Фотополімерізуюча композиція
Номер патенту: 8614
Опубліковано: 30.09.1996
Автори: Предко Леся Степанівна, Кравчук Володимир Аркадійович, Етліс Володимир Самійлович, Кривдик Ольга Мирославівна
Формула / Реферат
Фотополимеризующаяся композиция, включающая водорастворимый сополиамид общей формулы:
где n = 24, мол. масса = 12-13 тыс., ненасыщенный мономер - триметакрилат триэтаноламина, фотосенсибилизатор, этанол и воду, отличающаяся тем, что, с целью повышения светочувствительности композиции, сокращения времени ее приготовления, в качестве фотосенсибилизатора она содержит дезилхлорид формулы II
при следующем соотношении компонентов, мас.ч.:
водорастворимый сополиамид общей формулы I 20-30
триметакрилат триэтаноламина 2-8
дезилхлорид формулы II 0,25-1,25
этанол 52,5-56,0
вода 14,0-17,5.
Текст
ФОТОПОЛИКЕРИЗУВДАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ , включающая водорастворимый со полиамид общей формулы I си, со \ у \ где п = 24, мол.масса - 12-13 тыс., ненасыщенный мономер - триметакрилат триэтаноламина, фотосенсчбилиэатор, этанол и воду, о т л и ч а ю щ а я п при следующем соотношении компонентов, мае.ч.: Водорастворимый со~ полиамид общей формулы I 20-30 Триметакрилат триэтаноламина 2-8 Дезилхлорчд формулы II 0,25-1,25 Этанол 52,5-56,0 Вода 14,0-17,5 С 00 N3 Ц 1 1 12081? кой и приборостроительной промышленИзобретение относится к фотопопиное тях. меризующимся композициям для изготовИзвестна фотополимеризующаяся комления высокоточных фотополимерных пепозиция , включающая водорастворимый чатных форм и может быть использовасополиамид обшей формулы I но в полиграфической, радиотехничес 1 же низкая светочувствительность фото полимерного слоя на ее основе. Цель изобретения - повышение све точувствительности композиции, сокращения времени ее приготовления. воду [1]. Ї5 Цель достигается тем, что фотопо Недостатком этой композиции являлимеризующаяся композиция, включаюется продолжительность ее приготовщая водорастворимый сополиамид обления из-за низкой растворимости в щей формулы I ней метилового эфира бензоина, а так где п=2А, мол.масса=12-13 тыс, ненасыщенный мономер - триметакрилат триэтаноламина, фотосенсибилизатор метиловый эфир бензоина, этанол и [-OC(CH^COHN(CH 2 ) 6 NHOC-H 2 C-O-CH£CH 2 -O-CH Z -CO N N J П р и м е р 1. Для получения фото-, где п-24, мол.масса=12-13 тыг., ненасыщенный мономер - триметакрилат три- 25 полимеризующейся композиции (ФПК) готовят гомогенный раствор при следуюэтаноламина, фотосенсибилизатор, этащем соотношении компонентов,мае,ч.: нол и воду, в качестве фотосенсибиВодорастворимый солизатора содержит дезилхлорид формуполиамид формулы I 20 лы II Этанол 52,5 30 Вода 17,5 Триметакрилат триэтаноламина • 2 Дезилхлорид 0,25 при следующем соотношении компоненСмесь тщательно перемешивают в тетов, вес .ч. : чение 10 мин и отстаивают до полного Водорастворимый обеспуэыривания. Затем композицию сополиамид общей фильтруют и наносят на трафаретную формулы I 20-30 сетку (капроновую, металлическую), Триметакрилат триа после этого высушивают. этаноламина 2-8 40 Фотополимеризующийся слой экспоДезилхлорид формунируют чррез фотоформу-диапозитив лы ТІ 0,25-1,25 под УФ источником света на расстояЭтанол 52,5-56,0 нии 50 мм от источника в течение Вода 14,0-17,5 6 мин. После экспонирования незаполиФотосенсибилизатор вводят в раст- 45 меризованные участки слоя удаляют, вор водорастворимого сополиамида в промывая их проточной водой. этаноле в сухом порошкообразном виде, сн -с се о 9\ \ что ускоряет процесс приготовления П р и м е р 2. Компоненты в примефотополимеризующейся композиции на ре 2 берут в следующем соотношении, 10-15 мин за счет исключения пригома с.ч.: товления спиртового раствора метилового эфира бензоина и облегчает его Водорастворимый сополииспользование в составе фотополимерамид формулы I 25 ной композиции. Кроме того, дезилЭтанол 54 хлорид мало токсичен за счет его по- 55 Вода !6 рошкообразного состояния, без запаха, Тримет акрилат триэталегко растворяется во всех жидких комноламина 5 понентах композиции, образуя с ней Дезилхлогид 0,7 гомогенный раствор. • і , 120832 4 П р и м е р а ( п р о і о і и п ) . Компоненты в композиции бррут в следующем соотношении, м а е . ч . : 3 Далее как в примере 1. Время экспонирования этой композиции соегавля ет 4 мин. П р и м е р 3. Компоненты в приме ре 3 берут в следующем соотношении, Водорастворимый сополимас.ч.: амид (25% раствор в 75£ 100 Водорастворимый соповодном растворе этанола) лиамид формулы I 30 Триметакрилат триэта6 Этанол 56,0 ноламина Ю . Вода 14,0 Метиловый эфир бензо0,6 Триметакрилат триина 1 этаноламина 8 Дезилхлорид 1,25 Далее как в примере 1, только вреДалее как в примере 1. Время эксмя экспонирования составляет 8 мин. »5 понирования фотополимеризуюшегося Сравнительные данные приведенных слоя составляет 2 мин. примеров представлены в таблице. Приме ры Время приготовления ФПК, мин Время экспонирования формы, мин 70 Разрешающая способность лин/см Выделяющая способность, Гомогенность мкм 41 100 Гомогенная 2 70 4 49 70 То же 3 70 2 А9 70 Выпадает в осадок 120 50 Гомогенная 4( по прото85-90 типу] 5-10 Применение дезилхлорида в качестве фотосенсибилизатора сокращает вре мя экспонирования трафаретных форм в Редактор А.Загребельная 2 раза и составляет 2-6 мин, время приготовления фотополимеризующейся композиции уменьшается до 70 мин. Составитель А.Головлева Техред А. Кравчук Корректор С.Шекмар Заказ 41/ДСП Тираж 229 Подписное ВНИИЛИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д.4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г.Ужгород,ул.Проектная,
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюPhoto-polymerizing composition
Автори англійськоюKravchuk Volodymyr Arkadiiovych, Kryvdyk Olha Myroslavivna, Etlis Volodymyr Samiilovych, Predko Lesia Stepanivna
Назва патенту російськоюФотополимеризирующая композиция
Автори російськоюКравчук Владимир Аркадиевич, Кривдик Ольга Мирославовна, Этлис Владимир Самойлович, Предко Леся Степановна
МПК / Мітки
МПК: G03C 1/685
Мітки: композиція, фотополімерізуюча
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/4-8614-fotopolimerizuyucha-kompoziciya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Фотополімерізуюча композиція</a>
Попередній патент: П’єзоелектричний керамічний матеріал
Наступний патент: Обладнання до компенсації реактивної потужності
Випадковий патент: Спосіб одержання формальдегіду