Спосіб дермабразії при дермальних поверхневих опіках голови, шиї
Завантажити PDF файл.
Формула / Реферат
Спосіб дермабразії при дермальних поверхневих опіках голови, шиї, що передбачає хірургічне видалення некротичних тканин скальпелем одноразового використання, який відрізняється тим, що до видалення некротичних тканин опікові рани знаходяться в умовах вологої камери під полівінілхлоридною плівкою протягом доби.
Текст
Спосіб дермабразії при дермальних поверхневих опіках голови, шиї, що передбачає хірургічне видалення некротичних тканин скальпелем одноразового використання, який відрізняється тим, що до видалення некротичних тканин опікові рани знаходяться в умовах вологої камери під полівінілхлоридною плівкою протягом доби. (19) UA (21) u200911819 (22) 19.11.2009 (24) 26.04.2010 (46) 26.04.2010, Бюл.№ 8, 2010 р. (72) НАГАЙЧУК ВІКТОРІЯ ВАСИЛІВНА (73) ВІННИЦЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ МЕДИЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ ІМ.М.І.ПИРОГОВА Комп’ютерна верстка І.Скворцова Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for dermabrasion in dermal superficial burns of head-and-neck area
Автори англійськоюNahaichuk Viktoria Vasylivna
Назва патенту російськоюСпособ дермабразии при дермальных
Автори російськоюНагайчук Виктория Васильевна
МПК / Мітки
МПК: A61B 17/00
Мітки: голови, дермальних, ши, дермабразії, поверхневих, опіках, спосіб
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/1-49376-sposib-dermabrazi-pri-dermalnikh-poverkhnevikh-opikakh-golovi-shi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб дермабразії при дермальних поверхневих опіках голови, шиї</a>
Попередній патент: Спосіб корекції порушень ліпідного обміну у осіб похилого та старечого віку з гіпертонічною хворобою та абдомінальним ожирінням
Наступний патент: Спосіб моделювання внутрішньоплідної дії антигенів
Випадковий патент: Спосіб одержання світловипромінювального матеріалу