Патенти з міткою «вих»

Номер патенту: 22169

Опубліковано: 30.06.1998

Автори: Геллер Віталій Ізраїльович, Політанський Леонід Францович, Горда Євгеній Львович, Герасим Василь Васильович

МПК: H01L 21/04

Мітки: приладів, високовольтних, виготовлення, спосіб, вих, напівпровіднико

Формула / Реферат:

Спосіб виготовлення високовольтних напівпровідникових приладів, що включає формування високовольтного р-n переходу введенням домішки другого типу провідності у слаболеговану підкладку першого типу провідності, який відрізняється тим, що травленням товстої слабо-легованої підкладки під високовольтним р-n переходом утворюють мембрану, проводять іонне легування зворотного боку підкладки з витравленою мембраною іонами домішок першого типу...