Плазмовий пальник з бічним інжектором

Реферат: Винахід стосується плазмового пальника, який містить: плазмотрон, що проходить уздовж осі X катодом і анодом (24), причому зазначені катод і анод розташовані з можливістю створення, за допомогою електричної напруги, електричної дуги між анодом і катодом в камері (26), причому плазмотрон додатково містить інжектор (30) для інжекції плазмоутворюючого газу, що містить інжекційний канал (72), що проходить уздовж осі (Іі) інжекції і сполучається з вказаною камерою за допомогою інжекційного отвору (74); та засоби інжекції напилюваного матеріалу в створюваний зазначеним плазмотроном потік плазми, при цьому зазначений плазмовий пальник відрізняється тим, що: співвідношення R" між радіальною відстанню (уі) зазначеного інжекційного отвору, що являє собою мінімальну відстань, яка відділяє вісь X від центру зазначеного інжекційного отвору, і максимальним поперечним розміром (D C) катода в області камери нижче за потоком від положення рAC, відповідного осьового положення максимального радіального зближення анода і катода, становить менше 2,5; при цьому проекція осі (I i) інжекції в поперечній площині, що проходить через центр інжекційного отвору зазначеного інжекційного каналу, і з радіусом, що проходить у вказаній поперечній площині через вісь X і центр зазначеного інжекційного отвору, утворюють кут  менше 45°. UA 103233 C2 (12) UA 103233 C2 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Галузь техніки Винахід стосується плазмотрону і плазмового пальника, в якому використано вказаний плазмотрон. Рівень техніки Процес плазмового напилення зазвичай використовують для нанесення покриття на підкладку. Він по суті полягає у створенні електричної дуги, вдмухуванні через створену електричну дугу плазмоутворюючого газу з утворенням високотемпературного і високошвидкісного потоку плазми, і подальшої інжекції в отриманий потік напилюваних на підкладку частинок. Напилювані частинки звичайно, щонайменше частково розплавляються в плазмі, що при подальшому охолодженні забезпечує щільне зчеплення часток один з одним і з підкладкою. Даний спосіб можна використовувати для нанесення покриття на поверхню підкладки з металу, кераміки, металокераміки, полімеру, органічного або композитного матеріалу, зокрема, містить органічну матрицю. Зокрема, даний спосіб використовують для покриття деталей різної форми, наприклад плоских або вісьосиметричних деталей, зокрема циліндричних деталей, або деталей складної геометричної форми; при цьому деталі можуть мати різні розміри, з єдиною умовою, що повинна бути забезпечена доступність для потоку частинок. Плазмове напилення використовують, наприклад, для надання поверхні підкладки заданих властивостей, наприклад зносостійкості, для зміни коефіцієнта тертя, отримання термічного бар'єру або електричної ізоляції. Плазмове напилення застосовується також для виготовлення масивних деталей способом плазмового формування, завдяки якому вдається наносити покриття товщиною в кілька міліметрів і навіть більше 10 мм. Плазмові пальники, або плазмотрони, описані, зокрема, в патентних документах WO 96/18283, US 5406046, US 5332885, WO 01/05198 або WO 95/35647, або US 5420391. Бажано, щоб плазмові пальники, застосовані в промисловості, характеризувалися наступними експлуатаційними показниками: - висока продуктивність напилення, що визначається як кількість матеріалу, нанесеного за високий коефіцієнт напилення, який визначається як масовий відсоток або процентне співвідношення між кількістю нанесеного матеріалу і кількістю матеріалу, інжектованих в потік плазми; - максимально високу якість покриття, зокрема, можливість отримання однорідного і відтвореного покриття, у тому числі з високою витратою матеріалу; - мінімальне споживання енергії; - мінімально можливий час техобслуговування і максимальна тривалість інтервалів між двома операціями техобслуговування; - зниження забруднення при руйнуванні матеріалу катода. Одним із завдань цього винаходу є створення плазмового пальника, яка щонайменше частково задовольняла б перерахованим вище критеріям. Стислий опис винаходу Для виконання поставленого завдання запропонований плазмотрон, що містить: катод і анод, який проходить уздовж осі X, причому зазначені катод і анод розташовані з можливістю створення, під дією електричної напруги, електричної дуги в камері між анодом і катодом; інжектор для інжекції плазмоутворюючого газу, що містить інжекційний канал, з'єднана з зазначеною камерою за допомогою інжекційного отвору. У першому основному варіанті здійснення співвідношення R між осьовою відстанню х, відокремлює осьове положення рАС мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом від осьового положення pі зазначеного інжекційного отвору, і максимальним поперечним розміром DС катода в області камери нижче за потоком від положення рАС, дугової камери, становить менше 3,2, переважно менше 2,5 і/або більш 0,5. У другому основному варіанті здійснення співвідношення R' між осьовою відстанню х’, відокремлює осьове положення рС нижнього за потоком кінця катода від осьового положення pi зазначеного інжекційного отвору, і максимальним поперечним розміром D C катода в дуговій камері становить менше 3,5, переважно менше 3, 0 і/або більш 1,2. У третьому основному варіанті здійснення співвідношення R" між радіальною відстанню yі зазначеного інжекційного отвору, що є мінімальною відстанню, яка відділяє вісь X від центру зазначеного інжекційного отвору і максимальним поперечним розміром D С катода в дуговій камері становить менше 2,5, переважно більш 1, 25. 1 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Автори винаходу виявили, що заявлений плазмотрон, незалежно від конкретного основного варіанту здійснення, дозволяє, при малому споживанні електроенергії та малому забрудненні катодом, виконувати напилення з вельми високою продуктивністю і коефіцієнтом напилення. Зокрема, конструкція за третім основним варіантом здійснення дозволяє досягти дуже високих експлуатаційних показників при обертанні навколо катода потоку плазмоутворюючого газу з утворенням вихору. Переважно будь-який з основних варіантів здійснення заявленого плазмотрона може містити щонайменше одну ознаку інших основних варіантів здійснення. Крім того, будь-який з основних варіантів може мати щонайменше один з таких додаткових ознак: у групі інжекційних отворів зазначеного інжектора вказаний інжекційний отвір є тим отвором або одним з тих отворів, що займають найнижче за потоком осьове положення; осьова відстань х переважно менше 25 мм, переважно менше 18 мм та/або переважно більше 5 мм, зокрема, добре підходить відстань х приблизно 13 мм; осьова відстань х' переважно менше 30 мм, переважно менше 25 мм та/або переважно більше 9 мм, навіть більше 15 мм, зокрема, добре підходить відстань х' приблизно 20 мм; радіальна відстань yi переважно менше 27 мм, переважно менше 20 мм, навіть менше 15 мм та/або переважно більше 6 мм, навіть більше 10 мм, зокрема, добре підходить відстань у приблизно 12 мм; осьова відстань х", що відділяє осьове положення р AС від осьового положення рA найнижчого за потоком точки анода, переважно менше 60 мм, переважно менше 50 мм та/або переважно більше 30 мм, зокрема, добре підходить відстань х" приблизно 45 мм; співвідношення R'" між мінімальною радіальною відстанню уAC між анодом і катодом в осьовому положенні pAC і максимальним поперечним розміром DC катода в дуговій камері переважно менше 1,25, переважно менше 0,5, і переважно більше 0,1, переважно більше 0, 2, зокрема, добре підходить співвідношення R'" приблизно 0,3; інжектор забезпечений безліччю інжекційних отворів, при цьому для кожного із зазначених отворів вірна принаймні одна з умов, переважно ’ всі умови, накладені на співвідношення R, R і R" і на відстані х, х', х" і у. В якості інжектора використаний описаний нижче заявлений інжектор. На вільному кінці катода є конічна ділянку, переважно загостреною або округленої форми. Кут  при вершині зазначеної конічної ділянки переважно більше 30°, краще більше 40° і/або менше 75°, переважно менше 60°. Довжина конічної ділянки вздовж осі катода переважно більше 3 мм і/або менше 5 мм, переважно менше 8 мм. Максимальний діаметр зазначеної конічної ділянки (біля основи ділянки) переважно більше 6 мм, переважно більше 8 мм і/або менше 14 мм, переважно менше 10 мм. У кращому варіанті вільний кінець конічної ділянки округляє, при цьому радіус кривизни вільного кінця переважно більше 1 мм і/або менше 4 мм. На катоді, переважно безпосередньо вище за потоком від конічної ділянки, є циліндрична ділянка з кращою довжиною більше 5 мм, переважно більше 8 мм і/або менше 50 мм, переважно менше 25 мм, переважно менше 20 мм, переважно менше 15 мм. Циліндрична ділянка має переважно круглий перетин діаметром більше 4 мм, переважно більше 6 мм, переважно більше 8 мм, і/або менше 20 мм, переважно менше 14 мм, більш переважно менше 10 мм. Діаметр циліндричної ділянки переважно по суті дорівнює максимальному діаметрові конічної ділянки, таким чином, що циліндрична ділянка є продовженням конічної ділянки. Переважно на катоді безпосередньо вище за потоком від циліндричної ділянки, усіченоконічна ділянка, переважно проходить до задньої частини (поз. 59 на фіг. 2) камери, в якій створюють електричну дугу. Переважно кут  при вершині зазначеної усічено-конічної ділянки більше 10°, переважно більше 30° і/або менше 90°, переважно менше 45°. Довжина усіченоконічної ділянки може перевищувати 5 мм та/або бути менше 15 мм. Переважно максимальний діаметр усічено-конічної ділянки більше 6 мм, переважно більше 10 мм і/або менше 30 мм, переважно менше 20 мм, більш переважно менше 18 мм і/або мінімальний діаметр зазначеної усічено-конічної ділянки більше 4 мм, переважно більше 6 мм, переважно більше 8 мм і/або менше 20 мм, переважно менше 14 мм, більш переважно менше 10 мм. Переважно мінімальний діаметр дорівнює діаметру циліндричної ділянки, таким чином, що усічено-конічна ділянка продовжує циліндричну ділянку. В одному з варіантів здійснення довжина конічної ділянки менше довжини циліндричної ділянки, при цьому співвідношення між довжиною конічної ділянки і довжиною циліндричної ділянки може становити, зокрема, більше 0,5 і/або менше 1. В одному з варіантів здійснення довжина циліндричної ділянки по суті дорівнює довжині усічено-конічної ділянки. Переважно на катоді є циліндрична ділянка переважно круглого перетину, переважно співосно продовжений, який заходить в дугову камеру конічною ділянкою. Крім того, на катоді 2 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 переважно є усічено-конічна ділянка, співосно продовжений циліндричною ділянкою переважно круглого перетину, переважно продовжений, який заходить в дугову камеру конічною ділянкою. Переважно на катоді є усічено-конічна ділянка, при цьому щонайменше одна, переважно всі інжекційні отвори розташовані щонайменше в одній поперечній площині, що розрізає вказану усічено-конічну ділянку. В одному з варіантів здійснення всі інжекційні отвори знаходяться в одній поперечній площині, яку можна розмістити, наприклад, на деякій відстані від основи усічено-конічної ділянки (відповідає максимальному діаметру усічено-конічної ділянки), що становить від 30 % до 90 %, переважно від 40 % до 70 % довжини усічено-конічної ділянки. В якості катода використаний плазмовий катод з обдуванням дуги, переважно гарячий стрижневий катод. В одному з варіантів здійснення катод виконаний у вигляді цільної деталі, тобто виготовлений з однорідного матеріалу. В іншому варіанті катод містить вольфрамовий стрижень і мідну частину, при цьому зазначений вольфрамовий стрижень вставлений у вказану мідну частину. Камера містить верхню за потоком циліндричну частину і/або проміжну частину, яка звужується (звужується в напрямку вниз за потоком), і/або нижню за потоком циліндричну частину. Проміжну частину, яка звужується можна виконати, зокрема, усічено-конічної або містить безліч усічено-конічних частин, зокрема, дві усічено-конічні частини, співосно продовжують один одного (тобто, без сходинки переходу між зазначеними усічено-конічними частинами). Переважно кут 1 при вершини першого усічено-конічної частини вище за потоком від другої усічено-конічної частини більше кута 2 при вершині вказати другу усічено-конічної частини. Кут 1 при вершині може, зокрема, складати 50-70°. Кут при вершині 2 може, зокрема, складати 10-20°. Переважно камера містить послідовно розташовані в напрямку зверху вниз за потоком і співвісну один одному верхню за потоком циліндричну частину, проміжну звужену і нижню за потоком циліндричну частину. Бажана довжина верхньої за потоком циліндричної частини більше 5 мм і/або менше 40 мм, переважно менше 20 мм. Бажана довжина проміжної звуженої частини більше 10 мм і/або менше 80 мм, переважно менше 40 мм і переважно більше 20 мм і/або менше 30 мм. Бажана довжина нижньої за потоком циліндричної частини більше 10 мм і/або менше 80 мм, переважно менше 40 мм і переважно більше 20 мм і/або менше 30 мм. Переважний діаметр верхньої за потоком циліндричної частини більше 10 мм, переважно більше 15 мм і/або менше 70 мм, переважно менше 40 мм, переважно менше 30 мм. Максимальний діаметр проміжної звуженої частини (основи) більше 15 мм і/або менше 40 мм, переважно менше 25 мм. Переважний діаметр верхньої за потоком циліндричної частини більше максимального діаметра проміжної звуженої частини, так щоб між зазначеними двома частинами була утворена сходинка. Мінімальний діаметр проміжної звуженої частини більше 4 мм, переважно більше 5 мм і/або менше 20 мм, переважно менше 12 мм, переважно менше 9 мм. Діаметр нижньої за потоком циліндричної частини більше 4 мм, переважно більше 5 мм і/або менше 20 мм, переважно менше 12 мм, більш переважно менше 9 мм. Більш переважно, щоб мінімальний діаметр проміжної звуженої частини по суті дорівнював діаметру нижньої за потоком циліндричної частини, так щоб нижня за потоком циліндрична частина могла бути продовженням проміжної звуженої частини. Довжина верхньої за потоком циліндричної частини більша довжини усічено-конічної ділянки катода. Більш переважно, щоб сума довжин верхньої за потоком циліндричної частини і проміжної звужується частині була більше довжини катода в камері. В одному з варіантів здійснення вільний кінець катода заходить по суті на половину довжини проміжної звужується частині камери. Зокрема, катод може заходити в проміжну звужується на відстань від її заснування, що становить 30-70 %, переважно 40-60 % довжини проміжної звужується частини. Додатково винахід стосується інжектору плазмоутворюючого газу, призначеного для створення вихору навколо катода, зокрема, потоку, який заходить в дугову камеру нижньої частини катода. Заявлений інжектор може мати щонайменше один з таких додаткових ознак: інжектор розміщений вище за потоком від заходить в дугову камеру частини катода, зокрема, інжектор можна розташувати на верхньому за потоком кінці камери; інжектор містить щонайменше один інжекційний канал, переважно щонайменше чотири інжекційних канали, навіть щонайменше вісім інжекційних каналів; діаметр інжекційного отвору інжекційного каналу переважно більше 0,5 мм і/або менше 5 мм, переважно приблизно 2 мм; інжекційний канал розташований таким чином, що проекція осі інжекції в радіальній площині, що 3 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 проходить через центр інжекційного отвору зазначеного інжекційного каналу, утворює з віссю X кут  більше 10°, більше 20° і менше 70° або менше 60°; інжекційний канал розташований таким чином, що в зібраному стані, в якому інжектор встановлений в плазмотроні з віссю X, проекція осі інжекції в поперечній площині, що проходить через центр інжекційного отвору зазначеного інжекційного каналу, утворює з радіусом, що проходить у вказаній поперечній площині через вісь X і центр зазначеного інжекційного отвору, кут  менше 45°, переважно менше 30° і/або більше 5°, переважно більше 10°, навіть більше 20°; безліч інжекційних каналів, переважно всі інжекційні канали, мають однакові значення х і/або х', і/або  і/або ; інжектор виконаний у вигляді кільця, переважно витягнутого уздовж поперечної площині; віссю кільця є вісь X; інжектор забезпечений безліччю інжекційних отворів, розподілених під рівними кутами навколо осі X. Додатково винахід стосується плазмового пальника, що містить: заявлений плазмотрон; засоби інжекції напилюваного матеріалу в створюваний зазначеним плазмотроном потік плазми. Засоби інжекції напилюваного матеріалу можуть сполучатися з внутрішньою частиною плазмотрона, зокрема з внутрішнім простором дугової камери, або з простором зовні плазмотрона, зокрема, на виході дугової камери. Зазначені засоби інжекції напилюваного матеріалу можна встановити з забезпеченням інжекції напилюваного матеріалу вздовж осі в радіальній площині (що проходить через вісь X), що утворює з площиною, розташованої поперек осі X, кут  з абсолютним значенням менше 40°, менше 30°, менше 20°; зокрема, добре підійде кут менше 15°. Короткий опис креслень Інші ознаки та переваги винаходу пояснені в докладному нижче описі з посиланнями на супровідні креслення, на яких: фіг. 1 показує поздовжній перетин плазмового пальника згідно одного з варіантів здійснення; фіг. 2 показує частину конструкції з фіг. 1; фіг. 3а та 3b показує поздовжній і поперечний перетин (по площині А-А з фіг. 3а) інжектора плазмоутворюючого газу, що використовується в плазмовому пальнику з фіг. 1; фіг. 7а показує поздовжній перетин інжектора плазмоутворюючого газу, що використовується у варіанті плазмового пальника з фіг. 6; при цьому фіг. 7b і 7с показують поперечні перерізи зазначеного інжектора площинами відповідно А-А і В-В з фіг. 7а; фіг. 4, 5, 6 і 8 показують поздовжний перетин варіантів заявленого плазмового пальника; фіг. 9 показує катод згідно одного з кращих варіантів здійснення; фіг. 10 показує анод згідно одного з кращих варіантів здійснення. На різних кресленнях для позначення однакових або схожих компонентів використані однакові номери позицій. Детальний опис і креслення мають ілюстративний, не обмежувальний характер. Використані терміни В рамках цього опису терміни "вище/верхній за потоком" і "нижче/нижчий за потоком" дані щодо направлення протікання потоку плазмоутворюючого газу. Термін "поперечна площина" стосується площини, перпендикулярної осі X. Термін "радіальна площина" стосується площини, що містить вісь X. Під терміном "осьове положення" слід розуміти положення уздовж осі X. Іншими словами, осьове положення точки відповідає нормальній проекції цієї точки на вісі X. Осьове положення рAC мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом є положення на осі X поперечної площини, відповідно мінімальної відстані між анодом і катодом. Вказаній радіальній (тобто, виміряна у радіальній площині) відстані відповідає термін "мінімальна радіальна відстань" і символ уAС, як показано на фіг. 2. Якщо відстань між анодом і катодом є мінімальною в безлічі поперечних площин, положення рAC відповідає положенню самої верхньої за потоком площині. Термін "камера" стосується простору, що проходить від випускного отвору, через який плазма виходить з плазмотрону, в напрямку внутрішньої частини плазмотрону. Камера містить верхню за потоком розширювальну камеру, в яку інжектується плазмоутворюючий газ, і дугову камеру, в якій створюють електричну дугу. Кордон між розширювальною камерою і дугового камерою заданий поперечною площиною в положенні рAC. Максимальний поперечний розмір DC катода в дуговій камері стосується розміру лише тієї частини катода, яка заходить всередину дугової камери. Згідно аналогічного кращого варіанту здійснення, катод містить циліндричну ділянку, яка заходить всередину дугової камери круглого 4 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 перерізу, що закінчується утворюючою вершиною конічної ділянки, то поперечний розмір відповідає діаметру циліндричної ділянки катода. Слова "містить/ який, містить" означають, якщо не обумовлено інакше, "містить/ який, містить щонайменше один". Детальний опис креслень На фіг. 1 показаний плазмовий пальник 10, що містить, як це властиво відомому рівню техніки, плазмотрон 20 і засоби 21 інжекції матеріалу, напилюваного в створюваний плазмотроном 20, потік плазми. Плазмотрон 20 містить катод 22 і анод 24, який проходить уздовж осі X, розташовані із забезпеченням утворення в камері 26 електричної дуги Е під дією електричної напруги, що виробляється за допомогою джерел 28 харчування. Додатково плазмотрон 20 забезпечений інжектором 30 для інжекції плазмоутворюючого газу G в камеру 26. Крім того, вище за потоком від інжектора 30 плазмотрон 20 може містити камеру (не показана) для регулювання тиску або рівномірності тиску плазмоутворюючого газу. Плазмотрон 20 містить корпус 34 для кріплення інших компонентів, в який поміщені: катодотримач 36 з прикріпленим катодом 22; анодотримач 38 з прикріпленим анодом 24; електроізолюючий елемент 40, розміщений між збірним вузлом катододержателя 36 і катода 22 і збірним вузлом анододержателя 38 і анода 24 з забезпеченням електроізоляції між зазначеними вузлами. Як показано на фіг. 1, корпус 34 утворений в основному двома оболонками 34' і 34", впритул охоплюють анодотримач, катодотримач і інжектор. Переважно корпус 34 виконаний у вигляді єдиної деталі. Як показано, наприклад на фіг. 8, в одному з приватних варіантів виготовлення інжектора і анододержателя утворюють єдину деталь. Перевагою використання єдиної деталі є забезпечення більш надійного центрування деталей щодо осі пальника і полегшення збирання та розбирання пальника. Електроізолюючий елемент 40 переважно виготовлений з матеріалу, стійкого до впливу плазмового випромінювання. При цьому характеристики засобів, що використовуються для електроізоляції, можна підбирати залежно від локальної температури. Наприклад, як показано на фіг. 8, в області, не схильної до безпосередньої дії плазми, можна розмістити ізолюючу деталь 41 з зниженим тепловим опором. На катодотримач 36 і анодотримач 38 подається та ж напруга, що і відповідно, на катод 22 і анод 24. При цьому катод 22 і анод 24 є звичайні витратні деталі з міді і вольфраму, а катодотримач 36 і анодотримач 38 виготовлені звичайним чином з мідного сплаву. Позитивна і негативна клеми джерел 28 харчування безпосередньо або опосередковано з'єднані, відповідно, з анодом 24 і катодом 22. Джерело 28 живлення виконане звичайним чином з можливістю створювати між анодом і катодом напругу вище 40 В і/або нижче 120 В. Як показано на фіг. 2, катод 22 в вигляді стрижня з віссю X містить послідовно розташовані в напрямку зверху вниз за потоком і співвісні один одному усічено-конічну ділянку 45 з убуваючим діаметром, циліндричний ділянку 46 з круглим поперечним перерізом і конічну ділянку 48 з округленою вершиною. В одному з варіантів здійснення діаметр циліндричної ділянки більше 5 мм, більше 6 мм і/або менше 11 мм, менше 10мм, при цьому добре підходить діаметр приблизно 8 мм. Позначений DC діаметр циліндричної ділянки 46 називається "діаметром катода" і переважно дорівнює приблизно 8 мм. Осьове положення нижнього за потоком кінця 50 катода 22 далі позначено pC. Катод 22 можна виготовити з вольфраму з додаванням при необхідності легуючої домішки, яка забезпечує зниження роботи виходу електрона з металу катода в порівнянні з роботою виходу електрона з вольфраму. Зокрема, вольфрам можна легувати оксидом торію та/або оксидом лантану, та/або оксидом церію, та/або оксидом ітрію. У порівнянні з катодом з чистого вольфраму, завдяки такому легуванню можна домогтися більшої щільності електричного струму для температури плавлення металу, або зменшення робочої температури на кілька сотень градусів Цельсія. Катод можна виготовити з одного або декількох матеріалів. Наприклад, у варіанті з фіг. 8 катод 22 містить стрижень 22" з легованого чи нелегованого вольфраму і мідну частина 22' для кріплення до катододержателя. Анод 24 виконаний у вигляді втулки з віссю X, внутрішня поверхня якої містить 54 розташовані послідовно в напрямку зверху вниз за потоком усічено-конічну ділянку 56 і циліндричну ділянку 58 круглого перетину. Аналогічно катоду, анод можна виготовити з одного або декількох матеріалів. 5 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 Для зменшення ерозії анода під дією основи дуги плазмового шнура щонайменше частина внутрішньої поверхні 54 анода, зокрема, нижче за потоком від області запалювання дуги (на усічено-конічній ділянці 56), виготовлена з тугоплавкого провідникового металу, переважно вольфраму. Як показано на фіг. 8, можна додатково захистити внутрішню поверхню циліндричної ділянки 58 анода за допомогою покриття або втулки 57, наприклад з вольфраму. Осьове положення анода 24 вибрано таким чином, що частина циліндричної ділянки 46 і конічної ділянки 48 катода 22 розташовані навпроти усічено-конічної ділянки 56, тобто в просторі камери 26, радіальні межі якої задані усічено-конічною ділянкою 56. У варіанті здійснення з фіг. 1 осьове положення рАС знаходиться по суті в місці переходу між циліндричною ділянкою 46 і конічною ділянкою 48 катода 22. Камера 26 містить розташовані послідовно в напрямку зверху вниз за потоком ’ розширювальну камеру 26 , що проходить в осьовому напрямку від задньої частини 59 камери 26 до положення рас, і дугову камеру 26", що проходить в осьовому напрямку від положення р АС до положення рА випускного отвору 60, межі якого задані нижнім за потоком кінцем анода і через який плазма виходить з плазмотрона. Переважно діаметр випускного отвору 60 більше 4 мм, переважно більше 5 мм і/або менше 15 мм, переважно менше 9 мм. Камера 26 може сполучатися з випускним отвором 60 допомогою сопла, переважно проходить вздовж осі X, при цьому сопло може мати діаметр, що змінюється залежно від місця виконання поперечного перерізу, як показано, наприклад на фіг. 4, або бути постійним, як показано на фіг. 1. Інжектор 30, більш детально зображений на фіг. 3а та 3b, виконаний і встановлений таким чином, щоб створювати газовий потік, що обертається навколо циліндричного ділянки 46, навіть навколо конічного ділянки 48 катода 22. Переважно інжектор 30 виконаний у вигляді кільця з віссю X. У бічній стінці 70 зазначеного кільця виконані вісім по суті прямолінійних інжекційних каналів 72, кожен з яких з'єднується з внутрішнім простором кільця за допомогою інжекційного отвору 74. Центр інжекційного отвору 74 задає осьове положення p i і радіальна відстань yi зазначеного інжекційного отвору. Поперечний переріз інжекційного каналу 73 є по суті циліндричним, з діаметром D від 0,5 мм до 5 мм. Радіальна відстань yi між віссю X і центром будь-якого із зазначених інжекційних отворів є постійною, переважно більше 10 мм та/або менше 20 мм; при цьому добре підходить радіальна відстань приблизно 12 мм. Інжекційні отвори 74 розташовані в одній поперечній площині Р (в перетині А-А), мають однаковий діаметр D, однакове осьове положення р (= рi)та однакову радіальну відстань у (= уі). Інжекційний канал 72 проходить крізь бокову стінку в осьовому напрямку кільця і вздовж осі Ii інжекції. Як показано на фіг. 3а, в радіальній площині, що проходить через центр інжекційного отвору 74, проекція осі інжекції Ii і вісь X утворюють кут , рівний 45°. Як показано на фіг. 3b, у площині поперечної проекції, що проходить через центр інжекційного отвору 74, вісь Ii інжекції і радіус, що проходить через вісь X і центр зазначеного інжекційного отвору, утворюють кут , рівний 25°. Інжектор 30 розміщений в розширювальної камері 26'. Осьову відстань між осьовим положенням рАС мінімальної радіальної відстані між катодом 22 і анодом 24 і положенням р інжекційних отворів у найнижчій за потоком площині Р позначено х. Співвідношення між х і діаметром DC циліндричної ділянки 346 катода 22 позначено R (R = рАС/DC). У варіанті здійснення з фіг. 1 або фіг. 2, х дорівнює приблизно 15 мм; співвідношення R дорівнює приблизно 1,88. Осьова відстань між осьовим положенням pC нижнього за потоком кінця 50 катода 22 і ’ положенням р позначено х'. Співвідношення між х і діаметром DC катода 22 позначено R' (R '= x'/DC). У варіанті здійснення з фіг. 1 або фіг. 2, х' дорівнює приблизно 20 мм; співвідношення R' рівне приблизно 2,5. Нарешті, співвідношення між радіальною відстанню у між віссю X і інжекційними каналами 72 і діаметром DC катода 22 позначено R"(R"= y/DC). У варіанті здійснення з фіг. 1 або фіг. 2, у дорівнює приблизно 13 мм; співвідношення R'' дорівнює приблизно 1,63. Не обмежуючись однією теорією, винахідники виявили, що коли принаймні одне із співвідношень R, R' і R" відповідає запропонованим у винаході, плазмовий пальник демонструє досить високі експлуатаційні показники, зокрема, при інжекції плазмоутворюючого газу вище за 6 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 потоком від катода, зокрема, якщо при цьому забезпечено обертання плазмоутворюючого газу навколо катода. Для цього особливо доцільно використовувати заявлений інжектор. Згідно винаходу, плазмоутворюючий газ інжектується дуже близько до нижнього за потоком кінця катода. На такій малій відстані відбувається незначне ослаблення потоку плазмоутворюючого газу, при цьому на момент зустрічі з дугою відбувається деяке охолодження газу. Таким чином збережена висока в'язкість газу, що полегшує підтримання та подовження дуги, і забезпечує тим самим можливість збільшення потужності плазмотрона. Крім того, обертання газу навколо катода дозволяє отримати перевагу у вигляді меншого зношення електродів. В якості плазмоутворюючого газу G, потік якого позначений стрілкою F на фіг. 2, переважно використовували газ, такий як аргон і/або водень, і/або гелій, і/або азот. Додатково плазмотрон 20 забезпечений охолоджуючими засобами, призначеними для охолодження анода 24 і/або катода 22, і/або катододержателя 36, і/або анододержателя 38. До складу зазначених засобів можуть входити, зокрема, засоби, що забезпечують циркуляцію охолоджувальної речовини, наприклад води, переважно в турбулентному режимі, при цьому переважне значення числа Рейнольдса, що визначає турбулентний режим зазначеного рідкого середовища, може перевищувати 3000, і в більш зручному варіанті перевищувати 10000. Зокрема, в анодотримачі 38 можна розмістити камеру охолодження 76 з віссю X, що дає охолоджуючій рідині можливість циркулювати поблизу анода 24. Як показано на фіг. 8, охолоджуючі засоби можуть бути спільними для корпусу 34, анода і катода. Крім плазмотрона 20, плазмовий пальник 10 містить засоби 21 інжекції, в показаному варіанті здійснення розташовані таким чином, щоб інжектувати напилювані частинки поблизу випускного отвору 60 камери 26. Для цього підійдуть будь-які традиційно використовувані засоби інжекції, встановлені усередині або зовні дугової камери 26". Тобто, кошти для інжекції частинок не обов'язково повинні бути встановлені зовні плазмотрона; як показано на фіг. 5, зазначені засоби можуть бути вбудовані в плазмотрон. У варіанті здійснення з фіг. 1 засоби інжекції 21 розташовані таким чином, щоб принаймні частина напилюваного матеріалу була інжектована в напрямку осі X вздовж осі, що утворює з поперечною площиною Р кут , рівний приблизно 0°. На фіг. 8 кут  дорівнює приблизно 15°. На фіг. 9 показаний один з варіантів здійснення катода 22. Катод 22 містить вольфрамовий стрижень 22" і мідну частину 22', при цьому вольфрамовий стрижень 22" вставлений в мідну частину 22'. На катоді є верхня за потоком частина 22а і нижня за потоком частина 22b, призначена для розміщення, відповідно, зовні камери 26 і всередині камери 26 (див., наприклад фіг. 2). У частині опису розглянута тільки нижня за потоком частина 22b. Вільний кінець нижньої за потоком частини 22b утворений конічною ділянкою 82 з округленою вершиною. Радіус кривизни зазначеного кінця більше 1 мм і менше 4 мм. Кут  при вершині зазначеної конічної ділянки складає приблизно 45°. Довжина L 82 зазначеної конічної ділянки 82 уздовж осі катода більше 3 мм і менше 8 мм. Максимальний діаметр D 82 зазначеної конічної ділянки (біля основи ділянки) більше 6 мм і менше 10 мм. На катоді 22 є розташований безпосередньо вище за потоком від конічної ділянки 82 циліндрична ділянка 84 круглого перетину з діаметром, рівним D 82. Довжина L84 циліндричної ділянки 84 більше 5 мм і менше 15 мм. Крім того, безпосередньо вище за потоком від циліндричної ділянки 84 на катоді є усіченоконічна ділянка 86 з кутом у при вершині більше 30° і менше 45°. Довжина L86 усічено-конічної ділянки 86 більше 5 мм і менше 15 мм. Максимальний діаметр D86 усічено-конічної ділянки 86 більше 6 мм і/або менше 18 мм. При цьому мінімальний діаметр усічено-конічної ділянки 86 по суті дорівнює D82, так що усічено-конічна ділянка 86 є продовженням циліндричної ділянки 84. Переважно катод встановлений таким чином, щоб при експлуатації щонайменше одна, переважно всі інжекційні отвори знаходилися в поперечній площині P і, що розрізає вказану усічено-конічну ділянку 86. В одному з варіантів здійснення зазначена площина знаходиться на відстані z від основи усічено-конічної ділянки 86, що становить 30-90 % довжини L86 зазначеної ділянки 86. На фіг. 10 показано один із варіантів здійснення анода 24, що містить першу частину 24а з міді або мідного сплаву і другу частину 24b з вольфраму або вольфрамового сплаву. На фіг. 10 показано один із варіантів здійснення анода 24, що містить першу частину 24а з міді або мідного сплаву і другу частину 24b з вольфраму або вольфрамового сплаву. Друга частина 24b вставлена в першу частину 24а і разом з першою частиною 24а утворює нижню за 7 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 потоком частину камери 26, що проходить нижче за потоком від показаної пунктиром верхньої за потоком циліндричної частини 26а, межі якої задані інжектором 30. Друга частина 24b, зокрема, задає межі дугової камери. Нижня за потоком частина камери 26 містить розташовані послідовно в напрямку зверху вниз за потоком проміжну частину, яка звужується 26b (звужується в напрямку вниз за потоком) і нижню за потоком циліндричну частину 26с. Проміжна частина, яка звужується 26b містить співвісні і продовжуючі один одного першу і другу усічено-конічні частини 26b' і 26b". Кут 1 при вершини першої усічено-конічної частини 26b' вище за потоком від другої усічено-конічної частини на 50-70° більше кута 2 при вершини другої усічено-конічної частини 26b", рівної 10-20°. Довжина L26a верхньої за потоком циліндричної частини 26а становить 5-20 мм. Довжина L26b проміжної звуженої частини 26b дорівнює приблизно 24 мм. ’ Довжина L26b "першої усічено-конічної частини 26b становить 2-10 мм, наприклад, приблизно 5 мм. Довжина L26с нижньої за потоком циліндричної частини 26с становить 20-30 мм. Діаметр D26a верхньої за потоком циліндричної частини 26а більше 10 мм і менше 30 мм. Максимальний діаметр D26b проміжної звуженої частини 26b (основи) становить приблизно 18 мм. Діаметр D26a верхньої за потоком циліндричної частини більше максимального діаметра D 26b проміжної звужується частини, внаслідок чого між зазначеними двома частинами утворена сходинка 80. Мінімальний діаметр L26а проміжної звуженої частини 26b більше 4 мм і менше 9 мм. Діаметр нижньої за потоком циліндричної частини 26с дорівнює d26b. Переважно довжина L26а верхньої за потоком циліндричної частини 26а більше довжини L 86 усічено-конічної ділянки 86 катода 24. Більш переважно сума (L26a + L26b) довжин верхньої за потоком циліндричної частини 26а і проміжної звужується частини 26b більше довжини L 22b катода 22 в камері 26. Коли катод 22 встановлений у робоче положення в камері 26, межі якої задані анодом 22, вільний кінець катода переважно заходить в камеру по суті на половину довжини проміжної звужується частині камери. Функціонування заявленого плазмового пальника аналогічно функціонуванню відомих плазмових пальників. Джерело 28 харчування створює різницю потенціалів катода 22 і анода 24, в результаті чого утворюється електрична дуга Е. Потім за допомогою інжектора 30, розташованого вище за потоком від нижнього за потоком кінця 50 катода 22, інжектується. Плазмоутворюючий газ G, при цьому витрата газу зазвичай вище 30 л/хв. і нижче 100 л/хв, температура газу вище 0 °C і нижче 50 °C, і абсолютний тиск газу нижче 10 бар. Потік плазмоутворюючого газу G обертається навколо катода 22 і переміщається всередину камери 26 в напрямку випускного отвору 60. При проходженні через електричну дугу Е плазмоутворюючий газ G перетворюється на високотемпературну плазму, температура якої зазвичай перевищує 8000 К або навіть 10000 К. Потік плазми виходить з камери 26 по суті вздовж осі X зі швидкістю, яка звичайно вище 400 м/сек і нижче 800 м/сек. Одночасно з цим в потік плазми за допомогою засобів 21 інжекції інжектується напилюваний матеріал у вигляді частинок. Як напилюваний матеріал можна використовувати, зокрема, мінеральний, металевий і/або керамічний порошок, та/або металокерамічний порошок, або навіть органічний порошок, або, при необхідності, рідина, наприклад суспензія або розчин напилюваного матеріалу. Потім потік плазми охоплює і нагріває напилюваний матеріал, причому в процесі нагріву навіть відбувається плавлення зазначеного матеріалу. При направленні плазмового пальника 10 на підкладку виконується напилення на підкладку матеріалу. Під час охолодження вказаний матеріал твердне і утворює зчеплення з підкладкою. Приклади Описувані нижче приклади є ілюстративними і не обмежують обсяг винаходу. Виконано порівняння двох плазмових пальників Т1 і Т2, аналогічних показаним на фіг. 8, з двома наявними на ринку пальниками - одним традиційним пальником F4 і одним трикатодним пальником останнього покоління. Умови експлуатації двох відомих пальників (електричні параметри, склад плазмоутворюючого газу, витрата інжектованого порошку, дистанція напилення) відповідають рекомендованим номінальним вимогам виробника або умовам, визнаними ще сприятливішими. Умови експлуатації плазмових пальників Т1 і Т2 були підібрані таким чином, щоб забезпечити по можливості найкращі експлуатаційні показники. У приведеній нижче таблиці 1 зведені технічні характеристики протестованих плазмових пальників, а також умови проведення випробувань. Два наявні на ринку плазмові пальники 8 UA 103233 C2 забезпечені інжекційними отворами, сполученими з задньою частиною камери. Відповідно, до зазначених двох плазмовим пальників незастосовні розмірні параметри заявленого інжектора плазмоутворюючого газу. Таблиця 1 Т1 Т2 Відомий пальник F4 бокове бокове 45° 25° 13 мм 1,6 20 мм 2,5 12,5 мм 1,75 8 мм 0,3 43,5 мм 45° 0° 13 мм 1,6 20 мм 2,5 12,5 мм 1,75 8 мм 0,3 43,5 мм 6,5 мм 6,5 мм 750 72 54 50 16 0 700 66 46,2 40 12 0 ззаду ззаду Плазмений пальник Положення інжектора плазмоутворюючого газ відносно катода Кут  Кут  х (= рАС - рі) R (= x/DC) Інжектор плазмоутворюючого х' (= pC-pi) газу R' (= x’/DC) Y R" (= y/DC) Діаметр катода (DC) R"' (= уАС/Dc) x" (= pA - рАС) Дуговая камера Діаметр випускного отвору (циліндричного каналу) Струм (А) Джерело Напруга (В) постачання Потужність (кВт) Аргон (л/хв.) ПлазмоВодень (л/хв.) утворюючий газ Гелій (л/хв.) Газ-носій Витрата газу-носія (л/хв.) Витрата інжектованого порошку (г/хв.) Дистанція напилення (відстань від випускного отвору до подложки) (мм) Діаметр отвору для Напилення порошка інжекції напиляючого порошку Відстань між засобами інжекції порошку і віссю пальника Кут інжекції відносно вісі пальника Склад напилюючого порошку Зернистість напилюючого порошку Коефіцієнт напилення (%) Продуктивність (г/хв.) Результати Енергія, яка витрачається для нанесення 1 кг матеріалу (кВтч) Трикатодний пальник останнього покоління Аr Аr 3×4±1 Незастосовані Незастосовані 9 мм 630 68,5 43 38 13 0 Аr 530 103 55 30 0 35 Аr 1 × 4,5±1 3,2 3 × 3,5 120 45 40 100 140 120 110 90 2 мм 2 мм 1,5 мм 1,8 мм 9 мм 9 мм 6 мм 6,5 мм 90° 90° 90° 90° Оксид хрому Оксид хрому 17-45 мкм 17-45 мкм 52 45 40 50 62,4 20 16 50 14,4 38,5 44,8 18,3 5 У таблиці наочно показано, що знижене споживання енергії заявленого плазмового пальника дозволяє домогтися дуже високих значень коефіцієнта і продуктивності напилення. Порівняння експлуатаційних показників плазмових пальників Т1 і Т2 показує, що плазмовий 9 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 пальник Т1 при подібному (52 %), і навіть більш високому коефіцієнті напилення (коефіцієнт напилення Т2 дорівнює 45 %), дозволяє отримати більш, ніж трикратне підвищення продуктивності в порівнянні з плазмовим пальником Т2, у якій кут  дорівнює 0° (продуктивність Т1 вище 62 %, у той час як продуктивність Т2 становить приблизно 20 %). Вимірювання ступеня зносу показали, що при рівних потужностях знос електродів заявляється плазмового пальника, зокрема, при зазначених вище кутах  і , менше зношення електродів традиційних пальників, зокрема, менше зношення електродів плазмового пальника F4. Завдяки цьому знижено забруднення шару нанесеного матеріалу міддю і/або вольфрамом. Зрозуміло, винахід не обмежений описаними й проілюстрованими варіантами здійснення. Зокрема, заявлений плазмовий пальник може бути плазмовим пальником будь-якого відомого типу, зокрема, з обдуванням плазмової дуги або з гарячим катодом, зокрема, з стрижневим гарячим катодом. Кількість і форма анодів і катодів не обмежуються описаними і проілюстрованих варіантами. В іншому варіанті здійснення плазмотрон містить безліч анодів і/або катодів, зокрема, щонайменше три катоди. При цьому переважно використовувати в плазмотроні тільки один катод і/або тільки один анод. Це полегшує управління плазмотроном. На форму камери також не накладається жодних обмежень. Інжектор також може відрізнятися від зображеного на фіг. 1. Наприклад, інжектор може містити одне кільце або безліч кілець. Можлива будь-яка кількість інжекційних каналів, причому не обов'язково круглого перерізу. Канали можуть мати, наприклад овальні або багатокутні, зокрема, прямокутні перетини. Розташування інжекційних каналів також може відрізнятися від зображеного на фіг. 1. Інжекційні канали можна розташувати, наприклад по спіралі або, в більш загальному випадку, таким чином, щоб не всі інжекційні отвори знаходилися в одній поперечній площині і були розташовані, зокрема, у двох (як показано на фіг. 6), трьох, чотирьох або в більшій кількості поперечних площин. Інжектор на фіг. 6, більш детально показаний на фіг. 7а, 7b і 7с, забезпечений двадцятьма інжекційними отворами 74, розподілені на першій і другій поперечних площинах Р1 і Р2. У першій поперечної площині Р1 під рівними кутами навколо осі X розташовані вісім інжекційних отворів 741 з однаковим діаметром D1 та однаковою радіальною відстанню у1. У поперечній площині проекція осі I1 інжекції інжекційного отвору 741 і радіус, що проходить у вказаній поперечної площині через вісь X і центр зазначеного інжекційного отвору, утворюють кут 1. У другій поперечній площині Р2, що знаходиться нижче за потоком від Р1, під рівними кутами розташовані залишилися дванадцять інжекційних отворів 74 2 з однаковим діаметром D2, більше D1, і однаковою радіальною відстанню у2, рівною y1. У поперечній площині проекція осі І2 інжекції інжекційного отвору 742 і радіус, що проходить у вказаній поперечній площині через вісь X і центр зазначеного інжекційного отвору, утворюють кут 2, причому кут 2 більше кута 1. Переважно співвідношення між сумарним перетином S1 отворів 741 і сумарним перетином S2 отворів 742 (= S1/S2) становить 0,25-4,0. Під сумарним перетином у даному випадку розуміється сума площ всіх поперечних перерізів групи отворів. В іншому варіанті здійснення значення у1 може відрізнятися від значення у2. При цьому отвори однієї поперечної площини можуть мати різні радіальні відстані у1. Крім того, інжекційні отвори можна згрупувати по два, три або більше отвори. Наприклад, в одному з варіантів інжектор може містити чотири пари отворів, при цьому зазначені пари переважно розподілити під рівними кутами. При розміщенні інжекційних отворів у множині поперечних площин, отвори першої площини можуть бути вирівняні уздовж напрямку осі X або зміщені щодо отворів другої площини, наприклад, мати кутовий зсув на деякий постійний кут. 50 ФОРМУЛА ВИНАХОДУ 55 60 1. Плазмовий пальник, що містить: плазмотрон, який містить: катод (22), який проходить уздовж осі X, і анод (24), причому зазначений катод і анод розташовані з можливістю створення, під дією електричної напруги, електричної дуги в камері (26) між анодом і катодом; інжектор (30) для інжекції плазмоутворюючого газу, що містить інжекційний канал (72), що проходить уздовж осі (Ii) інжекції і сполучається з вказаною камерою за допомогою інжекційного отвору (74); 10 UA 103233 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 засоби інжекції напилюваного матеріалу в потік плазми, створюваний зазначеним плазмотроном; при цьому вказаний плазмовий пальник відрізняється тим, що: співвідношення R" між радіальною відстанню (yi) зазначеного інжекційного отвору, що є мінімальною відстанню між віссю X і центром зазначеного інжекційного отвору, і максимальним поперечним розміром (DC) катода в області камери нижче за потоком від положення p АС, відповідного осьового положення мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом, становить менше 2,5; проекція осі (Ii) інжекції в поперечній площині, що проходить через центр інжекційного отвору зазначеного інжекційного каналу, утворює з радіусом, що проходить у вказаній поперечній площині через вісь X і центр зазначеного інжекційного отвору, кут  менше 45°. 2. Плазмовий пальник за п. 1, який відрізняється тим, що проекція осі (Ii) інжекції в радіальній площині, що проходить через центр інжекційного отвору зазначеного інжекційного каналу (72), утворює з віссю X кут  більше 10° і менше 70°. 3. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-2, який відрізняється тим, що зазначений кут  більше 5°. 4. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-3, який відрізняється тим, що кут  більше 20° і менше 60° і/або кут  менше 30°. 5. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-4, який відрізняється тим, що у групі інжекційних отворів зазначеного інжектора вказаний інжекційний отвір є тим отвором або одним з тих отворів, що займають найнижче за потоком осьове положення (pi). 6. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-5, який відрізняється тим, що радіальна відстань (уi) зазначеного інжекційного отвору менше 27 мм і більше 6 мм. 7. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-6, який відрізняється тим, що інжектор (30) розміщений вище за потоком від положення р АС мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом. 8. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-7, який відрізняється тим, що на катоді є зрізаноконічна ділянка (86), в якій вказаний інжекційний отвір розташований в поперечній площині (Р), що розрізає вказану зрізано-конічну ділянку. 9. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-8, який відрізняється тим, що на катоді є зрізаноконічна ділянка (86), причому усі інжекційні отвори розташовані щонайменше в одній поперечній площині (Р), що розрізає вказану зрізано-конічну ділянку. 10. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 8-9, який відрізняється тим, що зазначена щонайменше одна поперечна площина розташована на відстані від основи зазначеної зрізаноконічної ділянки (86), що становить від 30 % до 90 % довжини зазначеної зрізано-конічної ділянки. 11. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-10, який відрізняється тим, що осьова відстань х" між осьовим положенням рАС і осьовим положенням (РА) самої нижньої за потоком точки анода більше 30 мм. 12. Плазмовий пальник за п. 11, який відрізняється тим, що осьова відстань х" між осьовим положенням рАС і осьовим положенням (РА) самої нижньої за потоком точки анода менше 60 мм. 13. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-12, який відрізняється тим, що співвідношення R між осьовою відстанню х, відокремлює осьове положення рАС мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом від осьового положення (рі) зазначеного інжекційного отвору, і максимальним поперечним розміром (DС) катода в області камери нижче за потоком від положення рАС, складає менше 3,2. 14. Плазмовий пальник за п. 13, який відрізняється тим, що осьова відстань х більше 5 мм і менше 25 мм. 15. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-14, який відрізняється тим, що співвідношення R' між осьовою відстанню х', відокремлює осьове положення р С нижнього за потоком кінця катода від осьового положення (pi) зазначеного інжекційного отвору, і максимальним поперечним розміром (DС) катода в області камери нижче за потоком від положення р АС мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом складає менше 3,5. 16. Плазмовий пальник за п. 15, який відрізняється тим, що осьова відстань х' більше 9 мм і менше 30 мм. 17. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-16, який відрізняється тим, що співвідношення R''' між мінімальною радіальною відстанню уАС між анодом і катодом в положенні рАС і максимальним поперечним розміром (DС) катода в області камери нижче за потоком від положення рАС мінімальної радіальної відстані між анодом і катодом складає менше 1,25. 11 UA 103233 C2 5 10 18. Плазмовий пальник за будь-яким з пп.1-17, який відрізняється тим, що інжектор забезпечений безліччю інжекційних отворів, при цьому для кожного із зазначених отворів вірна принаймні одна з умов, накладених на співвідношення R, R' і R" i на відстані х, х', х" і уі. 19. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 17-18, який відрізняється тим, що містить єдиний катод та/або єдиний анод. 20. Плазмовий пальник за будь-яким з пп. 1-19, який відрізняється тим, що катод (22) виконаний у вигляді стрижня з віссю X і містить послідовно розташовані в напрямку зверху вниз за потоком і співвісні один одному зрізано-конічну ділянку (45) зі спадним діаметром, циліндричну ділянку (46) з круглим поперечним перерізом і конічну ділянку (48) з округленою вершиною. 12 UA 103233 C2 13 UA 103233 C2 5 14 UA 103233 C2 15 UA 103233 C2 Комп’ютерна верстка В. Мацело Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 16