Пристрій для вибухової обробки пласта

Пристрій для вибухової обробки пласта, який містить заряд вибухової речовини з циліндричним корпусом і кришками, який відрізняється тим, що кришки містять екрани, величина густини матеріалу яких змінюється від одного екрана до наступного і такі екрани використовуються як засіб гасіння вибухових хвиль впродовж стовбура свердловини КІЛЬКІСТЬ екранів визначається як результат чисельного моделювання розповсюдження нестаціонарних ударних хвиль по екранах, величина густини матеріалу яких змінюється від одного екрану до іншого із забезпеченням виконання умови зниження амплітуди вибухової хвилі, що проходить по екранах до рівня, при якому зберігається ЦІЛІСНІСТЬ основної колони Густину матеріалу кожного із екранів р,, визначаємо із виразу [2] * (*\ U 2-©, де Р- тиск на виході і-того екрану, С, швидкість звуку у матеріалі і-того екрану, ©, = V0! / V, - зменшення об'єму і-того екрану при проходженні через нього вибухової хвилі, VOi і V, початковий об'єм екрану і його об'єм після проходження по ньому вибухової хвилі Розрахунок згідно формули (*) проводять наступним чином Спочатку задають загальну товщину всього набору екранів, визначають по відомим формулам величину початкового тиску Ро в осередку вибуху і Р =С D 1 | Р | ВеЛИЧИНу ДОПУСТИМОГО ТИСКУ Рдоп В КОЛОНІ свердловини, при якому колона ще не руйнується Задають закон затухання амплітуди вибухової хвилі при проходженні її по екранах (наприклад 20% зниження амплітуди вибухової хвилі на кожному із встановлюваних екранів) із забезпеченням зниження амплітуди вибухової хвилі від значення Ро до значення Рд В подальшому розрахунок величини густини матеріалу кожного із екранів проводять згідно формули (*) при виконанні умови зниження амплітуди вибухової хвилі від початкого значення о ю 1^ ю 57509 Р о ДО ДОПУСТИМОГО ТИСКу Рдоп В ОСНОВНІЙ КОЛОНІ містять екрани, величина густини матеріалу яких змінюється від одного екрану до наступного, що дозволяє забезпечити ЦІЛІСНІСТЬ основної колони при вибуховій обробці пласта На кресленні (фіг) приведена схема розташування вибухового пристрою у свердловині На кресленні позначено 1свердловина, 2-геофізичний кабель, 3-рідина, 4пласт, 5-корпус пристрою, 6-кришки, 7-заряд вибухової речовини, 8-екрани Ця заявка на деклараційний патент України частково підготовлена в рамках проекту №1747 Науково-технологічного центру в Україні (НТЦУ) Список використаної літератури 1 Краткий справочник по прострелочно-взрывным работам/Под редакцией Н Г Григоряна - М Недра, 1990, с 123-125 2 В Н Романова Прохождение ударной волны по неоднородной среде - Инженерно-физический журнал, 1976, т ххх, №3, с 480 Для прикладу, при загальній товщині всього набору екранів рівній 0,2м і 20-ти процентному зниженні амплітуди вибухової хвилі на кожному із екранів КІЛЬКІСТЬ встановлюваних екранів - 5 Здійснення винаходу досягається наступним чином В свердловину 1 на геофізичному кабелі 2 опускають в рідину 3 пристрій для вибухової обробки пласта 4 Після розміщення пристрою у рідині в свердловині в інтервалі оброблюваного пласта підривають заряд і здійснюють вибухову обробку пласта Вибухова хвиля, породжена вибухом заряду, проходячи через екрани, гасить свою амплітуду до безпечного для основної колони рівня, в результаті чого зберігається ЦІЛІСНІСТЬ ОСНОВНОЇ КОЛОНИ Досягнення технічного результату від застосування пристрою забезпечується завдяки локалізації дії вибуху впродовж стовбура свердловини за рахунок використання кришок, які Фіг Комп'ютерна верстка О Воробей Підписано до друку 05 07 2003 Тираж39 прим Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, Львівська площа, 8, м Київ, МСП, 04655, Україна ТОВ "Міжнародний науковий комітет", вул Артема, 77, м Київ, 04050, Україна