C23C 14/20 — на органічні підкладки

Спосіб детонаційно-газової металізації фторопластів

Завантаження...

Номер патенту: 61768

Опубліковано: 17.11.2003

Автори: Щепетов Віталій Володимирович, Мусієнко Микола Миколайович, Щепотьєв Олександр Іванович

МПК: C23C 14/20

Мітки: металізації, фторопластів, детонаційно-газової, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб детонаційно-газової металізації фторопластів, при якому проводять підготовку поверхні підкладки для напилення та підготовку засобів напилення, детонаційно-газове напилення і здійснюють обробку напиленої поверхні, який відрізняється тим, що детонаційно-газове напилення здійснюють високоенергетичним потоком суміші розігрітих газів і металів порошку на поверхню підкладки, що виготовлена із фторопласту.

Спосіб виготовлення відбивної багатошарової плівки (варіанти) та пластмасова плівка з двобічним відбивним покриттям

Завантаження...

Номер патенту: 48147

Опубліковано: 15.08.2002

Автори: Ларсен Тед, Пасс Томас, Вудард Ф. Юджін

МПК: C23C 14/02, B32B 15/08, B32B 27/36 ...

Мітки: плівка, багатошарової, плівки, покриттям, пластмасова, відбивним, спосіб, відбивної, двобічним, варіанти, виготовлення

Формула / Реферат:

1. Способ изготовления отражающей многослойной пленки, выполненной из пленки из пластмассы со скользящей и нескользящей сторонами, которые покрыты металлосодержащим отражающим слоем, включающий следующие стадии:а) предварительную обработку нескользящей стороны пленки тлеющим разрядом;б) осаждение методом распыления на предварительно обработанную тлеющим разрядом нескользящую сторону пленки отражающего слоя ив) осаждение...

Спосіб виготовлення електромагнітного екрана

Завантаження...

Номер патенту: 35760

Опубліковано: 16.04.2001

Автори: Левченко Георгій Тимофійович, Буданков Олександр Кирилович, Сагайдак Василь Андрійович, Прокоф'єв Михайло Іванович, Мисник Павло Олексійович

МПК: C23C 14/20, H05K 9/00

Мітки: спосіб, електромагнітного, виготовлення, екрана

Формула / Реферат:

Спосіб виготовлення електромагнітного екрана, що включає нанесення магнітопровідного покриття у вакуумі, який відрізняється тим, що магнітопровідне покриття на­носять при циклічному переміщенні корпуса, зі швидкістю від 0,1 до 5 циклів/хв шляхом напилення магнітного шару та немагніт­ного прошарку один на одного, причому магнітний шар напиляють зі швидкістю від 10 до 20 нм/хв, немагнітний прошарок - від 1 до 2 нм/хв, а час їх напилення...