Цибульський Леонід Юрійович

Номер патенту: 106547

Опубліковано: 25.04.2016

Автори: Шинкаренко Наталія Вікторівна, Цибульський Леонід Юрійович, Кузьмичєв Анатолій Іванович

МПК: H01J 35/00

Мітки: трубка, рентгенівська

Формула / Реферат:

1. Рентгенівська трубка, яка містить корпус у вигляді вакуумної оболонки, виконаної з ізолюючого матеріалу з анодним і катодним вводами на торцях, та розміщені всередині вакуумної оболонки термокатод, анод з мішенню і вихідним вікном, фокусуючий пристрій і кільцевий елемент, при цьому кільцевий елемент розташований співвісно з фокусуючим пристроєм і анодом, а також індуктор, що розміщений за межами вакуумної оболонки поряд з кільцевим...

Номер патенту: 101990

Опубліковано: 12.10.2015

Автори: Кузьмичєв Анатолій Іванович, Цибульський Леонід Юрійович

МПК: H01J 37/073, H01J 37/077

Мітки: джерело, вторинно-емісійним, катодом, електронів, газорозрядне

Формула / Реферат:

1. Газорозрядне джерело електронів з вторинно-емісійним катодом, що містить вторинно-емісійний катод, що розміщений в порожнині корпуса-анода, вузол напуску робочого газу в порожнину корпуса-анода та керуючий електрод, який розміщений в порожнині корпуса-анода навпроти катода і підключений до генератора керуючих імпульсів, яке відрізняється тим, що керуючий електрод виконаний у вигляді індуктора, а генератор керуючих імпульсів виконаний у...

Номер патенту: 101342

Опубліковано: 10.09.2015

Автори: Кузьмичєв Анатолій Іванович, Цибульський Леонід Юрійович

МПК: C23C 14/00

Мітки: нанесення, пристрій, іонно-плазмовою, вакуумі, активацією, покриттів

Формула / Реферат:

1. Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі з іонно-плазмовою активацією, який містить джерело молекулярного потоку вихідного матеріалу, що осаджують на підкладки, джерело електричного живлення для джерела молекулярного потоку вихідного матеріалу, тримач підкладок, генератор напруги негативного зміщення, який підключений до тримача підкладок, джерело реакційного газу, іонізатор-активатор, який з'єднаний з джерелом реакційного газу і який...

Номер патенту: 13134

Опубліковано: 15.03.2006

Автори: Цибульський Леонід Юрійович, Кузьмичєв Анатолій Іванович

МПК: C23C 14/40, C23C 14/32, C23C 14/26 ...

Мітки: потоку, джерело, іонізованого, парового

Формула / Реферат:

1. Джерело іонізованого парового потоку, що містить тигель, заповнений випаровуваним матеріалом, що розташований усередині індуктора, яке відрізняється тим, що тигель містить термоемісійну вставку, виконану у вигляді кільця з матеріалу з великою питомою термоемісією, і розташовану у верхній частині тигля.2. Джерело за п. 1, яке відрізняється тим, що тигель у своїй частині, що охоплює термоемісійну вставку, має радіальне потовщення...