо у випадках, де задіяні як модифікуючий засіб, так і друга хіральна рідкокристалічна композиція-попередник та/або хіральна легувальна композиція, з огляду на зручність може бути 15 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 бажаним здійснювати нагрівання етапу (iv) (що не є обов'язковим для модифікуючої композиції, яка модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках так, як модифікуючий засіб) також у випадку модифікуючого засобу. Іншими словами, тоді як це не обов'язково, можна (знову) нагріти композицію-попередник після нанесення модифікуючого засобу (та, необов'язково, пустити повітря над поверхнею композиціїпопередника), щоб також модифікувати хіральний рідкокристалічний стан та/або вилучити будьякий залишковий розчинник, який був присутній в модифікуючому засобі. Проте, у більшості випадків (додаткова) операція нагрівання після нанесення модифікуючого засобу не призводить до будь-яких значних додаткових переваг. Якщо ж її задіяли, температура, яку застосовували для цієї (необов'язкової) операції нагрівання в більшості випадків буде знаходитись в діапазоні від приблизно 55 °C до приблизно 150 °C, наприклад, від приблизно 55 °C до приблизно 100 °C або від приблизно 60 °C до приблизно 100 °C. Приклади придатних нагрівальних джерел охоплюють звичайні нагрівальні засоби та зокрема, джерела випромінювання, такі як, наприклад, інфрачервона лампа. [0086] Зокрема, якщо задіяні дві або більше різних модифікуючих композицій, процес друку можна здійснювати за допомогою системи з багатьма головками (наприклад, з двома, трьома, чотирма, п'ятьма та більше головками), в якій кожна головка містить відмінну модифікуючу композицію. Перевага такої компоновки полягає в тому, що під час процесу друку можна послідовно отримати різні модифікації першого хірального рідкокристалічного стану і відповідно велику кількість унікальних маркувань. За допомогою системи з багатьма головками також можна отримати різні зони з різними оптичними властивостями на одному і тому ж маркуванні, яке становить саме по собі унікальне маркування (особливо, якщо воно перебуває у вигляді матриці даних). Приклади таких матриць даних з різноманітними багатокольоровими матрицями даних описані, наприклад, в міжнародних заявках WO 2008/127950 та WO 01/24106, повні розкриття яких включені шляхом посилань в даному документі. [0087] З метою посилити безпеку маркування за дійсним винаходом модифікуюча композиція може додатково включати один або декілька пігментів та/або барвників, які поглинають в видимій або невидимій зоні електромагнітного спектра та/або можуть також включати один або декілька пігментів та/або барвників, які є люмінесцентними. Необмежуючі приклади придатних пігментів та/або барвників, які поглинають в видимій або невидимій зоні електромагнітного спектра, охоплюють похідні фталоціаніну. Необмежуючі приклади придатних люмінесцентних пігментів та/або барвників охоплюють похідні лантаніду. Присутність пігменту(ів) та/або барвника(ів) удосконалить та зміцнить безпеку маркування від підробки. Звичайно, окрім компонентів, обговорених вище, модифікуюча композиція для застосування в дійсному винаході може включати будь-які інші компоненти/речовини, які значною мірою не мають негативного впливу на необхідні властивості модифікуючої композиції. [0088] Маркування за дійсним винаходом в результаті отримують шляхом тверднення та/або полімеризації композиції в першому хіральному рідкокристалічному стані, яка була локально модифікована (в одній або декількох зонах) шляхом нанесення модифікуючої композиції. Фіксацію або закріплення переважно виконують опромінюванням ультрафіолетовим світлом, що викликає полімеризацію груп, здатних полімеризуватися, присутніх в композиції-попереднику (та факультативно в модифікуючій композиції)… На відміну від даного рівня техніки, визначеного вище, маркування за дійсним винаходом легко здійснюється в промислових масштабах та є надійним. [0089] Інша перевага маркування за дійсним винаходом полягає в тому, що звичайні випадкові зміни, невід'ємно присутні в процесі друку за дійсним винаходом, можна застосовувати як унікальний ідентифікатор ("сигнатура"), який практично неможливо відтворити. У зв'язку з цим варто враховувати, що навіть без нанесення модифікуючої композиції затвердла та/або полімеризована композиція-попередник в хіральному рідкокристалічному стані представляє собою маркування. Іншими словами, модифікуюча композиція служить для того, щоб утворити "маркування в/на маркуванні". [0090] Маркування за дійсним винаходом може бути включене, наприклад, в деталь захисту, деталь автентичності, деталь ідентифікації або деталь стеження та спостереження. Прикладом деталі захисту є відкрита деталь з 3D-ефектом. [0091] Наведені нижче приклади призначені для ілюстрації дійсного винаходу, не обмежуючи його. ПРИКЛАД [0092] Маркування за дійсним винаходом отримують наступним чином: (1) Отримання першої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника [0093] Хіральну рідкокристалічну композицію-попередник (1) отримали наступним чином: 16 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Хіральну легувальну сполуку B з формулою (I), вказаною вище, тобто, (3R, 3aR, 6R, 6aR)гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(4-(акрилoїлоксі)-3-метоксибензоїлоксі)-3-метоксібензоат) (7,5 г), нематичну сполуку A1, тобто бензойну кислоту, складний ефір 4-[[[4-[(1-оксо-2пропен-1-їл)оксі]бутоксі]карбоніл]оксі]-1,1’-(2-метил-1,4-фенілен)у (22,0 г), нематичну сполуку A2, тобто, 2-метил-1,4-фенілен-біс(4-(4-(акрилоїлоксі)бутоксі)-бензоат) (14,0 г) та ацетон (49,9 г) зважили в колбу з кришкою, що загвинчується, яку після цього нагріли в печі до отримання коричневого розчину. До суміші потім додали тетрабутиламонію перхлорат (0,6 г), літію ® перхлорат (0,3 г), 2-метил-1[4-(метилтіо)феніл]-2-морфолінопропан-1-он (Irgacure 907 від Ciba, 1,3 г), 2,4-діетил-тіоксантен-9-он (0,7 г) та вінілтриетоксисилан (3,7 г). Кінцеву суміш потім перемішували або струшували до досягнення повного розчинення з отриманням в результаті хіральної рідкокристалічної композиції-попередника (1). [0094] Хіральну рідкокристалічну композицію-попередник (2) отримали наступним чином: Хіральну легувальну сполуку B з формулою (1), вказаною вище, тобто, (3R, 3aR, 6R, 6aR)-6(4-(4-(акрилоїлоксі)-3-метоксибензоїлоксі)-3-метоксибензоїлоксі)гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3їлу 4-(4-(акрилоїлоксі)бензоїлоксі)-3-метоксибензоат (9,0 г), нематичну сполуку A1, тобто, бензойну кислоту, складний ефір 4-[[[4-[(1-оксо-2-пропен-1-їл)оксі]бутоксі]карбоніл]оксі]-1,1’-(2метил-1,4-фенілен)у (16,0 г), нематичну сполуку A2, тобто, 2-метил-3,4-фенілен біс(4-(4(акрилоїлоксі)бутоксі)-бензоат) (20,0 г) та метилетилкетон (48,0 г) зважили в колбу з кришкою, що загвинчується, яку після цього нагріли в печі до отримання коричневого розчину. До суміші потім додали тетрабутиламонію перхлорат (0,5 г), літію перхлорат (0,6 г), 2-метил-1[4(метилтіо)феніл]-2-морфолінопропан-1-он (Irгacure 907® від Ciba, 1,2 г), 2-ізопропіл-тіоксантен9-он (0,7 г) та вінілтриетоксисилан (4,0 г). Кінцеву суміш потім перемішували або струшували до досягнення повного розчинення з отриманням в результаті хіральної рідкокристалічної композиції-попередника (2). (2) Осадження хіральної рідкокристалічної композиції-попередника на підкладку [0095] Хіральну рідкокристалічну композицію-попередник (1) або (2) потім застосовували, щоб надрукувати простий узор шляхом безперервного струменевого друку на паперовій підкладці з темним тлом. (3) Приведення композиції-попередника до хірального рідкокристалічного стану [0096] (Перший) хіральний рідкокристалічний стан отримали з простого узору шляхом експозиції під інфрачервоною лампою протягом приблизно від 1 до 5 секунд (в залежності від підкладки). (4) Нанесення модифікуючої композиції на одну або декілька зон вказаної композиції в першому рідкокристалічному стані [0097] Маркування або ескіз потім надрукували поверх отриманого узору за допомогою безперервного струменевого засобу друку з багатьма головками (трьома головками). Друк здійснювали послідовно трьома розчинами, тобто (a), (b) і (c): (a) розчином (в крапельній формі) смоли (від 5 до 15 % за вагою) та літію перхлорату (0,6 % за вагою) в метилетилкетоні або ацетоні; цей розчин призвів до ізотропного стану в ділянках нанесення; (b) чорнилом для струменевого друку, яке ідентичне попередньо нанесеній хіральній рідкокристалічній композиції-попереднику; (c) чорнилом для струменевого друку, яке було або розчином (в крапельній формі) (3R, 3aR, 6R, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл біс(4-(4-(акрилoїлокси)-3-метоксибензоїлокси)-3метокси-бензоату) (від 5 до 20 % за вагою) та літію перхлорату (0,6 % за вагою) в метилетилкетоні, або розчином (в крапельній формі) (3R, 3aR, 6R, 6aR)-6-(4-(4-(акрилоїлокси)3-метоксибензоїлокси)-3-метоксибензоїлокси)гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3-їл-4-(4(акрилоїлокси)бензоїлокси)-3-метоксибензоату (від 5 до 20 % за вагою) та літію перхлорату (0,6 % за вагою) в ацетоні. Протягом приблизно 1 секунди після завершення кожної операції потік повітря пускали паралельно надрукованій поверхні. (5) Приведення отриманого кінцевого продукту до хірального рідкокристалічного стану (у випадку чорнил для струменевого друку (b) і (c)) [0098] Модифікований хіральний рідкокристалічний стан в ділянках нанесення отримали шляхом експозиції кінцевого продукту, включаючи маркування під інфрачервоною лампою протягом приблизно від 1 до 5 секунд (в залежності від підкладки). Це локально призвело до нового анізотропного стану, що відрізнявся від першого хірального рідкокристалічного стану. (6) Тверднення або полімеризація отриманого продукту 17 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 [0099] Кінцевий продукт з надрукованим на ньому маркуванням потім затвердів під дією ультрафіолетового пристрою для сушки з ртутною лампою низького тиску, що має 2 ультрафіолетове випромінювання 10 мВт/см . [0100] Приклад продукту з маркуванням (що містить три різні окремі маркування), отриманим вищеописаною процедурою, представлено на Фігурі 2. [0101] Наступні інші сполуки, наприклад, можна використати в вищеописаній процедурі замість хіральної легувальної сполуки B з формулою (I): (3R, 3aR, 6R, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(4(акрилоїлоксі)бензоїлоксі)бензоат); (3R, 3aR, 6R, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(4-(акрилоїлоксі)бутоксі)бензоат); (3R, 3aR, 6R, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(акрилоїлоксі)-2-метилбензоат); (3R, 3aR, 6S, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(4-(акрилоїлоксі)бензоїлоксі)-3метоксибензоат); (3R, 3aR, 6R, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(4-(акрилоїлоксі)-3-метоксібензоїлоксі)бензоат); (3R, 3aR, 6R, 6aR)-гексaгідрофуро[3,2-b]фуран-3,6-діїл-біс(4-(4(акрилоїлоксі)бензоїлоксі)-3метоксибензоат); 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилoїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилoїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метилбензоїл]оксі)-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5диметилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5-диметилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-3-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксі-5-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-3-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)3-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-акрилоїлоксі)-3метоксибензоїл]оксі)}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}бензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метоксибензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2,5-диметилбензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-3-метоксибензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метоксибензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксі-5-метилбензоїл]оксі}-2-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-5-метоксі-2-метилбензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3етоксибензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-етоксі-5-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилoїлоксі)-3етоксибензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-етоксі-5-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-5етоксі-2-метилбензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3-етоксибензоїл]оксі}бензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2метилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5-диметилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)2-метилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-маніт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5-диметилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 18 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3-метоксибензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dманіт; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3-метоксибензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метилбензоїлоксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилoїлоксі)бензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5диметилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5-диметилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-3-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксі-5-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-3-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)3-метилбензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)3-метоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}бензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метоксибензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2,5-диметилбензоїл)-5-О-(4-{[4{акрилоїлоксі)-3-метоксибензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3метоксибензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксі-5-метилбензоїл]оксі}-2-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4(акрилоїлоксі)-5-метоксі-2-метилбензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3етоксибензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-етоксі-5-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3етоксибензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)бензоїл]оксі}-2-етоксі-5-метилбензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-5етоксі-2-метилбензоїл]оксі}бензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-3-етоксибензоїл]оксі}бензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2метилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5-диметилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-5-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)2-метилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-D-глюцит; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2,5-диметилбензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-метоксибензоїл]оксі}-2-етоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит; 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-2-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит; 19 UA 104660 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-3-метилбензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит; та 2,5-біс-О-(4-{[4-(акрилоїлоксі)-2-етоксибензоїл]оксі}-3-метоксибензоїл)-1,4:3,6-діангідро-Dглюцит. [0102] В якості нематичної сполуки A1 в вищеописаній процедурі можна використати, наприклад, наступні сполуки: 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилoїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)бензоат]; 4-{[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)бензоїл]оксі}-2-метоксифенілу 4-({[4(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-2-метилбензоат; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-2-метил-бензоат]; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-2-метил-бензоат]; 4-{[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)бензоїл]оксі}-2-метилфенілу 4-({[4(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3-метоксибензоат; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)бензоат]; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3-метоксибензоат]; 4-{[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3-метоксибензоїл]оксі}-2-метилфенілу 4-({[4(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3,5-диметоксибензоат; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3,5-диметоксі-бензоат]; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3,5диметоксибензоат]; та 4-{[4-({[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3-метоксибензоїл]оксі}-2-метоксифенілу 4-({[4(акрилоїлоксі)бутоксі]карбоніл}оксі)-3,5-диметоксибензоат. [0103] В якості нематичної сполуки A2 в вищеописаній процедурі можна використати, наприклад, наступні сполуки: 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоїл}оксі)-3-метилфенілу 4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2метилбензоат; 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоїл}оксі)-3-метилфенілу 4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3метилбензоат; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2-метилбензоат}; 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2-метилбензоїл}оксі)-3-метилфенілу 4-[4(акрилоїлоксі)бутоксі]-2,5-диметилбензоат; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2,5-диметилбензоат} 2-метилбензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоат}; 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметилбензоїл}оксі)-3-метилфенілу 4-[4(акрилоїлоксі)бутоксі]-2,5-диметилбензоат; 2-метилбензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметилбензоат}; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметилбензоат}; 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3-метилбензоїл}оксі)-2-метоксифенілу 4-[4(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметилбензоат; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3-метилбензоат}; 4-({4-[4-(акрилoїлоксі)бутоксі]бензоїл}оксі)-3-метоксифенілу 4-[4-(акрилоїлоксі)-бутoксі]-3метилбензоат; 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоїл}оксі)-3-метоксифенілу 4-[4-(акрилоїлоксі)-бутоксі]-2,5диметилбензоат; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-{акрилоїлоксі)бутоксі]-2-метоксибензоат}; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметоксибензоат}; 2-метоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3-метоксибензоат}; 2-етоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоат}; 2-етоксибензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2-метилбензоат}; 2-(пропан-2-ілоксі)бензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоат}; 4-({4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]бензоїл}оксі)-2-(пропан-2-ілоксі)фенілу 4-[4(акрилоїлоксі)бутоксі]-2-метилбензоат; 2-(пропан-2-ілоксі)бензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2-метилбензоат}; 2-(пропан-2-ілоксі)бензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-2,5-диметилбензоат}; 2-(пропан-2-ілоксі)бензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметилбензоат}; та 2-(пропан-2-ілоксі)бензол-1,4-діїл-біс{4-[4-(акрилоїлоксі)бутоксі]-3,5-диметоксибензоат}. [0104] Відмічено, що вищевказані приклади були приведені тільки з метою роз'яснення та ніяким чином не повинні тлумачитись як обмеження дійсного винаходу. Не дивлячись на те, що дійсний винахід описано з посиланням на ілюстративний варіант здійснення, зрозуміло, що слова, які вживалися в даному документі, представляють собою слова опису та ілюстрації, а не 20 UA 104660 C2 5 слова обмеження. Зміни можна внести в зоні дії формули винаходу, як в дійсний час заявлено та виправлено, не відступаючи від обсягу та ідеї дійсного винаходу в його аспектах. Хоча дійсний винахід описано в даному документі з посиланням на конкретні засоби, матеріали та варіанти здійснення, мається на увазі, що дійсний винахід не обмежується деталями, розкритими в даному документі; скоріше, дійсний винахід поширюється на всі такі функціонально еквівалентні структури, способи та застосування, які знаходяться в межах обсягу доданої формули винаходу. ФОРМУЛА ВИНАХОДУ 10 15 20 25 30 1. Рідкокристалічне полімерне маркування, де маркування доступне шляхом процесу, який включає: (і) нанесення хіральної рідкокристалічної композиції-попередника на підкладку; (іі) нагрівання нанесеної композиції, щоб привести її до першого хірального рідкокристалічного стану; (ііі) нанесення на одну або декілька ділянок нанесеної композиції щонайменше однієї з (1) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках, та (2) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка при нагріванні модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках; (iv) у випадку (2) нагрівання щонайменше однієї з однієї або декількох ділянок, щоб привести її щонайменше до другого хірального рідкокристалічного стану та ізотропного стану; та (v) щонайменше одне з тверднення та полімеризації таким чином локально модифікованої композиції-попередника для перетворення її на рідкокристалічне полімерне маркування. 2. Маркування за п. 1, де хіральна рідкокристалічна композиція-попередник включає (і) одну або декілька нематичних сполук А та (іі) одну або декілька хіральних легувальних сполук В, які здатні спричиняти холестеричний стан хіральної рідкокристалічної композиції-попередника. 3. Маркування за п. 2, де одна або декілька нематичних сполук А, а також одна або декілька хіральних легувальних сполук В включають щонайменше одну сполуку, яка включає щонайменше одну групу, здатну полімеризуватися. 4. Маркування за п. 2 або 3, де хіральна рідкокристалічна композиція-попередник включає щонайменше одну хіральну легувальну сполуку В з формулою (І): O (R1)m O H O A1 O (R2)n (R3)o O O H A2 O (R4)p O 35 40 , де: R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 та R8, кожний незалежно означає С1-С6алкіл та С1-С6алкоксі; А1 та А2, кожний незалежно означає групу з формулою (і)-(ііі): (і) -[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; (ii) -C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; (iii) -C(O)-D2-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; D1 означає групу з формулою (R5)q (R6)r , D2 означає групу з формулою 21 UA 104660 C2 (R7)s (R8)t 5 10 15 20 25 30 35 40 45 , m, n, о, р, q, r, s та t, кожний незалежно означає 0, 1 або 2; у означає 0, 1, 2, 3, 4, 5 або 6; z дорівнює 0, якщо у дорівнює 0, і z дорівнює 1, якщо у дорівнює 1-6. 5. Маркування за будь-яким з пп. 1-4, де щонайменше одна модифікуюча композиція включає щонайменше одну сполуку, вибрану з кетонів, що мають від приблизно 3 до приблизно 6 атомів вуглецю, алкілових складних ефірів та діалкіламідів карбонових кислот, які включають всього від 2 до приблизно 6 атомів вуглецю, діалкілсульфоксидів, що включають всього від 2 до приблизно 4 атомів вуглецю та факультативно заміщеного нітробензолу. 6. Маркування за будь-яким з пп. 1-5, де щонайменше одна модифікуюча композиція включає щонайменше одну з другої хіральної рідкокристалічної композиції-попередника, хіральної легувальної композиції, люмінесцентного пігменту, люмінесцентного барвника, пігменту, що поглинає в видимій або невидимій зоні електромагнітного спектра, та барвника, що поглинає в видимій або невидимій зоні електромагнітного спектра. 7. Маркування за будь-яким з пп. 1-6, де (іі) включає нагрівання нанесеної композиції до температури від приблизно 55 °C до приблизно 150 °C. 8. Маркування за будь-яким з пп. 1-7, де (ііі) включає нанесення щонайменше однієї модифікуючої композиції щонайменше одним з безперервного струменевого друку, краплинноімпульсного струменевого друку, покриття напиленням та клапанного друку. 9. Маркування за будь-яким з пп. 1-8, де відразу після (ііі) пускають потік повітря над однією або декількома ділянками. 10. Маркування за будь-яким з пп. 1-9, де маркування у формі щонайменше одного з зображення, картинки, логотипа, знаку та узору, що відображає код, вибраний з одного або декількох 1-вимірного штрих-коду, складеного 1-вимірного штрих-коду, 2-вимірного штрих-коду, 3-вимірного штрих-коду та матриці даних. 11. Підкладка, яка включає маркування за будь-яким з пп. 1-10. 12. Підкладка за п. 11, де маркування виконує функцію щонайменше одного з елемента захисту, елемента автентичності, елемента ідентифікації та елемента стеження та спостереження. 13. Підкладка за п. 11 або 12, де підкладка являє собою або включає щонайменше один з ідентифікаційного документа, ярлика, упаковки, банкноти, цінного папера, паспорта, штампа, перебивної плівки та відбиваючої плівки. 14. Процес забезпечення підкладки маркуванням рідкокристалічним полімером, де процес включає: (і) нанесення хіральної рідкокристалічної композиції-попередника на підкладку; (іі) нагрівання нанесеної композиції, щоб привести її до першого хірального рідкокристалічного стану; (ііі) нанесення на одну або декілька ділянок нанесеної композиції щонайменше однієї з: (1) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках, та (2) щонайменше однієї модифікуючої композиції, яка при нагріванні модифікує перший хіральний рідкокристалічний стан локально в одній або декількох ділянках; (iv) у випадку (2) нагрівання щонайменше однієї з однієї або декількох ділянок, щоб привести її щонайменше до одного з другого хірального рідкокристалічного стану та ізотропного стану; та (v) щонайменше одне з тверднення та полімеризації таким чином локально модифікованої композиції-попередника для перетворення її в рідкокристалічне полімерне маркування. 15. Процес за п. 14, де процес включає щонайменше ознаку, як визначено в будь-якому з пп. 210. 22 UA 104660 C2 Комп’ютерна верстка Л. Бурлак Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 23