Основа для вишивання

Реферат: UA 84159 U UA 84159 U 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Корисна модель належить до декоративно-прикладної техніки й може бути використана при створенні декоративних виробів, зокрема, декоративних панно й інших різноманітних виробів. Мистецтво вишивання відомо давно, але й сьогодні ручна вишивка здатна прикрасити різноманітні вироби, включаючи самий вишуканий одяг, що демонструють на престижних виставках і подіумах, а також скромний побут простих громадян [див. Шиманевская В.В. Вишивка хрестом, крок за кроком, - Харків: Вид-во Книжковий клуб "Клуб Сімейного Дозвілля, 2005, 67с, з ілюстраціями]. Описана в цій книзі техніка проста й доступна. Вона включає використання як основний матеріал канву в сполученні з будь-яким більше щільним матеріалом або, використовуючи замість простої канви двониткову канву, страмін, або тканину з елементами канви. Нескладні мотиви, виконані на такій тканині, виглядають дуже органічно, однак описана вище технологія дозволяє відтворити на тканині порівняно прості композиції із чітко обкресленими східчастими горизонтальними й вертикальними лініями. Контури композицій. виконані на описаних вище основах, завжди мають помітний східчастий характер, що унеможливлює їхнє використання при виконанні складних і тонких візерунків. При роботі з канвою й подібними їй матеріалами необхідно регулярно лічити стібки й нерідко коректувати малюнок по вертикалі й горизонталі для збереження пропорцій малюнка. Відома також основа художньо-декоративного виробу з візерунком у вигляді ґрат канви, нитки якої орієнтовані у взаємно перпендикулярних напрямках, і візерунком для вишивки хрестом [див. опис до патенту на корисну модель № 66278, М.кл. В44С 1/10, опубл. 10.09.2007 p.]. Основа виконана із синтетичного матеріалу й містить попередньо розтягнутий полімерний поліетиленовий матеріал у вигляді плівки товщиною рівної 0,01-0,03 мм, що дає усадку при нагріванні й схильний до деформації заданим образом після нагрівання вище температури її деформації. Також як і в попередньому випадку, контури композицій, виконані на описаній вище основі, завжди мають помітний східчастий характер, що унеможливлює їхнє використання при виконанні складних і тонких візерунків. Варто враховувати, що при роботі з канвою й подібними їй матеріалами, необхідно й не рідко коректувати малюнок по вертикалі й горизонталі для збереження пропорцій малюнка, що особливо буде необхідно у випадку роботи з полімерною розтягнутою плівкою. Крім того, проколювання деяких матеріалів і полімерної плівки, зокрема, вимагає або додаткових зусиль, що ускладнюють і без того монотонну кропітку роботу, або додаткових засобів, що полегшують цю операцію. Відома також основа для рукоділля в складі набору для рукоділля, що містить отвори для вишивання [див. опис до свідоцтва на корисну модель № 21532, М.кл. А63Н 33/00, опубл. 27.01.2002 p.], які виконані у формі щілин, розташованих рядами, або паралельно один одному, або навскіс, при цьому матеріал для основи вибраний з ряду картон, шкіра. органічний полімер, спінений органічний полімер, гума, піногума, додатково покриті твердим матеріалом, а на матеріал основи нанесений малюнок. Описана вище основа для вишивання має простий характер перфорації на твердому матеріалі у вигляді щілин і дозволяє відтворювати малюнок, використовуючи готові отвори, що істотно спрощує роботу з такою основою. Така основа дозволяє працювати з нею навіть дітям, дозволяючи сполучати знаходження навичок рукоділля із грою, викликаючи інтерес до навчання. Однак основа дозволяє створювати дуже прості малюнки, що обмежує її застосування. Найбільш близьким до рішення, що заявляють, по призначенню, технічній суті й результату, що досягають, при використанні є аркушевий матеріал, що має безліч отворів, що утворюють ряди перфорації для одержання голкопробивного характеру матеріалу [див. опис до патенту США № 4 404 750, М.кл. D03D 29/00, опубол.20.09.1983 p.], з еластичного матеріалу подібного тканому, у якому, принаймні одна поверхня згаданого аркуша плоска, а згадані перфорації мають стінки отворів у формі усіченої піраміди. Аркушевий матеріал, що має безліч отворів рівномірно розташованих по площині матеріалу, забезпечує можливість створювати складні композиції, звільняє від необхідності проколювати еластичний матеріал. Однак рівномірний розподіл отворів у горизонтальному й вертикальному напрямках забезпечує одержання матеріалу подібного з канвою. У цьому випадку вишиті на ньому вироби будуть мати ті ж недоліки, що й вироби, отримані з використанням канви, тобто контури композицій, виконані на описаній вище основі, будуть мати помітний східчастий характер, у зображенні будуть присутні тільки прямі вертикальні й горизонтальні лінії, що виключає можливість створення складних композицій з різноманітними технічними засобами. 1 UA 84159 U 5 10 15 20 25 30 35 40 Тому метою технічного рішення, що заявляють, є створення основи для вишивання, яка розширять можливості техніки ручного й машинного вишивання і забезпечить зниження витрат, можливість створення складних художніх композицій при використанні графічних і схемних фігур і контурів. В основу корисної моделі поставлена задача вдосконалення основи для вишивання, у якій внаслідок виконання в матеріалі основи отворів, що утворюють ряди перфорації зорієнтованих вздовж прямих і довільних ліній, що створюють фігури й/або контури зображення, що вишивають, при цьому групи отворів і ліній виконані з отворів річного або одного діаметра з різним кроком, забезпечується новий технічний результат. Він полягає в розширенні можливості використання різноманітних технік вишивання на одній основі, включаючи сполучення перфорованих і неперфорованих ділянок в одній композиції. Поставлена задача вирішується тим, що у відомій основі, що містить безліч отворів, що утворюють ряди перфорації, відповідно до корисної моделі, у матеріалі основи виконані групи отворів зорієнтованих вздовж прямих і довільних ліній, що створюють фігури й контури вишиваного зображення, при цьому групи отворів і лінії виконані з отворів різного або одного діаметра, з різним кроком. Згідно з корисною моделлю групи отворів виконані у формі суцільного перфорованого поля основи. Згідно з корисною моделлю групи отворів виконані у формі перфорованих полів, що включають неперфороване одне або кілька полів. Згідно з корисною моделлю фігури й контури виконані на лицьовій поверхні матеріалу основи у формі графічного зображення (малюнка). Згідно з корисною моделлю фігури й контури виконані на лицьовій поверхні матеріалу основи у формі схеми для вишивання. Згідно з корисною моделлю фігури й контури виконані на лицьовій поверхні матеріалу основи у формі графічного зображення (малюнка) і схеми для вишивання. Згідно з корисною моделлю як матеріал основи використані моношарові або багатошарові, текстуровані або однорідні плоскі структури. Пропоноване технічне рішення в цілому принципово відрізняється від відомих тим, що забезпечує можливість створювати складні художні композиції, опираючись на сукупність отворів, розташованих яким завгодно образом так, що утворюють які завгодно фігури, сукупність кривих або прямих як завгодно зорієнтованих ліній, звільняючи від необхідності постійно стежити за розташуванням отворів на основі, вести підрахунок вертикальних і горизонтальних рядків. При цьому знижується стомлюваність при ручному, й підвищується якість при машинному способі вишивання, що веде до підвищення продуктивності й зниженню вартості виробів. Технічне рішення, що заявляють, представлене в таблицях, на фігурах і в описах прикладів здійснення вишивок і способів. Таблиця № 1 Вишивання нитками стібок і "напівхрест". Таблиця № 2 Вишивання бісером. Таблиця № 3 Вишивання стеклярусом (скляні трубочки). Таблиця № 4 Вишивання каменями (стразами). 2 UA 84159 U Таблиця 1 Вишивання нитками, стібок "хрест" і "напівхрест" Нитки для ручного вишивання "Муліне" Вишивка нитками "Муліне" по канві Номери Канва, що голок, що Кільрекомендує, Отвору рекоменкість для вишив канві дують, ниток вання для вишивання Пристрій Відстань між отворами в канві Діаметр голки Позначення на фігурах Відстань між осьовими отворів Позначення на фігурах Розмір отвору Номінальна лінійна щільність, текс (структура) 191(16,5*2) шт. № кліток/10 см d, мм № мм d, мм L мм d мм 5-6 8 31 1-1,2 22-20 3,23 3,2 2,3 191(16,5*2) 4-5 11 43 0,8-0,9 22-24 2,33 2,3 1,42 191(16,5*2) 2-3 14 55 0,5-0,49 24-26 1,82 L2 1,8 d2 1,5 191(16,5*2) 191(16,5*2) 2 1 16 18 63 71 26-28 28 1,57 1,41 1,57 1,41 1,2 1 191(16,5*2) 1 22 86 0,2-0,25 0,18-0,2 0,170,18 0,94-2 0,941,42 0,611,42 0,61-1 1 28 1,16 1 1,16 1 Таблиця 2 Вишивання бісером Вишивка бісером Отвір Бісер Голки для вишивання бісером Розмір голки Позначення на фігурах № мм мм № d мм L 0/15 0/12 0/10 0/11 0/9 0/8 0/6 0/5 0/1 1,5 1,9 2,3 2-2,2 2,6 3 3,6-4 5 6,5 0,7-1,2 0,7-1,2 0,7-1,2 0,8-1,2 1,2 1,1 1,5 2 2,9 10 11 12 10-12 10-12 10-12 10-12 10-12 10-12 0,45 0,45 0,45 0,45 0,45 0,45 0,45 0,45 0,45 L1 3 Відстань між отворами вишивання уздовж прямих По вертикалі й по горизонталі мм 1,6 2 2,4 2,1-2,3 2,7 3,1 3,7-4,1 5,1 6,6 Пристрій Відстань між отвоПознарами чення на вишифігурах вання уздовж кривих Позначення на фігурах Розмір отвору L мм d мм 1,5 1,9 2,3 2-2,2 2,6 3 3,6-4 5 6,5 d1 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 UA 84159 U Таблиця 3 Вишивання стеклярусом (скляні трубочки). Стеклярус Пристрій Довжина трубочок мм Зовнішній діаметр трубочок Діаметр отвору Позначення на фігурах мм мм d, мм L 3 6 12 20 30 1,5 1,7 2,4 2,4 3 0,7 0,8 1,1 1,2 1,2 Відстань між отворами вишивання уздовж прямих По вертикалі 4 7 13 21 31 По горизонталі мм 2 2,2 2,9 2,9 3,5 Позначення на фігурах відстань між отворами вишивання уздовж кривих Позначення на фігурах Розмір отвору L мм d мм 4 7 13 21 31 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 Таблиця 4 Вишивання каменями (стразами). Пришивні акрилові камені (стрази) Пристрій Відстань Відстань Розмір Діаметр Позначення Позначення Діаметр Форма каменів між між каменів отворів на фігурах на фігурах отворів отворами отворами мм мм мм d мм L мм "коло" 7 5 0,6 5 0,6 "квадрат" 4 0,6 4 0,6 66 7 0,8 7 0,8 1010 "прямокутник" 7 0,8 7 0,8 810 "овал" 12 0,8 12 0,8 1014 5 10 15 20 25 Фіг. 1 Основа для вишивання у формі суцільного перфорованого поля без малюнка, без графічного зображення. Фіг. 2 Основа для вишивання у формі перфорованих і неперфорованих полів без графічного зображення. Фіг. 3 Основа для вишивання у формі перфорованих і неперфорованих полів із графічним зображенням на лицьовій поверхні у вигляді малюнка. Фіг. 4 Основа для вишивання у формі перфорованих і неперфорованих полів із графічним зображенням на лицьовій поверхні у вигляді схеми для вишивання. Фіг. 5 Основа для вишивання у формі перфорованих і неперфорованих полів із графічним зображенням на лицьовій поверхні у вигляді малюнка й схеми для вишивання. У таблицях 1.2, 3, 4 показані характерні варіанти значень діаметрів отворів і відстаней між ними. Діаметр отворів пристрою визначається діаметром голки, що використовують при роботі з матеріалами для вишивання й кількістю ниток в одному стібку при вишиванні нитками. Приклад 1. Основа для вишивання фіг. 1 являє собою матеріал 1, па якому виконані численні отвори 2, що утворюють групи отворів, наприклад 3 і 4, орієнтованих відносно прямих ліній, і групи отворів, наприклад 5, орієнтованих відносно кривих ліній. Отвори групи 3 мають діаметр d1=0,5 мм (див. таблицю № 2 - вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером № 11, голка № 10, вишивання вздовж прямих), відстань між осьовими отворів L 1=2,3 мм. Отвори групи 4 мають діаметр d2=1 мм (див. таблицю № 1 - вишивання нитками, пристрій для вишивання хрестом відповідає канві № 14, вишивання голкою № 22), відстань між осьовими отворів L2=1,8 мм. Отвори групи 5 мають діаметр d1=0,5мм, (див. таблицю № 2 - вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером № 11, голка № 10, вишивання вздовж кривих), відстань між осьовими отворів L3=2 мм. Усе поле основи заповнене отворами. 4 UA 84159 U 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 Приклад 2. Основа для вишивання фіг. 2 являє собою матеріал 1, на якому виконані численні отвори 2, що утворюють групи отворів, наприклад 4, орієнтовані відносно прямих ліній, і групи отворів, наприклад 5, орієнтовані відносно кривих ліній. Групи отворів 4 мають діаметр d2=1 мм (див. таблицю № 1 - вишивання нитками, пристрій для вишивання хрестом відповідає канві № 14, вишивання голкою № 22), відстань між осьовими отворів L 2=1,8 мм. Отвори групи 5 мають діаметр d1=0,5 мм, (див. таблицю № 2 - вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером №и 11, голка №и 10, вишивання уздовж кривих), відстань між осьовими отворів L3=2 мм. Більша частина основи 1 перфорована отворами 4 і 5, частина основи 6 не має перфорації. Приклад 3. Основа для вишивання фіг. 3 являє собою матеріал 1, на якому виконані численні отвори 2, що утворюють групи, наприклад, 4 отворів, орієнтованих відносно прямих ліній, і групи отворів, наприклад 5, орієнтованих відносно кривих ліній. Групи отворів 4 мають діаметр d2=1 мм (див. таблицю № 1 вишивання нитками; пристрій для вишивання хрестом відповідність канві № 14, вишивання голкою № 22), відстань між осьовими отворів L2=1,8 мм; отвори групи 5 мають діаметр d1=0,5 мм (див. таблицю № 2 вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером № 11, голкою № 10, вишивання вздовж кривих), відстань між осьовими отворів L2=2 мм. На лицьову поверхню основи нанесене графічне зображення 7 (малюнок). Основна частина основи 1 перфорована групами отворів 4 і 5, частина основи 6 і 7, відповідно до графічного зображення 8 (малюнком), не має перфорації. Приклад 4. Основа для вишивання фіг. 4 являє собою матеріал 1, на якому виконані численні отвори 2, що утворюють групи отворів, наприклад 3 і 4, орієнтованих відносно прямих ліній, і групи отворів, наприклад 5, орієнтованих відносно кривих ліній. Отвори групи 3 мають діаметр d1=0,5 мм (див. таблицю № 2 - вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером № 11, голка № 10, вишивання вздовж прямих), відстань між осьовими отворів L 1=2,3 мм. Отвори групи 4 мають діаметр d2=1 мм (див. таблицю № 1 - вишивання нитками, пристрій для вишивання хрестом, відповідає канві № 14, вишивання голкою № 22), відстань між осьовими отворів L1=1,8 мм. Отвори групи 5 мають діаметр d1=0,5 мм (див. таблицю № 2 - вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером № 11, голка № 10, вишивання вздовж кривих), відстань між осьовими отворів L1=2 мм. На лицьову поверхню основи нанесене графічне зображення 9 (схема для вишивання). Усе поле основи заповнене отворами. Приклад 5. Основа для вишивання фіг. 5 являє собою матеріал, на якому виконані численні отвори 2, що утворюють групи отворів, наприклад 4, орієнтованих відносно прямих ліній, і групи отворів, наприклад 5, орієнтованих відносно кривих ліній. Групи отворів 4 мають діаметр d 2=1 мм (див. таблицю № 2 - вишивання бісером, пристрій для вишивання бісером № 11, голка № 10, вишивання вздовж кривих), відстань між осьовими отворів L3=2 мм. На лицьову поверхню основи нанесене графічне зображення 8 (малюнок). На лицьову поверхню основи нанесене графічне зображення 9 (схема для вишивання). Більша частина основи 1 перфорована групами отворів 4 і 5, частина основи 6 відповідно до графічного зображення 8 (малюнком) не має перфорації. Як матеріал основи можуть бути вибрані моношарові або багатошарові, текстуровані або однорідні структури, приклади яких А-Е наведені далі. Приклад А, тканини натуральні синтетичні тканини високої щільності, тканини натуральні й синтетичні в тому числі дубльовані термоклейованими тканими й нетканими матеріалами, тканини спеціальні, із просоченнями, наприклад, ролетні тканини для жалюзі, високоапретовані тканини, тканини з високою щільністю за рахунок різноманітних просочень, тканина із ґрунтованою поверхнею, тканини з покриттям, наприклад, дермантин (бавовняно-паперова тканина з нітроцелюлозним покриттям), нанесений на одну або дві сторони тканини; Приклад Б, шкіра й замінники шкіри: шкіра натуральна, рецикльована шкіра, дермантин (гранітоль), кирза, полівенілхлорид, стрейч шкіра, шкірозамінник. Приклад В, композиційні матеріали: волокнисті (армуючий компонент - волокнисті структури), наприклад, банерні тканини (армуюча сітка із ПВХ, наповнювачі вінілові полімери); гетинакс і текстоліт (шаруваті пластики з паперу або тканини, склеєної термореактивним клеєм); скло- і графітопласт (тканина або намотане волокно зі скла або графіту, просочені епоксидними клеями); шаруваті, наприклад, фанера; клейонка (масляна, полівінілхлоридна), будь-які ткані основи з нанесеними пластиками, ПВХ покриттями, банерна тканина, ламінований картон. Приклад Г, папір, синтетичний папір, картон Приклад Д, тверді листові матеріали: пластики листові, стекло, органічне скло, пластики поліпропіленові, пвх-пластики, піногума, піногума із пвх-покриттям, шпона, фанера, ДСП (деревинно-стружкова плита) ДВП(деревинно-волокниста плита) різної товщини, ДСП ламінована, ДВП ламінована, метали листові різної товщини. Приклад Е, натуральні природні матеріали: дерево, шкіра, камінь. 5 UA 84159 U 5 Як основу можуть бути використані будь-які варіанти композиціювання перерахованих вище матеріалів, використовуючи технології холодного або гарячого склеювання, до або після вишивання основи З виправленням на технологію виготовлення отворів, для основи може бути використаний будь-який аркушевий матеріал придатний для виготовлення в ньому отворів. Як видно з опису суті технічного рішення корисної моделі і прикладів їхнього здійснення, вона дозволяє розширити можливості техніки ручного й машинного вишивання і забезпечити зниження витрат при створенні складних художніх композицій й використанні графічних і схемних фігур і контурів. 10 ФОРМУЛА КОРИСНОЇ МОДЕЛІ 15 20 25 1. Основа для вишивання, що містить отвори, які утворюють ряди перфорації, яка відрізняється тим, що групи отворів орієнтовані вздовж прямих і довільних ліній, що створюють фігури й контури вишиваного зображення, при цьому групи отворів і ліній виконані з отворів різного або одного діаметра, з різним або одним кроком. 2. Основа за п. 1, яка відрізняється тим, що групи отворів виконані у формі суцільного перфорованого поля основи. 3. Основа за п. 1, яка відрізняється тим, що групи отворів виконані у формі перфорованих полів, що включають неперфороване одне або кілька полів. 4. Основа за п. 1, яка відрізняється тим, що на лицьову поверхню матеріалу основи нанесене графічне зображення (малюнок). 5. Основа за п. 1, яка відрізняється тим, що на лицьову поверхню матеріалу основи нанесена схема для вишивання. 6. Основа за п. 1, яка відрізняється тим, що на лицьову поверхню матеріалу основи нанесене графічне зображення (малюнок) і схема для вишивання. 7. Основа за п. 1, яка відрізняється тим, що як матеріал основи використані моношарові або багатошарові, текстуровані або однорідні плоскі структури. 6 UA 84159 U 7 UA 84159 U Комп’ютерна верстка А. Крулевський Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 8