G03C 1/74 — нанесення світлочутливих шарів на підкладку; способи їх сушіння

Номер патенту: 4205

Опубліковано: 27.12.1994

Автори: Хайнц Рембольд, Евальд Лозерт

МПК: H05K 3/00, G03C 1/74

Мітки: схемі, нанесення, спосіб, печатної, відтулинами, підложку, фоторезисту

Формула / Реферат:

1. Способ нанесення фоторезиста на подлож­ку печатной схемы с отверстиями, основанный на поливе раствора фоторезиста в виде свободно пада­ющего потока на движущуюся подложку при ско­рости падения потока на подложку 60-160 м/мин, отличающийся тем, что, с целью повышения каче­ства покрытия и уменьшения закупорки фоторези­стом отверстий, при поливе используют раствор фоторезиста с вязкостью 500-1200 мПа·с. 2. Способ по п. 1, отличающийся...