Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб очищення газів, що включає подачу газового потоку в вихрову камеру з кільцевим каналом, сепарацію газового потоку, відведення рідини та очищеного газу, який відрізняється тим, що збільшують швидкість руху газового потоку у вихровій камері шляхом проходження газового потоку через кільцевий канал, поперечний переріз якого поступово зменшується.

Текст

Спосіб очищення газів, що включає подачу газового потоку в вихрову камеру з кільцевим каналом, сепарацію газового потоку, відведення рідини та очищеного газу, який відрізняється тим, що збільшують швидкість руху газового потоку у вихровій камері шляхом проходження газового потоку через кільцевий канал, поперечний переріз якого поступово зменшується. (19) (21) u201015016 (22) 13.12.2010 (24) 25.06.2011 (46) 25.06.2011, Бюл.№ 12, 2011 р. (72) СКЛАБІНСЬКИЙ ВСЕВОЛОД ІВАНОВИЧ, ЛЯПОЩЕНКО ОЛЕКСАНДР ОЛЕКСАНДРОВИЧ, КОРОБЧЕНКО КРІСТІНА ВІКТОРІВНА, ПАРФИЛО ЮЛІЯ ГРИГОРІВНА (73) СУМСЬКИЙ ДЕРЖАВНИЙ УНІВЕРСИТЕТ 3 60742 Пристрій містить горизонтально розташований корпус, утворений кришками 1, між якими розташовані сепараційні елементи 2 у вигляді Гподібних лопаток, патрубок 3 для вводу газового потоку, що рухається по кільцевому каналу змінного поперечного перетину 4. Спосіб здійснюється таким чином. Газовий потік направляють через патрубок 3 в вихрову камеру з кільцевим каналом 4, поперечний перетин якого поступово зменшується. У вихровій камері радіально розташовані сепараційні елементи 2 у вигляді Г-подібних лопаток, за допомогою яких змінюється кут атаки сепараційного Комп’ютерна верстка Г. Паяльніков 4 елементу газовим потоком. В області Г-подібних елементів відбувається інерційне вловлювання та відведення крапель рідини та частинок пилу внаслідок інерційного зіткнення потоку з сепараційним елементом. Швидкість руху газового потоку по кільцевому каналу у корпусі, утвореному кришками 1, збільшується за рахунок зменшення поперечного перетину кільцевого каналу вихрової камери, що забезпечує підвищення здатності вловлювання фракцій все більш високодисперсних часток і, отже, інтенсифікацію та підвищення фракційної ефективності процесу сепарації. Підписне Тираж 24 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for cleaning gas

Автори англійською

Sklabinskyi Vsevolod Ivanovych, Liaposchenko Oleksandr Oleksandrovych, Korobchenko Kristina Viktorivna, Parfylo Yulia Hryhorivna

Назва патенту російською

Способ очистки газов

Автори російською

Склабинский Всеволод Иванович, Ляпощенко Александр Александрович, Коробченко Кристина Викторовна, Парфило Юлия Григорьевна

МПК / Мітки

МПК: B01D 45/04

Мітки: очищення, спосіб, газів

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-60742-sposib-ochishhennya-gaziv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб очищення газів</a>

Подібні патенти