Патенти з міткою «очищувальної»
Композиція очищувальної маски для шкіри обличчя
Номер патенту: 55878
Опубліковано: 15.04.2003
Автор: Клочко Вікторія Петрівна
МПК: A61K 8/25, A61K 8/18, A61K 8/19 ...
Мітки: маски, композиція, обличчя, очищувальної, шкіри
Формула / Реферат:
Композиція очищувальної маски для шкіри обличчя, що включає абразив, як адсорбент - білу глину, як протизапальні компоненти - оксид цинку і саліцилову кислоту та зв'язуюче, яка відрізняється тим, що як адсорбент додатково включає мікропорошок нефриту зернистістю 60/40... 28/20, а як зв'язуюче - ланолін при наступному співвідношенні компонентів, мас.%: мікропорошок нефриту 7,0-10,0 біла ...
Композиція очищувальної маски по догляду за шкірою
Номер патенту: 38682
Опубліковано: 15.05.2001
Автори: Олійник Нонна Олександрівна, Маринич Маргарита Анатоліївна, Базалій Галина Андріївна, Новіков Микола Васильович, Богатирьова Галина Павлівна
МПК: A61K 8/26, A61K 8/18, A61K 8/27 ...
Мітки: догляду, очищувальної, маски, шкірою, композиція
Текст:
...Як показали наші дослідження, саме сполучення усіх компонентів у сук упності забезпечує найбільш ефективну послідовність дії на шкіру, а саме: алмази запропонованої марки та зернистості здійснюють рівномірне зняття змертвілого шару шкіри, газоподібні продукти селективно поглинаються саме запропонованими адсорбентами - білою глиною і/або крохмалем. Оксид цинку та саліцилова кислота спрямовані на повну дезинтоксикацію поверхневих шарів...