Леклерк Венсан
Джерело плазми
Номер патенту: 112145
Опубліковано: 25.07.2016
Автори: Сільберберг Ерік, Думініка Флорін Даніель, Леклерк Венсан, Даніель Ален
МПК: H01J 37/32, H01J 27/10, H05H 1/46 ...
Формула / Реферат:
1. Джерело (1) плазми, призначене для нанесення покриття на підкладку (9) і виконане з можливістю з'єднання з джерелом (Р) енергії, що містить:a) електрод (2), що обмежує розрядну камеру (3), яка виходить в отвір (6), навпроти якого можна розташувати згадану підкладку, при цьому поперечний переріз згаданого електрода має першу і другу бічні стінки (21, 22), розташовані з одного й іншого боку від дна (23, 24), що має центральну частину...