Шелковой Євген А.
Спосіб осадження першого матеріалу на підкладку, спосіб осадження першого матеріалу на титановій основі на підкладку, пристрій для осадження конденсату на підкладку, металева деталь
Номер патенту: 86366
Опубліковано: 27.04.2009
Автори: Малашенко Ігор С., КІНСТЛЕР Моніка Д., Білоусов Ігор В., Шелковой Євген А., Рутц Девід А., Сергієнко Григорій А., Меммен Роберт Л.
МПК: B05D 3/04, B32B 15/00, C23C 16/00 ...
Мітки: основі, спосіб, пристрій, металева, титановій, підкладку, матеріалу, осадження, деталь, першого, конденсату
Формула / Реферат:
1. Спосіб осадження першого матеріалу на підкладку, який включає розташування підкладки в камері для осадження та утворення розплаву між підкладкою і джерелом першого матеріалу шляхом розплавлення одного або кількох других матеріалів, пропускання потоку першого матеріалу крізь розплав і з розплаву до підкладки у формі потоку пари, причому практично невитратна частина розплаву включає сплав, який має температуру плавлення, нижчу за температуру...