Патенти з міткою «тів2»

Номер патенту: 94671

Опубліковано: 25.05.2011

Автори: Рагуля Андрій Володимирович, Солонін Юрій Михайлович, Шлапак Анатолій Миколайович, Силенко Петро Митрофанович

МПК: C30B 29/00, C01B 35/00

Мітки: тів2, нановолокон, виготовлення, мікро, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб виготовлення мікро- та нановолокон ТіВ2 методом хімічного газофазного осадження із трихлориду бору та тетрахлориду титану в середовищі водню та аргону з застосуванням металевого каталізатора, який відрізняється тим, що як каталізатор використовують пластинку із Ст.3, а реакцію утворення мікро- та нановолокон ТіВ2 проводять в температурному діапазоні 1000-1300 °С протягом 30-60 хвилин в проточному реакторі, де трихлорид бору утворюють...