H05H 1/46 — з використанням зовнішніх електромагнітних полів, наприклад високою або надвисокої частоти
Спосіб (варіанти) і пристрій для нанесення теплозахисного покриття
Номер патенту: 113608
Опубліковано: 27.02.2017
Автори: Кононенко Юрій Григорович, Мелоуні Майкл Дж., Маллулі Джон Ф., Білоусов Ігор Володимирович, Шагінян Леонід Робертович, Кузьмичов Анатолій Іванович
МПК: C23C 14/32, C23C 14/30, C23C 14/28 ...
Мітки: пристрій, спосіб, покриття, нанесення, теплозахисного, варіанти
Формула / Реферат:
1. Спосіб нанесення теплозахисного покриття на деталь, у якому: розміщують деталь в камері осадження, прикладають перший електричний потенціал до деталі, розпилюють компоненти для утворення матеріалу осадження, іонізують розпилені компоненти та модулюють перший електричний потенціал так, щоб притягувати іонізовані компоненти до деталі, де модуляція включає:множину перших стадій для ППФО - плазмового парофазного осадження, кожна з яких...
Високочастотний індукційний плазмотрон
Номер патенту: 113355
Опубліковано: 10.01.2017
Автори: Деркач Дмитро Олександрович, Федак Сергій Павлович, Рудика Віктор Іванович, Абдуллін Сергій Юрійович, Оршанський Юрій Романович
МПК: H05H 1/30, H05H 1/46
Мітки: індукційний, плазмотрон, високочастотний
Формула / Реферат:
Високочастотний індукційний плазмотрон, який співвісно встановлений у трубчатий циліндричний корпус плазмового пальника і містить діелектричний стакан, всередині якого сформований проточний плазмогенеруючий канал, поєднаний з розпилювальною форсункою, та оснащений індуктором з витками, виконаним з можливістю підведення до нього високочастотної електричної енергії, який відрізняється тим, що на виході з форсунки по осі плазмогенеруючого каналу...
Джерело плазми
Номер патенту: 112145
Опубліковано: 25.07.2016
Автори: Сільберберг Ерік, Даніель Ален, Думініка Флорін Даніель, Леклерк Венсан
МПК: H01J 37/32, H05H 1/46, H01J 27/10 ...
Формула / Реферат:
1. Джерело (1) плазми, призначене для нанесення покриття на підкладку (9) і виконане з можливістю з'єднання з джерелом (Р) енергії, що містить:a) електрод (2), що обмежує розрядну камеру (3), яка виходить в отвір (6), навпроти якого можна розташувати згадану підкладку, при цьому поперечний переріз згаданого електрода має першу і другу бічні стінки (21, 22), розташовані з одного й іншого боку від дна (23, 24), що має центральну частину...
Вакуумний електродуговий пристрій із скривленими плазмовими каналами
Номер патенту: 77299
Опубліковано: 15.11.2006
Автори: Тимошенко Олександр Іванович, Таран Валерій Семенович, Чечельницький Олег Гурійович
МПК: H01J 37/32, C23C 14/35, H05H 1/46 ...
Мітки: пристрій, скривленими, плазмовими, вакуумний, електродуговий, каналами
Формула / Реферат:
1. Вакуумний електродуговий пристрій із скривленими плазмовими каналами, який включає два зустрічних джерела плазми з фокусуючими електромагнітними котушками, які з'єднані з плазмоводом, охопленим принаймні одною відхиляючою електромагнітною котушкою, який має вихідну електромагнітну котушку, яка охоплює його вихідний отвір, який відрізняється тим, що витки відхиляючих котушок зігнуті так, що одна половина кожного витка охоплює плазмовід між...
Спосіб отримання просторової плазми
Номер патенту: 64061
Опубліковано: 16.02.2004
Автор: Дем'янчук Борис Олександрович
МПК: H05H 1/26, H05H 1/46
Мітки: спосіб, плазми, просторової, отримання
Формула / Реферат:
Спосіб отримання просторової плазми шляхом нагріву плазмоутворюючої речовини за допомогою зовнішнього джерела енергії, який відрізняється тим, що в об’єм простору плазмоутворюючої речовини під тиском повітря додають високодисперсний легкий металевий наповнювач у вигляді гомогенної суміші алюмінію та магнію з однаковими ваговими частинами, кожна з яких дорівнює одній ваговій частині на три-чотири вагових частин плазмоутворюючої речовини, після...