Вайганг Лєна
Пористий ксерогель sio2 з характерним розміром пор
Номер патенту: 109268
Опубліковано: 10.08.2015
Автори: Райхенауер Гудрун, Вайганг Лєна, Ебєрт Ханс-Петер, Нойссєр Тереза
МПК: C01B 33/16
Мітки: розміром, ксерогель, пор, пористий, характерним
Формула / Реферат:
1. Пористий ксерогель SiO2, який відрізняється тим, що він містить пори, розмір яких більше 50 нм, але менше 1000 нм, зокрема менше 500 нм, зокрема менше 300 нм, зокрема менше 100 нм, має густину менше 400 кг/м3, зокрема менше 290 кг/м3, зокрема менше 200 кг/м3, містить частку вуглецю, яка є меншою 10 %, зокрема меншою 5 %, і має теплопровідність при 800 °C менше 0,060 Вт/м·К, при 400 °C менше 0,040 Вт/м·К, при 200 °C...
Спосіб одержання пористого ксерогелю sio2 із характеристичним розміром пор за допомогою висхідного методу з використанням попередника, що має органічні тверді скелетні опори
Номер патенту: 107000
Опубліковано: 10.11.2014
Автори: Нойссєр Тереза, Райхенауер Гудрун, Ебєрт Ханс-Петер, Вайганг Лєна
МПК: C01B 33/16
Мітки: одержання, пористого, використанням, розміром, опори, ксерогелю, методу, допомогою, органічні, висхідного, тверді, пор, спосіб, скелетні, характеристичним, має, попередника
Формула / Реферат:
1. Спосіб одержання ксерогелю SiO2 з порами в діапазоні від 1000 нм до 50 нм, із густиною менше 400 кг/м3 і з вмістом слабо хімічно зв'язаного залишкового вуглецю менше 10 %, який відрізняється тим, що ксерогель SiO2 одержують за допомогою золь-гель процесу зі сполуки кремнію, зокрема рідкого скла, кремнієвих кислот (пірогенних кремнієвих кислот, таких як Aerosil®, осаджених кремнієвих кислот), шаруватих силікатів, алкоксисиланів,...