Композиція очищувальної маски по догляду за шкірою

Композиція очищувальної маски по догляду за шкірою, що містить абразив, адсорбенти, протизапальні компоненти, зв'язуюче, яка відрізняється тим, що як абразив вона містить алмазні синтети чні мікропорошки зернистістю 60/40...28/20, як адсорбенти - глину і/або крохмаль, як протизапальні компоненти - саліцилову кислоту та оксид цинку, як зв'язуюче - вазелін при наступному співвідношенні компонентів, мас.%: Винахід стосується парфумерної промисловості і може бути використаний для косметичних цілей, а саме, - для очистки шкіри обличчя та тіла від забруднень рогового шару епідермісу. Відома найбільш близька за технічною суттю до винаходу композиція для маски, що очищує, по догляду за шкірою (див.: крем-маска "Абрикосовый скраб с цветами бузины" ("Apricot Scrub with Elder Flower"), Laboratorіes St. Ives S. A. Geneve, Suisse, distributed by: © 1990 St. Ives Laboratories Inc. Los Angeles, California 91311) (додається), що містить абразив, адсорбенти, протизапальні компоненти, зв'язуюче, причому як абразив використані подрібнені частинки шкаралупок грецьких горіхів та кісточок абрикосів, як адсорбенти - двооксид титану, як протизапальні компоненти - триетаноламін, і як зв'язуюче - ланолін, а також екстракт різних квітів і різні органічні домішки. При використанні ця композиція має ряд недоліків. Абразивні частинки, виготовлені з шкаралупок горіхів та кісточок абрикосу мають низьку міцність (крихкі) і при втиранні у шкіру можуть розколюватись з утворенням маленьких гострих частинок. Оскільки до цих кремів входить велика кількість живильних компонентів, вони будуть швидко всмоктуватись у шкіру, що може призвести до поранення шкіри та закриття пор уламками абразивних частинок. Крім того, при використанні двооксиду титану адсорбенту - у складі цієї композиції, у порах шкіри будуть накопичуватися газоподібні частинки, які утворюються при знятті із змертвілого шару епідермісу. Це пов'язане з низькою адсорбційною активністю двооксиду титану до газоподібних продуктів зняття. В основу винаходу поставлено задачу такого удосконалення композиції для очищувальної маски по догляду за шкірою, при якому за рахунок введення нових компонентів, як складових, досягається рівномірне зняття змертвілого шару епідермісу з адсорбцією газоподібних продуктів, що утворюються, полегшене зняття цієї композиції зі шкіри і підвищення протизапального ефекту. Для рішення цієї задачі у композиції для очищувальної маски по догляду за шкірою, що містить абразив, адсорбенти, протизапальні компоненти, зв'язуюче і, згідно винаходу, як абразив вона містить алмазні синтетичні мікропорошки зернистістю 60/40...28/20, як адсорбенти - білу глин у і/або крохмаль, як протизапальні компоненти - саліцилову кислоту та оксид цинку, як зв'язуюче - вазелін при наступному співвідношенні компонентів, мас.%: Компоненти алмазні мікропорошки синтетичні зернистістю 60/40...28/20 біла глина і/або крохмаль оксид цинку саліцилова кислота вазелін Мас.% 5-12 Мас.% 5-12 5-12 15-25 1-2,5 решта UA (11) 38682 (13) A 5-12 15-25 1-2,5 решта (19) Компоненти алмазні мікропорошки синтетичні зернистістю 60/40...28/20 біла глина і/або крохмаль оксид цинку саліцилова кислота вазелін 38682 Причинно-наслідковий зв'язок між сукупністю ознак, що пропонується, і технічним результатом, що досягається при її реалізації, полягає у наступному. Для попередження можливих запальних процесів використовуються як протизапальні компоненти оксид цинку та саліцилова кислота, які взаємодіють з іншими компонентами композиції. Причому адсорбційні компоненти, навпаки, селективно адсорбують тільки газоподібні продукти зйому шару шкіри, а органічні протизапальні речовини не забруднюють поверхню адсорбентів. Як зв'язуюче обраний вазелін, який не всмоктується у шкіру і дозволяє простіше та чистіше знімати змертвілий шар епідермісу. Застосування вазелінової основи дозволяє легко знімати накладений на шкіру шар композиції для маски. Це досягається тим, що композиція для маски має достатню в'язкість. Як відомо, в'язкість є силою (на одиницю поверхні при накладенні двох шарів), яка достатня для підтримки необхідної швидкості переміщення одного шару по другому. В нашому випадку в'язкість повинна бути ~ 30 г/(мм×с). Як показали наші дослідження, саме сполучення усіх компонентів у сук упності забезпечує найбільш ефективну послідовність дії на шкіру, а саме: алмази запропонованої марки та зернистості здійснюють рівномірне зняття змертвілого шару шкіри, газоподібні продукти селективно поглинаються саме запропонованими адсорбентами - білою глиною і/або крохмалем. Оксид цинку та саліцилова кислота спрямовані на повну дезинтоксикацію поверхневих шарів шкіри. Причому тільки використання вазеліну забезпечує цільність та необхідну в'язкість композиції, згідно винаходу, наслідком якої буде забезпечено полегшення зняття цієї композиції зі шкіри. Таким чином, при реалізації запропонованої сукупності ознак підвищується ефект зняття змертвілого шар у епідермісу з одиниці площі шкіри. Приклад конкретної реалізації. Приклад 1. Була виготовлена партія композиції для очищувальної маски масою 100 г. На водяній бані у хімічний стакан кладуть 64,5 г вазеліну. Поступово нагрівають воду у водяній бані. Коли вазелін розплавиться, додають туди послідовно 20 г оксиду цинку, 1,5 г саліцилової кислоти та 7 г білої глини. Заміна білої глини на крохмаль або використання їх суміші не мали суттєвого впливу на показники ефективності запропонованої композиції. Весь час ведеться перемішування композиції скляною паличкою. Останнім компонентом додають 7 г алмазних мікропорошків марки БС зернистістю 40/28. Все ретельно знову перемішують протягом 10 хвилин. Композицію охолоджують на повітрі і розфасовують у скляну тару. Виміряється в'язкість композиції: на скляну пластинку наносять 1 г композиції для очищувальної маски, а зверху накладають другу скляну пластинку. Витримують 10 хвилин та заміряють плями, які знаходяться між пластинками (значення в'язкості вимірюється у г/(мм×с)). В даному випадку в'язкість дорівнювала 30 г/(мм×с). Частину отриманої композиції для очищувальної маски масою 5 г (m 1) наносили на забруднену ділянку шкіри. Заміряли площу ділянки з нанесеною композицією для маски (S). Після витримки на шкірі протягом 20 хвилин зняли цей нанесений шар скляною лопаточкою. Зважили знятий шар композиції (m 2) m 2 = 5,12 г. Розрахунок коефіцієнту очистки шкіри (К) проводили по наступній формулі: K= m1 - m 2 , мг / см 2 S У приведеному прикладі: K= 5 ,12 - 5 ,0 = 0 ,008 г / см 2 = 8 мг / см 2 15 Крім того, було виготовлено композиції при граничних значеннях співвідношень усіх компонентів (приклад 2, 3), за їх межами (приклад 4-13), та за прототипом (приклад 14) в однакових умовах. Дані зведені у таблицю (додається). Як видно з таблиці, коефіцієнт зйому та в'язкість мають максимальні значення для композиції маски, що очищує, при складі (п.п. 1-3), які перевищують ці показники за прототипом у 8-9 разів, за коефіцієнтом зняття і, якнайменше у 2 рази - за в'язкістю. 2 38682 Таблиця Об'єкт випробувань № № п/п 1 2 3 Склад компонентів, мас.% Алмазні мікБіла ропорошки глина, Саліцило- Ваземарки БС і/або Оксид цинка ва ки- лін Кіль- Зер- крохслота нис- маль кість тість 7,0 40/28 7,0 20,0 1,5 64,5 5,0 40/28 12,0 15,0 2,5 65,5 12,0 40/28 5,0 25,0 1,0 57,0 Коефіцієнт зняття, К, мг/см 2 В'язкість, г(мм×с) 8,0 7,0 7,5 30 28 28 Композиція згідно винаходу 3,0 40/28 7,0 20,0 1,0 69,0 4,0 26 5 13,0 40/28 10,0 18,0 1,2 57,8 6,5 25 6 10,0 40/28 3,0 20,0 1,2 65,8 5,0 24 7 11,0 40/28 13,0 18,0 1,8 56,2 5,0 16 8 10,0 40/28 10,0 13,0 2,0 65,0 5,5 22 9 11,0 40/28 11,0 26,0 2,0 50,0 6,0 23,5 10 10,0 40/28 10,0 20,0 0,5 59,5 5,2 25 11 12 11,0 7,0 40/28 80/63 18,0 10,0 20,0 20,0 3,0 2,0 48,0 61,0 4,6 4,0 26 22 13 Композиція за прототипом 4 7,0 20/14 12,0 18,0 1,5 61,5 6,5 26 0,9 Примітки Недостатній абразивний ефект Подразнення шкіри Недостатня очистка шкіри Сухість шкіри Невелике подразнення шкіри Сухість шкіри Невелике подразнення шкіри Подразнення шкіри Подразнення шкіри Недостатній абразивний ефект 15 14 Абразив: частинки шкаралупок горіху та кісточок абрикосу, адсорбент - двооксид титану, протизапальна речовина триетаноламін, екстракт квітів, зв'язуюче - ланолін __________________________________________________________ ДП "Український інститут промислової власності" (Укрпатент) Україна, 01133, Київ-133, бульв. Лесі Українки, 26 (044) 295-81-42, 295-61-97 __________________________________________________________ Підписано до друку ________ 2001 р. Формат 60х84 1/8. Обсяг ______ обл.-вид. арк. Тираж 50 прим. Зам._______ ____________________________________________________________ УкрІНТЕІ, 03680, Київ-39 МСП, вул. Горького, 180. (044) 268-25-22 ___________________________________________________________ 3