Спосіб нанесення позначки на елемент виробу, позначка та спосіб її зчитування

Винахід відноситься до області фізичної обробки текстильних матеріалів, зокрема волокон, ниток, пряжі, тканини чи волокнистих виробів з цих матеріалів за допомогою оптичних засобів, а саме з використанням інфрачервоних, видимих або ультрафіолетових променів, зокрема стосовно способів маркірування згаданих матеріалів, а також засобів для ідентифікації та індикації, та може бути використаний для нанесення позначки (міткі) при захисті виробу від підробки. Відомий спосіб нанесення позначки з використанням різних речовин. Спосіб згідно патенту РФ (№2131953, дата публікації 1999.06.20) [1] передбачає нанесення полімер-мономерної алкіл(мет) акрилатної композиції з динамічною в'язкістю 50000-120000мПас, у якій масове співвідношення полімеру і мономеру знаходиться в діапазоні 62:38-73:27 на сукно з капроновою складовою до 20% від маси сукна, що маркірується. Спосіб маркірування й ідентифікації об'єктів патент РФ (№9810 6620, дата публікації 2000.02.10) [2], що передбачає нанесення на контрольований об'єкт пізнавального знака на основі люмінесцируючої речовини з різним часом розгорання і загасання люмінесценції, опромінення нанесеного пізнавального знака імпульсами випромінювання з тривалістю більше тривалості розгорання люмінесценції будь-якого люмінесцируючого інгредієнта, реєстрацію параметрів випромінювання люмінесценції, повторне опромінення пізнавального знака стимулюючим випромінюванням при кожній операції контролю і порівняння зареєстрованих при цьому параметрів випромінювання люмінесценції з раніше зареєстрованими параметрами. Недоліком способу [1] є віз уалізація позначки у видимому діапазоні спектру на площі сукна, що значно обмежує область використання способу і знижує ефективність захисту матеріалу. Недоліком способу [2] є одержання індивідуальних міток у кожному окремому випадку, що обумовлено використанням люмінесцируючої речовини з різними часами розгорання і загасання люмінесценції і, як наслідок - обмежені можливості застосування способу. Використання люмінесцируючої речовини з індивідуальним набором інгредієнтів ускладнює процедуру нанесення позначки на об'єкт (кодування), обмежує обсяг кодуємої інформації, що у свою чергу знижує ступінь захищеності об'єкта від підробки. Найбільш близьким до винаходу по технічній сутності і результату, що досягається, є Спосіб нанесення позначки на об'єкт із використанням лазерного променя (патент США № 5 369 273, дата публікації 29.11.1994, МПК8: G06K01/12) [3]. Відповідно до відомого способу [3] процес нанесення позначки здійснюється локальним опроміненням об'єкта електромагнітним випромінюванням високої енергії створюваної лазером, переважно імпульсним, у межах оптичного діапазону спектра електромагнітного випромінювання з довжиною хвилі 150450нм, у діапазоні, де є максимальне спектральне (резонансне) поглинання випромінювання об'єктом в області визначеній зміною оптичних характеристик об'єкта видимих у діапазоні довжини хвилі максимуму поглинання, але непомітних при висвітленні видимим світлом, причому спосіб передбачає відвід теплової енергії й/або попереднє охолодження об'єкта і нанесення елементів позначки послідовно з частотою достатньою для відводу тепла і яке не приводить до механічної або/чи помітної зміни об'єкту, а кодування позначки виконується з використанням голографічних способів. Відомий спосіб також передбачає попередній етап визначення довжини хвилі резонансного поглинання матеріалу визначеною областю об'єкта, що передбачає опромінення в межах фіксованого діапазону довжини хвиль і реєстрацію залежності поглинання чи відображення від довжини хвилі випромінювання, а також використання спеціального пристрою для виконання операцій складових способів. Зміст способу (патент США 5,369,273 [3]) полягає у резонансній взаємодії когерентного монохроматичного лазерного випромінювання високої енергії з речовиною об'єкта. Для реалізації методу необхідно визначити довжину хвилі резонансу і точно настроїти на цю довжину хвилі лазерний випромінювач. У відповідності зі способом, нанесення міток виконується лазерним випромінюванням з довжиною хвилі що регулюється відповідно до резонансного максимуму в діапазоні від 250 до 450нм, наприклад, за допомогою азотного, ексимерного лазеру чи лазеру на барвниках Взаємодія хвильового пакета (цуга) лазерного випромінювання з речовиною приводить до значного нагрівання об'єкта в зоні опромінення виробу по відомому способу [3]. На сучасному етапі розвитку лазерної техніки невідомі спосіб і пристрій для оперативного регулювання довжини когерентності лазерного випромінювання (величину хвильового пакета). Застосовуваний у способі метод регулювання експозиції є непрямим, що приводить до середньостатистичної зміни значень падаючої на об'єкт енергії, а не миттєвому і як наслідок матеріал вимагає як попереднього, так і постійного охолодження. Позначка виходить "плоска" і вимагає для зчитування використання значного електромагнітного випромінювання і її руйнування, що, як думає заявник, знижує ступінь захисту виробу. Спосіб дозволяє нанести позначку на матеріал, який характеризується максимумом поглинання в зазначеному діапазоні довжин хвиль (150-450нм), що можливо тільки для обмеженого списку матеріалів. Слід зазначити, що спосіб зчитування позначки передбачає вимір коефіцієнта поглинання матеріалу на довжині хвилі максимуму поглинання використаної для опромінення, при цьому, за результатами наших експериментів, зміни коефіцієнта поглинання відбуваються у всьому діапазоні довжин хвиль електромагнітного випромінювання, і ці зміни перевершують, іноді значно, зміни, що реєструються на довжині хвилі використовуваної для зчитування. Це ще більше обмежує список матеріалів, до яких можна застосувати зазначений метод нанесення позначки Як показали дослідження заявника, застосування відомого способу [3] для нанесення позначки (ідентифікації виробу) на матеріал з низькою теплопровідністю, наприклад волокнистих (нитки, тканини), приводить до локального катастрофічного руйнування, що не дозволяє вести активну боротьбу з контрфактним товаром. Таким чином, недоліком відомого способу [3] є невисокий ступінь захищеності виробу від підробки, обумовлений зміною мікроструктури виробу в одній спектральній площині, а також обмежений набір матеріалів, на які можливо нанести позначку, що у свою чергу обумовлено використанням в якості інструменту нанесення позначки когерентного імпульсного випромінювання високої енергії. З викладеного вище випливає, що проблема визначення контрфактної текстильної продукції, захист текстильних матеріалів і виробів з них від підробки, шляхом нанесення позначки, тобто зміни оптичних характеристик елемента виробу в невидимій для ока області спектра, без механічних змін матеріалу залишається актуальною і важливою. В основу винаходу поставлено завдання розробити позначку і такий спосіб нанесення позначки на елемент текстильного виробу, наприклад, на нитку, пряжу, тканину, а також спосіб зчитування (ідентифікації) позначки, який завдяки зміні оптичних характеристик виробу в невидимій для ока області спектра, без механічних змін, за рахунок використання іншої природи взаємодії електромагнітного випромінювання з матеріалом дозволив би одержати багатомірну спектральну позначку, що зчитується при малій енергії випромінювання, і забезпечив би досягнення технічного результату - збільшення ступеня захищеності виробу шля хом керування коефіцієнтом відображення в області обробки (позначки), підвищення його на одних ділянках обробки і зменшення його на прилеглих ділянках, розширив би коло об'єктів (матеріалів) на який можна нанести позначку. Для досягнення поставленого завдання пропонуються спосіб нанесення позначки на елемент виробу, позначка і спосіб зчитування позначки. Спосіб нанесення позначки на елемент виробу, переважно текстильні нитки або/чи тканини, що включає локальне опромінення виробу електромагнітним випромінюванням з попереднім визначенням параметрів останнього, у якому, відповідно до винаходу, як електромагнітне випромінювання використовують випромінювання спектрального складу S( g) і опромінення здійснюють не менш ніж двокомпонентним випромінюванням [ S( g1) + S(g 2 ) ], причому не менш ніж один компонент останнього S(g 1 ) утворить у виробі зміну молекулярної структури, а не менш ніж одна друга компонента S( g 2 ) руйнує виниклі зміни і розмір області опромінення першого компонента в напрямку дисперсії другого компонента більше області опромінення, а як елемент виробу використовують текстильні нитки і/чи тканини з полімерною складовою здатною до фотоініційованого утворення й/або модифікації хромофорів і/чи ауксохромів і опромінення виробу здійснюють при перехресному напрямку дисперсій компонент випромінювання з довжиною хвилі ( g ) 200-400нм і співвідношень ітенсивностей (1:2)-(1:4), а також опромінююче спектральне випромінювання S( g) вибирають із умови, за якої коефіцієнт відображення к ділянки елемента при довжині хвилі відображення l 1 зі збільшенням експозиції E в інтервалі 0 < E < E max , зменшується від початкового значення k 0 до мінімального k min при експозиції Emin і далі зростає, причому опромінення здійснюють до максимальної різниці k 0 - k min у порівнянні з різницею для інших спектральних складів S( g) або/чи інших довжин хвиль у, та експозицією не меншою Emin , але меншою Emax - Emin , а двокомпонентне дисперсне випромінювання генерує хоча б одне широкополосно джерело випромінювання, оснащене хоча б двома диспергируючими пристроями, і визначають двомірний розподіл випромінювання для кожного компонента, а щільність потоку визначають по опорній точці в області першого компонента, і процес опромінення здійснюють у повітряному середовищі і для нанесення позначки використовують елемент виробу розміром не менше розміру області опромінення, а в якості полімерної складової використовують целюлозу або складні ефіри целюлози, переважно ацетат, [триацетат,] ацетат - пропіонат, ацетат - бутират чи поліефіри, прямий ланцюг яких складається з залишків терефталевої, ізофталевої, фталевої чи 2, 6-нафталевої кислот і алкілена з групи, що включає етилен, пропилен (триметилен), бутилен або 1,4циклогексилен диметилен, переважно поліетилен терефталат), полі(триметилен терефталат), полі(бутилен терефталат), полі(етилен терефталат-со-ізофталат), полі(етилен-со-1,4-циклогексилен диметилен терефталат), полі(етилен нафталат), полі(бутилен нафталат), а також сополімери чи суміші складних поліефірів або аліфатичний поліамід, переважно поліамід 4,6, поліамід 6, поліамід 6, 6, поліамід 6, 10, поліамід 6, 12, поліамід 11, поліамід 12, а також сополімери чи суміші аліфатичних поліамідів або полі(вініл хлорид), полі(вініліден хлорид) чи їх сополімери чи сополімери чи потрійні полімери полі(вініл хлориду) і/чи полі(вініліден хлориду) з вініл алканоатом, переважно ацетатом, у яких зміст вінілового сомономера не перевищує приблизно 20ваг.% чи сополімери чи потрійні полімери полі(вініл хлориду) й/або полі(вініліден хлориду) з алкіл акрилатом, переважно метил акрилатом, етил акрилатом, пропил акрилатом або бутил акрилатом, у яких зміст акрилового сомономера не перевищує приблизно 20ваг.% чи сополімери або потрійні полімери полі(вініл хлориду) й/або полі(вініліден хлориду) з акрилонитрилом, у яких зміст акрилонитрила складає приблизно від 35 до 90ваг.%. Поставлена задача вирішується також способом зчитування позначки, нанесеної вище описаним способом, що включає одержання вихідного спектрального зображення опроміненням елемента виробу з відповідними до ділянки елементу спектральним складом S( g) і експозицією, що не перевищує Emin , одержують повторне спектральне зображення і по вихідному і повторному спектральному зображенню судять про позначку. Поставлена задача вирішується також і позначкою, що складається зі змін молекулярної структури видимих у діапазоні довжин хвиль від 200 до 800нм. Нами встановлено, що використання двокомпонентного випромінювання спектрального складу S( g) , що характеризується перехресним напрямком дисперсії і розміром області опромінення першого компонента в напрямку дисперсії другого компонента більше області опромінення, при опроміненні деяких полімерних матеріалів (використовуваних у виробництві ниток, тканин), зокрема, целюлози і її складних ефірів, складних ароматичних поліефірів, аліфатичних поліамідів, полі(вініл хлоридів), полі(вініліден хлоридів), їх сополімерах і потрійних полімерах із вініл алканоатами, алкіл акрилатами й акрилонітрилом, під впливом УФ випромінювання, дія хоча б одного компонента випромінювання, привели до виникнення фотохімічних процесів, прямого чи опосередкованого розриву прямого й/або бічного ланцюга макромолекули полімеру (зміна молекулярної структури), продукти якого включають у свій склад хромофорні і/чи ауксохромні групи, синтез яких виражається в утворенні жовтого фарбування, матеріал спочатку жовтіє (іменованим іноді первинним пожовтінням (initial yellowing)), а під дією другого компонента, фотоініційоване руйнування цих хромофорних і/чи ауксохромних груп знебарвлення. Як установив заявник, кінетика послідовних реакцій синтезу і руйнування хромофорів така, що зміна концентрації хромофорів і, отже, коефіцієнта відображення носить необхідний немонотонний характер, забезпечуючи одержання спектральної багатомірної невидимої у видимому світлі позначки. Відмінністю способу також є умови нанесення позначки. Позначка наноситься в повітряному середовищі випромінюванням спектрального складу S( g) (довжина хвилі ( g ) 200-400нм, співвідношенні інтенсивностей компонентів (1:2)-(1:4) з коефіцієнтом відображення k ділянки елемента при довжині хвилі відображення l 1 зі збільшенням експозиції E в інтервалі 0 < E < E max , причому k зменшується від початкового значення k 0 до мінімального k min при експозиції Emin і далі зростає, причому опромінення здійснюють до максимальної різниці k - k 0 у порівнянні з різницею для інших спектральних складів S( g) і/чи інших довжин хвиль g , і експозицією, не меншою Emin , але меншою Emax - Emin , a також, що позначка має рельєфну багатомірну спектральну поверхню, яка характеризується зміненим коефіцієнтом відображення (у діапазоні від 200 до 800нм.) по відношенню до іншої поверхні ділянки нитки чи тканини, підвищеним на одних ділянках обробки і зменшеним на прилеглих ділянках і невидимому у видимому оптичному діапазоні, і тим, що зчитування (ідентифікація) позначки здійснюють випромінюванням спектральним складом S(l)і експозицією, що не перевищує Emin , з одержанням повторного спектрального зображення і по вихідному і повторному спектральному зображенню судять про позначку. Заявлені відмітні особливості способу нанесення позначки на елемент виробу, позначка і спосіб зчитування позначки приводять до збільшення ступеня захищеності виробу шляхом керування коефіцієнтом відображення в області обробки (позначки), підвищення її на одних ділянках обробки і зменшення її на прилеглих ділянках, розширює коло об'єктів (матеріалів) на який можна нанести позначку. Отриманий результат є несподіваним, заявником виявлена і показана нова залежність структури позначки від впливу спектрального складу S( g) випромінювання на матеріал елемента виробу, зокрема, від добавки, виявлена зміна чутливості матеріалу до діючого світлового випромінювання, переважно в ближньому УФ і видимому діапазонах спектру, що привело до розробки процесу, заснованого на керуванні процесами утворення і руйнування хромофорів і/чи ауксохромів, причому в неоднаковій мірі. Це дозволило оптимізувати співвідношення енергій синтезуючої і руйн уючої складових випромінювання, довжин хвиль складових випромінювання, і одержати багатомірну спектральну позначку. Проведення процесу при k 0 - k min максимально збільшує вибір експозиції діючого світлового випромінювання у межах від Emin до Emax - Emin від одного елементу позначки до іншого на підставі відомої тільки виробнику довільно обраної закономірності чи у взаємозв'язку з іншими ознаками (положення чи розмір елемента позначки, який-небудь параметр матеріалу, елемента виробу, виробу, способу застосування елемента у виробі і т.п.), що збільшує ступінь захищеності виробу від підробки. Ефект нанесеної позначки незначно залежить від часу збереження, тому що зміна значення коефіцієнта відображення на довжині хвилі зчитування і характер його зміни нівелюється способом зчитування при наступному зчитуванні позначки. Таким чином, сукупність істотних ознак є необхідною і достатньою для досягнення, що забезпечує винаходом технічного результату - збільшення ступеня захищеності виробу шляхом керування коефіцієнтом відображення в області обробки (позначки), підвищення його на одних ділянках обробки і зменшення його на прилеглих ділянках, розширює коло об'єктів (матеріалів), на який можна нанести позначку. Ступінь захищеності виробу з такою позначкою збільшується внаслідок і того, що параметри діючого випромінювання і характер внаслідок впливу змін відомі тільки виробнику виробу, що наносить позначку, зчитування [ідентифікація] (перевірка наявності) позначки підвищує побічно ступінь захисту, так як при ідентифікації позначки необхідно знати використовуване при зчитуванні позначки діюче випромінювання і характер змін матеріалу внаслідок таких змін. Крім того, наявність позначки на тканині забезпечує можливість без попередньої хімічної чи механічної обробки виробу з такої тканини їх ідентифікувати, визначити оригінальність, відсіяти контрофактний товар, розширити номенклатуру текстильних тканин, на які можливо наносити позначки, для елементів виробу. Перелік фігур креслень і таблиця, що пояснюють сутність винаходу: Фіг.1 - схема [комбінованої/універсальної] установки для визначення параметрів спектрального складу опромінюючого випромінювання і нанесення, і зчитування позначки. Фіг.2 - схема поворотного формувача променя модулів опромінення. де: на фіг.2-а схема поворотного формувача променя представлена в положенні перпендикулярному променю (максимальне пропускання 100%) на фіг. 2-б схема поворотного формувача променя представлена в положенні поверненому на кут (а) до перпендикулярної променю площини (пропущення = 100 ´ cos(a ) ). Фіг.3 - графік, що ілюструє приклад спектрального розподілу лампи випромінювача, який впливає на визначення геометричних параметрів отвору поворотного формувача променя Фіг.4 - схематичне зображення зразка [вид А (фіг.1)], що знаходиться в області опромінення; де: 4-а зображення зразка у вихідному положенні. 4-б зображення зразка представлене в положенні для визначення уточненого набору значень параметрів опромінюючого випромінювання. Фіг.5 - графіки, що ілюструють залежність величини коефіцієнта відображення від експозиції. Фіг.6 - графіки, що ілюструють залежність максимальної зміни величини коефіцієнта відображення від довжини хвилі синтезуючого компонента. Фіг.7 - графіки, що ілюстр ують залежність величини коефіцієнта відображення від використовуваної експозиції при різних співвідношеннях інтенсивностей компонентів опромінюючого випромінювання. Фіг.8 - графіки, що ілюструють розподіл максимальної зміни величини коефіцієнта відображення в області опромінення. Фіг.9 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пофарбованої нитки з целюлози, позиція таблиці 1а. Фіг.10 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка незабарвленої нитки з целюлози, позиція таблиці 1b. Фіг.11 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з ацетату целюлози, позиція таблиці 2. Фіг.12 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з триацетат целюлози, позиція таблиці 3. Фіг.13 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з ацетат пропіонат целюлози, позиція таблиці 4. Фіг.14 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з ацетат бутират целюлози, позиція таблиці 5. Фіг.15 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з полі(етилен терефталат-со-ізофталата), позиція таблиці 6. Фіг.16 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з поліетилен терефталата)/полі(1,4-циклогексилен диметилен терефталата), позиція таблиці 7. Фіг.17 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з полі(етилен терефталат-со-нафталата), позиція таблиці 8. Фіг.18 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з полі(триметилен терефталата), позиція таблиці 9. Фіг.19 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка плівки з полі(етилен терефталата), позиція таблиці 10. Фіг.20 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка плівки з полі(бутилен терефталата) позиція таблиці 11. Фіг.21 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка плівки з полі(етилен нафталата), позиція таблиці 12. Фіг.22 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка плівки з полі(бутилен нафталату), позиція таблиці 13. Фіг.23 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з поліаміду 6, позиція таблиці 14. Фіг.24 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка незабарвленої нитки з поліаміду 6, 6, позиція таблиці 15а. Фіг.25 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пофарбованої АВ25 нитки з поліаміду 6, 6, позиція таблиці 15b. Фіг.26 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пофарбованої AY135 нитки з поліаміду 6, 6, позиція таблиці 15с. Фіг.27 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка мононитки з поліаміду 4, 6, позиція таблиці 16. Фіг.28 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка мононитки з поліаміду 6, 12, позиція таблиці 17. Фіг.29 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка мононитки з поліаміду 12, позиція таблиці 18. Фіг.30 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з поліакрилонітрила / вініліден хлориду, позиція таблиці 19. Фіг.31 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з поліакрилонітрила / вініл хлориду / вініліден хлориду, позиція таблиці 20. Фіг.32 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з полі(вініл хлориду) / вініл ацетату, позиція таблиці 21. Фіг.33 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка нитки з полі(вініліден хлориду)/ метил акрилату, позиція таблиці 22. Фіг.34 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка плівки з полі(вініл хлорид)/ бутил акрилату, позиція таблиці 23. Фіг.35 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пластини 1 з полі(вініл хлориду), позиція таблиці 24а. Фіг.36 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пластини 2 з полі(вініл хлориду), позиція таблиці 24b. Фіг.37 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пластини з полі(вініл хлориду)/вініліден хлориду, позиція таблиці 25. Фіг.38 - залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для зразка пластини з полі(вініліден хлориду), позиція таблиці 26. Таблиця - залежність параметрів нанесення позначки від матеріалу зразка і раніше визначених відповідних їм параметрів опромінюючого випромінювання. У таблиці використані наступні скорочення (абревіатури) і позначення: (1) - СЗ - ступінь заміщення. (2) - вказані ступені заміщення для ацетату і пропіонату. (3) - вказані ступені заміщення для ацетату і бутирату. (4) - барвник кислотний синій #25. (5) - барвник кислотний жовтий #135. (6) - у прикладах 21, 24а, 24b, 26, 27 найкращий результат досягався при однокомпонентному опроміненні (один компонент володів як синтезуючими, так і руйнуючими властивостями). (7) - перший компонент володів як синтезуючими, так і руйнуючими властивостями, другий - сприяв синтезу. (8) - вказана експозиція, при якій виконана умова (7), і відповідне їй значення колірного розходження. ВА - бутил акрилат СА - ацетат целюлози CAB - ацетат - бутират целюлози CAP - ацетат - пропіонат целюлози PCDT - полі(1,4-циклогексилен диметилен терефталат) СТА - триацетат целюлози МА - метил акрилат PA - поліамід PAN - поліакрілонітріл PBN - полі(бутилен нафталат) РВТ - полі(бутилен терефталат) PEN - поліетилен нафталат) PET - полі(етилен терефталат) РЕТІ - полі(етилен терефталат-со-ізофталат) PETN - полі(етилен терефталат-со-нафталат) РТТ - полі(триметилен терефталат) PVC - полі(вішл хлорид) PVDC - полі(вініліден хлорид) VA - вініл ацетат VC - вініл хлорид VDC - вініліден хлорид. Спосіб, що заявляється, реалізується на установці нанесення позначки, принцип дії якої ілюструється схемою, представленої на кресленні (фіг.1). Установка (фіг.1) складається з рухливої платформи 1, що переміщається з допомогою привода 2 уздовж осі X, і привода 3 уздовж осі Y, обладнаної фотометричним датчиком з інтегруючою сферою 4, еталонним відображаючим елементом 5, диспергуючим пристроєм на основі відображаючих дифракційних ґрат 6, телекамери 7, блоку модулів сполучення 8, з'єднаних з комп'ютером 9 і трьох модулів опромінення для визначення спектрального складу, нанесення і зчитування позначки, моделі 10, 11, 12. Конструкція модуля приведена на прикладі модуля 10. Модуль 10 включає джерело широкополосного випромінювання 13 (лампа), сферичну 14 і циліндричну 15 лінзи, що разом складають колиматор, поворотний формувач променя 16 із приводом 17, вісь якого встановлена перпендикулярно дисперсії створюваної диспергуючим пристроєм 18 на основі відбиваючих дифракційних ґрат. Поворотний формувач променя (фіг.2) являє собою квадратну пластину з матеріалу, що не пропускає випромінювання і використовується для опромінення 200-400нм, з наскрізним фігурним вирізом у центрі, форма вирізу відповідає частотно - енергетичній характеристиці лампи 13 (фіг.3). Модулі 10 і 11 ідентичні, за винятком орієнтації диспергуючого пристрою 18 і формувача 16. Диспергуючий пристрій 18 і формувач 16 модуля 10 забезпечує одержання випромінювання спектрального складу S(g 1 ) , а модуля 11 випромінювання спектрального складу S( g 2 ) (диспергуючий пристрій і формувач, модуля 11 на фіг.1 не зображені). Модуль опромінення 12 містить у собі стандартне джерело широкополосного випромінювання в діапазоні не менш від 200 до 800нм, наприклад, джерело світла DT-1000 (Ocean Optics Inc), рефлектор і параболічне дзеркало (останні не показані на фіг.1). Модуль опромінення 12 створює в площині зразка область опромінення позначену на фіг.4 як G, шириною 0,4мм, з рівномірною інтенсивністю випромінювання, що охоплює весь зразок 19 (200мм) і еталонний відображаючий елемент 5. Телекамера 7 оснащена довгофокусним об'єктивом зі смугою пропущення не менш ніж 200 до 800нм і керованим коефіцієнтом збільшення, а також прийомною матрицею приладів із зарядовим зв'язком (далі ПЗЗ матрицею), наприклад, С7170 (Hamamatsu, 512´512 пикселей). Приводи 2, 3, 17, телекамера 7 і датчик 4 через блок модулів сполучення 8 підключені до комп'ютера 9. Модуль опромінення 12, диспергуючий пристрій 6 і телекамера 7 використовуються на етапі визначення спектрального складу опромінення S( g) і зчитування S(l ) позначки, а еталонний відображаючий елемент 5 тільки на першому з них. Зразок 19 (на фіг.4 - площа обмежена крапками ABCD [квадрат]) являє собою плоский шматок тканини з ниток одного зі заявлених складів розміром 200´200мм. Коли в якості елемента матеріалу використовують нитку, зразок являє собою плоский твердий каркас такого ж розміру, наприклад з металу чи пластмаси, з намотаними на нього щільно один до одного нитками. Зразок, що не був опромінений модулями 10 і 1, будемо надалі називати - немаркірований зразок, а той, що піддавався опроміненню - маркірований зразок. Зображення рамок дане на фіг.4. Рамки 20 і 23 являють собою квадратні пластини з матеріалу, не пропускаючого випромінювання, що використовується для опромінення 200-400нм, з наскрізним квадратним вирізом у центрі. Маска 21 являє собою квадратну пластину з матеріалу, не пропускаючого випромінювання, що використовується для опромінення 200-400нм, з наскрізними щілинами чи/та отворами, форма і взаємне розташування яких утворюють малюнок, розташований у квадратному вирізі рамки 20, який задає кодову комбінацію позначки. Вихідне положення установки - це таке положення платформи 1, при якій зразок 19 (фіг.4-а) розташований в області двокомпонентного опромінення [ S( g1 ) + S( g 2 ) ] (площу, позначену на фіг.4 буквами ABCD), і його сканування, тобто покроковий прохід областю опромінення G модуля 12, буде забезпечуватися переміщенням платформи 1 тільки в напрямку координати X. При цьому датчик 4 знаходиться в опорній точці, і зразок 19 не закриває ні датчик 4, ні область опромінення G модуля 12. Установка працює в такий спосіб. Для нанесення позначки попередньо визначають значення параметрів опроміючого випромінювання ( S(g 1 ) ; S( g 2 ) ; g 1 ; g 2 ; Emin ; Emax ). Порядок виконання дій «калібрування установки» попереднього етапу нанесення позначки приведена в розділі «Технологія нанесення і зчитування позначки» даної заявки. На етапі нанесення міток платформа 1 (фіг. 4.а) встановлюється у ви хідне положення. На платформу 1 встановлюється зразок 19, на зразок, площина якого збігається з фокальною площиною дифракційних ґрат 18, міститься рамка 20, обладнана маскою 21, рамка встановлюється на зразку таким чином, щоб центр рамки розташовувався в точці, що відповідає визначеним на попередньому етапі значенням довжин хвиль g 1 , g 2 , тобто координатам Х і Y. Потім поворотом формувача 16 змінюють фігурне вікно (фіг.2.б), встановлюють співвідношення інтенсивностей компонентів RE = E1 / E 2 , визначених на попередньому етапі. Співвідношення інтенсивностей компонентів Е1/Е2 визначається в кожній точці області опромінення, послідовно вимірюючи інтенсивність кожного компонента й обчислюючи відношення компонентів. Зразок 19 опромінюють двокомпонентним випромінюванням з експозицією E w / r (оптимальна експозиція застосовувана для маркірування), контролюючи останню за допомогою датчика 4 і на підставі значень, визначених при калібруванні розподілів товщин потоку компонентів, зафіксованих у пам'яті комп'ютера 9. Двокомпонентне випромінювання [ S( g1 ) + S( g 2 ) ] одержують перетинанням сформованих на модулях 10 і 11 випромінювань спектрального складу S(g 1 ) і S( g 2 ) . Випромінювання спектрального складу S(g 1 ) модуля 10, наприклад, формують, направляючи промінь, створений джерелом 13, через колиматор, (лінзи 14 і 15) і фігурне вікно поворотного формувача 16 на дифракційні ґрати. Сформований промінь, потрапляючи на увігнуті дифракційні відбиваючі ґрати, «діє» на зразок 19, розташований у фокальній площині останніх і розташований на рухливій платформі 1. Область опромінення має форму сформовану колиматором (лінзи 14 і 15), формувачем 16 і дифракційними ґратами і позначену на фіг.4 буквами, наприклад CDEF. Інтенсивність [експозиція] сформованого променя залежить від розміру фігурного вікна в проекції на площину перпендикулярну променю і задається поворотом формувача 16 (фіг.2.б). Ідентично формується індивідуальне випромінювання спектрального складу S( g 2 ) модуля 11. Перетинання областей опромінення модулів 10 і 11 утворюють область двокомпонентного опромінення, площа якого позначена на фіг.4 буквами ABCD. Включають лампу 13 і сформовані випромінювання спектрального складу S(g 1 ) і S( g 2 ) модулів 10 і 11 через щілини та/чи отвори маски попадають на зразок, що викликає зміни молекулярної структури речовини зразка в кожній точці, у строгій залежності від постійного значення g 1 і g 2 у ци х точках, тобто створює позначку. Для зчитування позначки використовують значення параметрівопромінюючого випромінювання ( l 1 , Emin ), визначених на попередньому етапі. При зчитуванні позначки платформу 1 встановлюють у ви хідне положення. На платформі 1 розміщують немаркірований зразок 19, на зразок поміщають рамку 23 з еталонним відображаючим елементом 24. Центр рамки розташовувався в точці, що відповідає визначеним на попередньому етапі значенням довжин хвиль g 1 , g 2 . Потім переміщаючи платформу 1 по координатах Х і Y установлюємо рамку 23 у положення, у якому центр вікна рамки розташовувався на осі області опромінення G модуля опромінення 12 (фіг.4.б), а правий край вікна попадає в поле зору камери 7. Переміщуючи платформу 1 і разом з нею зразок із кроком 50мкм через область опромінення G модуля опромінення 12, скануємо всю область у квадратному вирізі рамки 24 і одержуємо вихідне спектральне зображення немаркірованого зразка 19 на довжині хвилі l 1 , що зафіксуємо в пам'яті комп'ютера 9. На платформу 1 встановлюємо маркірований зразок і повторюємо всі перераховані вище дії, виконані по відношенню немаркірованого зразка, й одержуємо спектральне зображення маркірованого зразка. Отримані спектральні зображення розбиваємо на елементи, рівні кроку сканування, наприклад розміром 50´50мкм. Кожному елементу відповідає значення координат і коефіцієнта відображення. Обчислюємо різницю коефіцієнтів відображення в однойменних (маючих однакові координати) елементах. За поелементною різницею спектральних зображень зразків ідентифікуємо елементи позначки. У крапках зображення, що відповідають елементам позначки, різниця коефіцієнтів відображення позитивна, в інших крапках - негативна. Стабільність отриманої позначки визначають, зчитуючи позначку з маркірованого зразка витриманого протягом 90 днів під впливом розсіяних сонячних променів при температурі 25±5°С і відносної вологості 60±20%. Технологія нанесення і зчитування позначки реалізується в такий спосіб. Процес нанесення позначки на нитку чи тканину, відповідно до способу, що подається, передбачає декілька етапів: 1-й попередній - для визначення параметрів опромінення для 2-го етапу - нанесення позначки. На 1 етапі - попередньому - згідно способу, що заявляється: визначенням спектрального складу і енергетичних характеристик першого компонента S(g 1 ) , g 1 , Emin , Emax ), який призводить до утворення чи модифікації хромофорів (і/чи ауксохромів), а також ( спектрального складу й енергетичної характеристики другого компонента S( g 2 ) , g 2 , Emin , Emax , який призводить до руйнування чи модифікації хромофорів (і/чи ауксохромів), отриманих при опроміненні першим компонентом; - визначаємо довжини хвилі відображення l 1 , на якій зміна коефіцієнта відображення максимальна. Цей етап проводять для кожного матеріалу один раз. Попередній (перший) етап передбачає настроювання і калібрування компонентів опромінюючого випромінювання у точках області опромінення. Для цього розміщуємо не маркірований зразок 19, на платформу 1 (фіг.1). Перекриваємо промінь джерела широкополосного випромінювання, повертаючи формувач 16 (фіг.2.б), так щоб одержати одну третину повної інтенсивності. Переміщаємо платформу 1 уздовж координат Х і Y із кроком, наприклад 0,4мм, построково скануючи всю область опромінення 200´200мм. За допомогою датчика 4, закріпленого на платформі 1, визначаємо значення інтенсивності опромінюючого випромінювання Е1 у кожній точці області опромінення. Розмір точки області опромінення для розрахунків приймаємо рівний кроку сканування. При великій нерівномірності розподілу щільності змінюємо форму вирізу формувача 16 і повторюємо сканування. Аналогічно набудовуємо і калібруємо промінь другого компонента Е2. У кожній точці області опромінення обчислюємо співвідношення інтенсивностей двох компонентів RE. RE=E1/E2 Потім платформу 1 встановлюють у вихідне положення і разом зі зразком переміщають тільки в напрямку координати X, що забезпечує сканування зразка областю опромінення G модуля 12. За допомогою телекамери 7 одержують спектральне зображення не маркірованого зразка 19, що фіксують у пам'яті комп'ютера 9. У вихідному положенні датчик 4 виявляється в точці, яка названа опорною, у якій роблять вимір щільності потоку другого компонента. Опорна точка це точка, що знаходиться в області опромінення модуля 11 (площа позначеної на фіг.4.а. буквами BCF'E'), але поза областю опромінення модуля 10 (площа позначеної на фіг.4.а. буквами CDEF) розташована, для зручності сканування, ближче до кута області опромінення BCF'E', наприклад, датчик 4 фіг.4.а. Опромінюють кілька разів зразок 19, поміщений у вихідне положення на платформі 1 двокомпонентним випромінюванням, за методикою приведеної раніше в розділі заявки, яка описує роботу установки при нанесенні позначки (стор.13-14 опису). Експозицію кожного опромінення контролюють за допомогою датчика 4. На підставі отриманого раніше розподілу плотностей потоку компонентів і співвідношення їх інтенсивностей установлюємо значення робочої (оптимальної) експозиції двокомпонентного випромінювання в найбільш освітленій точці області опромінення в розмірі від 2 до 6мДж/см 2. Кожне отримане спектральне зображення опроміненого зразка у вигляді точок, порівнюємо, по однойменним точкам зображення, з таким же спектральним зображенням не опроміненого зразка, що зберігаються в пам'яті комп'ютера Колірне розходження опроміненого і неопроміненого зразка визначаємо в стандарті ЄС–CIELAB. Розмір точок порівняння приймаємо рівним кроку сканування, наприклад, при кроці 0,4мм кількість крапок 500´500 на опроміненому зразку. Процес опромінення припиняємо при перевищенні порога колірного розходження що склало 5 одиниць CIELAB у межах всієї області опромінення. Для кожної точки області опромінення одержуємо набір значень експозиції, довжин хвиль, колірного розходження CIELAB і коефіцієнта відображення. Порівнюючи й аналізуючи ці значення в різних точках області опромінення, судимо про залежність колірного розходження і коефіцієнта відображення від експозиції (криві а, b і j (фіг.5)) і довжини хвиль (фіг.6). Залежність зміни коефіцієнта відображення від довжини хвилі може бути представлена у вигляді, показаному на фіг.6, де варіант а) відповідає формуванню одного типу хромофорів або істотному домінуванню одного типу хромофорів над іншими, а варіант б) - формуванню декількох типів хромофорів чи полієнових хромофорів різної довжини, як, наприклад, відбувається у випадку матеріалів на основі полі(вініл хлориду) чи полі (вініліден хлориду). Отримані залежності усереднюємо уздовж ділянок розміром 10´10мм і 4´4мм для зразків у формі нитки/мононитки і плівки/пластини відповідно. Залежність коефіцієнта відображення від експозиції при різних співвідношеннях інтенсивностей опромінюючого випромінювання приведена на фіг.7. Як видно з графіків при зменшенні співвідношення інтенсивностей k компонент із довжинами хвиль g і g2 залежності виду b змінюються так, як показано на фіг.6 1 (ряд b ® c1 ® ... ® c6 ), при цьому мінімум коефіцієнта відображення переміщується по деякій траєкторії сімейства траєкторій d1. Оптимальною є залежність с4 з відповідним їй співвідношеннями інтенсивностей, при яких у точці (g , g2 ) мінімум коефіцієнта відображення досягається при значенні експозиції Emax / 2 . 1 Аналізуємо отриманий набір залежностей коефіцієнтів відображення і колірного розходження CIELAB і визначаємо попередній набір значень довжин хвиль компонент g 1 , g 2 , довжини хвилі l 1 і співвідношення інтенсивностей RE, що забезпечують максимальну різницю Dk = k 0 - k min . Попередній набір значень є наближеним, і якщо значення Dk менше оптимального, повторюємо всі перераховані вище дії при отриманому співвідношенні інтенсивностей R E. Обмежуємо за допомогою рамки з вікном (фіг.4.б) відповідного розміру, наприклад рамки 23, область опромінення приблизно в межах g 1 ±10нм, g 2 ±10нм і одержуємо спектральні зображення в діапазоні хвиль приблизно l 1 ±10нм. Потім одержуємо уточнений набір значень довжин хвиль компонентів g 1 , g 2 , з точністю ±0,5нм, довжини хвилі l 1 з точністю ±0,5нм і співвідношення інтенсивностей RE з точністю ±0,01 (1%), що характеризують отриману позначку (фіг.8). На фіг.8 схематично приведені варіанти розподілу зміни коефіцієнта відображення Dk для деякої довжини хвилі l 1 у межах області опромінення. Варіант а) відповідає залежностям виду а (фіг.5), варіант б) - залежностям виду b (фіг.5). Початку координат відповідає точка (200нм, 200нм). У варіанті а) довжина хвилі g 3 означає довжину хвилі р уйнуючого компонента, а як значення g 2 вибирається довжина хвилі компоненти, що сприяє синтезу хромофорів. Залежність f0 відповідає точці найбільш інтенсивного синтезу хромофорів під впливом монохроматичного випромінювання з довжиною хвилі g 1 . На відрізках між точками ( g'1 , g 1 ), (200, g 1 ) і точками ( g'1 , g 1 ), (400, g 1 ), за винятком околиць точок ( g' 2 , g 1 ) і ( g' 3 , g 1 ), зміни Dk не істотні за рахунок того, що мінімум коефіцієнта досягається в межах максимального значення експозиції і може лише зміщатися в бік більшої чи меншої експозиції через різний вплив меншого по інтенсивності першого компонента на коефіцієнти відображення у видимій області, (тобто поріг колірного розходження досягається при різних значеннях експозиції). Стрілками показані найбільш характерні напрямки зміни залежності в порівнянні з залежністю f0. Залежності f2 відповідає максимальна зміна коефіцієнта відображення Dk , яка досягається не при монохроматичному випромінюванні, а у випадку, якщо другий компонент сприяє синтезу хромофорів, а не придушує його, що, наприклад, було виявлено для сополімеров полі(вініл хлориду) і полі(вініліден хлориду) з акрилатами. На відрізках між точками ( g'1 , g 1 ), ( g'1 , 200) і точками ( g'1 , g 1 ), ( g'1 , 400), за винятком околиць точок ( g'1 , g 2 ) і ( g'1 , g 3 ), Dk зменшується за рахунок того, що через малу інтенсивність першого компонента мінімум залежності зміщується за межі максимальної (з погляду порога колірного розходження) експозиції (залежність f3). Залежність f4 відповідає точкам, у яких відбувається максимальне придушення хромофорів, причому зменшення Dk більш помітно в точці ( g'1 , g 3 ). У варіанті б) залежність до відповідає точці найбільш інтенсивного синтезу хромофорів Іншим точкам відрізків з довжиною хвилі однієї з компонентів рівної g 1 , за винятком околиць крапок ( g'1 , g 2 ) ( g' 2 , g 1 ), відповідає залежність g1, у якій Dk зменшується по тим же причинам, що і для залежності f3 пo варіанту а). Залежність g2 відповідає точкам, у яких відбувається максимальне придушення хромофорів, причому зменшення Dk більш помітно в точці ( g'1 , g 2 ). Для деяких матеріалів максимуми зміни коефіцієнта відображення (точки ( g'1 , g 1 ) можуть розташовува тися нижче межі довжини хвилі 200нм. Наприклад, для зразка тканини з целюлозної пофарбованої нитки графічна ілюстрація залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції в точці, що відповідає ( g'1 , g 1 ) фіг.8.а приведена на фіг.9 (позиція таблиці 1.а). Позначка вважається отриманою у випадку, якщо відносна зміна (уточнення) максимальної різниці Dk не перевищило 10% (точки t2, t4 на фіг.9). На фіг.10-38 приведені залежності величини коефіцієнта відображення і розміру колірного розходження в CIELAB від величини експозиції для інших матеріалів, що заявляються. Приклад виконання позначки по винаходу. Позначку наносять на целюлозну пофарбовану нитку (переважно ацетат, триацетат, ацетат-пропіонат, ацетат-бутират) зі ступенем заміщення = 0,15 (№1б, таблиця). Нитку намотують на твердий каркас розміром 200´200мм, виконаний із пластмаси рядами, щільно притиснутими один до одного, далі в прикладі зразок. Попередньо здійснюється почергове калібрування променів джерела широкополосного випромінювання модулів 10 і 11. Для чого перекривають промінь джерела широкополосного випромінювання модуля 10, повертаючи формувач 16 так, щоб одержати рівномірний розподіл інтенсивності випромінювання. Потім переміщуємо платформу уздовж координат Х і Y, построково скануючи всю область опромінення з кроком 0,4мм, що дорівнює 200´200мм. За допомогою датчика 4, розташованого в опорній точці і закріпленого на платформі 1, визначаємо значення інтенсивності опромінюючого випромінювання Е1, середня величина якої складає 3,76 мдж/див2. Для подальших розрахунків розмір точки області опромінення приймаємо як рівну кроку сканування (0,4мм). При нерівномірності розподілу щільності більше 10% змінюємо фігурний виріз формувача 16 і повторюємо сканування. Аналогічно набудовуємо модуль 11 і калібруємо промінь другого компонента E2. Перекриваємо промінь джерела широкополосного випромінювання модуля 11, повертаючи формувач 16, так щоб одержати середнє співвідношення інтенсивностей другого компонента до першого, наприклад 1:3. Усереднене значення інтенсивності другого компонента складає 1,24мДж/см 2. У кожній точці області опромінення обчислюємо співвідношення інтенсивностей двох компонентів RЕ=Е1/Е2=0,33. Потім здійснюємо сканування вихідного спектрального зображення неопроміненого зразка (одержання еталона для порівняння), для чого розташовуємо зразок на платформі 1 таким чином, щоб перекрити всю область двокомпонентного опромінення, створювану модулями 10 і 11 (в області ABCD фіг.4.а), але залишаємо не перекритим потік випромінювання, створюваний модулем 12. Для цього залишаємо в потоці променя опорну точку (датчик 4) і еталонний відображаючий елемент 5. Потім проводимо сканування зразка, переміщуючи платформу уздовж осі Х через область опромінення G модуля опромінення 12. Телекамера 7 формує набір спектральних зображень кожної точки смуги зразка, що потрапила в область опромінення G шириною 0,4 мм. Отримані дані зберігаються в пам'яті комп'ютера 9. Зразок також опромінюють двокомпонентним випромінюванням, створюваним модулями 10 і 11 при одночасній дії. Зразок розміщуємо на платформі у вихідне положення. Задаємо експозицію двокомпонентного випромінювання опромінення у найбільш освітленій точці області опромінення 5мДж/см 2. Експозиція контролюється за допомогою датчика 4. Спектральні зображення опроміненого зразка фіксуються комп'ютером, згідно описаній у попередньому абзаці методиці. Зразок опромінюється кілька разів. Після кожного опромінення спектральні зображення опроміненого зразка порівнюються комп'ютером по точкам зі спектральним зображенням неопроміненого зразка на колірне розходження по Стандарті ЄС-«CIELAB». Опромінення було припинено після 43-го опромінення при досягненні перевищення порога колірного розходження 5 одиниць «CIELAB» у межах всієї області опромінення зразка стосовно неопроміненого зразка. Одержуємо розрахункове поле 500х500 точок в області опромінення. Для кожної точки області опромінення одержуємо набір значень експозиції, довжин хвиль, колірного розходження стандарту «CIELAB» і коефіцієнта відображення. Порівнюючи ці значення в різних точках області опромінення, судимо про залежність колірного розходження і коефіцієнта відображення від експозиції і довжини хвиль Отримані залежності усереднюємо уздовж ділянок розміром 10´10мм. Аналізуємо отриманий набір залежностей коефіцієнтів відображення і колірного розходження «CIELAB» і визначаємо попередній набір значень довжин хвиль компонентів g 1 =210нм, g 2 =340нм, довжини хвилі l 1 =290нм і співвідношення інтенсивностей RE=0,30, що забезпечують різницю Dk = k 0 - k min = 16 , Так як Dk менш 2, повторюємо всі перераховані вище в абзаці (2) дії при отриманому співвідношенні інтенсивностей RE=0,30, однак обмежуємо (зменшуємо) розмір області опромінення. Для цього встановлюємо рамку 23 з розміром вікна 20´20мм, що забезпечить обмеження області опромінення випромінювання модулів 10 і 11 - відповідно g 1 ±10нм, g 2 ±10нм і одержання спектрального зображення в діапазоні хвиль відображення l 1 ±10нм. Аналізуємо отриманий уточнений набір залежностей коефіцієнтів відображення і колірного розходження CIELAB і визначаємо набір значень довжин хвиль компонентів g 1 =213нм, g 2 =344нм, довжини хвилі відображення l 1 =296нм і співвідношення інтенсивностей RE=0,28. Визначаємо Dk = k 0 - k min , який складає Dk =2,1% і припиняємо дії попереднього етапу визначення спектрального складу [ S( g1 ) + S( g 2 ) ] для нанесення позначки. Залежності від експозиції коефіцієнта відображення і колірного розходження в одиницях стандарту CIELAB для целюлози приведені на графіку фіг.9. Як видно з графіка фіг.9 точка t відповідає початковому значенню коефіцієнта відображення k 0 на довжині 1 хвилі l 1 ; точка t2 - мінімальному значенню коефіцієнта відображення k min і відповідної йому експозиції Emin ; точка t3 - максимальній експозиції Emax , що відповідає виникненню видимих змін (при порозі колірного розходження рівному 1 одиниці CIELAB, крім приклада 24b, у якому поріг був знижений до 0,2 одиниці CIELAB); точка t - максимальній експозиції нанесення і зчитування позначки Emax 0 , рівної Emax - Emin . 4 Значення експозиції Ew/r, використовуваної на етапах нанесення і зчитування позначки, вибиралося на 46мДж/см 2 великим Emin , за винятком прикладів, де це значення обмежувалося експозицією Emax 0 . Визначені вище параметри визначають значення експозицій для нанесення позначки на нитку з целюлози, що складає Emin =100мДж/см 2, Emax =215мДж/см 2, E =104мДж/см 2. w/r Позначку наносять на зразок, розташований на платформі 1, яка встановлена у вихідному положенні. Повертаємо формувач 16, модулям 10 і 11 задаємо значення R E=0,28 (Усі параметри процесу нанесення позначки визначені попередніми, описаними вище діями). На зразку встановлюється рамка 20 з маскою 21 таким чином, щоб центр рамки розташовувався в точці, яка відповідає довжині хвиль g 1 =213нм, g 2 =344нм. Через маску 21 зразок опромінюємо двокомпонентним випромінюванням з експозицією Ew/r=104мДж/см 2., згідно описаному ви ще в п ункті «робота установки» порядку. Величину експозиції контролюємо за допомогою датчика 4. Отримана позначка являє собою ділянку зразка зі смугами чи/та точками, що визначаються на довжині хвилі l 1 , форма і взаємне розташування яких у точності повторює малюнок наскрізних щілин або/і отворів маски, і задають кодову комбінацію позначки. Для підтвердження практичної цінності оголошуваного способу нанесення позначки на текстильні матеріали, зокрема на нитки, тканину, і можливості використання широкої гами текстильних матеріалів були по описаній вище технології нанесені позначки на нитки і тканини, що складаються з різних матеріалів, які заявляються у відповідності з винаходом, зокрема на зразки з целюлози чи складних ефірів целюлози, переважно ацетату, [триацетату,] ацетат-пропіонату, ацетат-бутирата чи поліефірів, прямий ланцюг яких складається зі залишків терефталевої, ізофталевої, фталевої чи 2, 6-нафталевої кислот і алкілена з групи, що включає етилен, пропілен (триметилен), бутилен або 1,4-циклогексилен диметилен, переважно поліетилен терефталат), полі(триметилен терефталат), полі(бутилен терефталат), поліетилен терефталат-со-ізофталат), полі(етилен-со-1,4-циклогексилен диметилен терефталат), полі(етилен нафталат), полі(бутилен нафталат), а також сополімери чи суміші складних поліефирів чи аліфатичний поліамід, переважно поліамід 4, 6, поліамід 6, поліамід 6, 6, поліамід 6, 10, поліамід 6, 12, поліамід 11, поліамід 12, а також сополімери чи суміші аліфатичних поліамідів або полі(вініл хлорид), полі(вініліден хлорид) або їх сополімери, чи сополімери або потрійні полімери полі(вініл хлориду) і/чи полі(вініліден хлориду) з вініл алканоатом, переважно ацетатом, у яких зміст вінілового сомономера не перевищує приблизно 20ваг.%, або сополімери чи потрійні полімери полі(вініл хлориду) і/чи полі(вініліден хлориду) з алкіл акрилатом, переважно метил акрилатом, етил акрилатом, пропил акрилатом або бутил акрилатом, у яких зміст акрилового сомономера не перевищує приблизно 20ваг.%, або сополімери чи потрійні полімери полі(вініл хлориду) і/чи полі(вініліден хлориду) з акрилонитрилом, у яких зміст акрилонитрила складає приблизно від 35 до 90ваг.%. Дані, що характеризують вид матеріалу, форму зразка, характер зразка, параметри: g 1 , g 2 (довжини хвиль руйнуючого та синтезуючого компонента); RE (співвідношення інтенсивностей компонент); l 1 (довжину хвилі зчитування); Dk (відносну зміну коефіцієнта відображення); Emin (мінімальну експозицію); Emax (максимальну експозицію); Emax 0 (максимальну експозицію нанесення і зчитування позначки); Еw/r (оптимальну експозицію нанесення і зчитування позначки); d (імовірність виявлення елемента) приведені в таблиці 1 і на фіг.9-38. Приклад зчитування позначки по винаходу. Зчитування позначки складається з наступних дій. Позначка являє собою ділянку зразка з смугами чи/і крапками, що визначаються на довжині хвилі l 1 , форма і взаємне розташування яких у точності повторює малюнок наскрізних щілин чи/і отворів маски і задає кодову комбінацію позначки. Попередньо на платформі 1, встановленої у ви хідному положенні, розташовують не-маркіровану целюлозну пофарбовану нитку, що характеризується ступенем заміщення @ 0,15 . Нитку намотують на твердий каркас розміром 200´200мм, виконаний із пластмаси. Рядами нитки прижимають щільно одна до одної, далі в прикладі зчитування позначки - зразок. На зразок міститься рамка 23 (фіг.3) з еталонним відбиваючим елементом 24. Рамку розміщують таким чином, щоб центр рамки розташовувався в точці, що відповідає довжині хвиль g 1 =213нм, g 2 =344нм. Дані g 1 , g 2 , l 1 , а також малюнок наскрізних щілин або/чи отворів, їх форма і взаємне розташування, які утворюють кодову комбінацію позначки і відомі тільки виробнику, що використовує оголошуваний спосіб маркірування, і були використані при нанесенні позначки. Платформу 1 переміщуємо по координатах Х, Y і розташовуємо в положенні, у якому центр вікна рамки 23 розташовувався би на осі області опромінення G модуля опромінення 12, а правий край вікна попадає в поле зору камери 7. У цьому положенні спектральне відображення зразка відповідає довжині хвилі l 1 =296нм. Проведене сканування спектрального зображення всієї області, розміщеної в квадратному вирізі 24 рамки 23 шляхом переміщення платформа 1 зі зразком 9 через область опромінення G модуля опромінення 12 із кроком 50мкм, одержуємо вихідне спектральне зображення неопроміненої нитки і зберігаємо в пам'яті комп'ютера. Визначення (ідентифікація) позначки маркірованого зразка виконують, встановлюючи останній на платформу 1 і здійснюють усі перераховані вище дії, проведені з неопроміненим зразком, одержують спектральне зображення маркірованого зразка. Потім проводять аналіз спектральних зображень і за поелементною різницею спектральних зображень опроміненого (маркірованого) і неопроміненого (немаркірованого) ідентифікують елементи позначки У точках зображення, що відповідають елементам позначки, різниця коефіцієнтів відображення позитивна, в інших точках - негативна. Таким чином, як випливає з даних таблиці й аналізу приведених графіків, заявлена технологія нанесення позначки забезпечує досягнення технічного результату - нанесення багатомірної спектральної позначки, що зчитується при малій енергії випромінювання на елемент текстильного виробу, забезпечуючи збільшення ступеня захищеності виробу шля хом керування коефіцієнтом відображення в області обробки (позначки), підвищення його на одних ділянках обробки і зменшення його на прилеглих ділянках, розширив би коло об'єктів (матеріалів) на який можна нанести позначку. Істотним досягненням запропонованої позначки і технології її нанесення і зчитування виступають дані проведення процесу, зокрема g 1 , g 2 , l 1 , а також малюнок наскрізних щілин або/чи отворів, їх форма і взаємне розташування, які утворюють кодову комбінацію позначки, відомі тільки виробнику, що використовує оголошуваний спосіб маркірування згаданої нитки, тканини чи вироби, виготовлені з такої тканини і були визначені і використані в процесі нанесенні позначки. Такий непрямий захист значно ускладнює виготовлення контрафактних виробів, підробку виробів та спрощує ідентифікацію дійсності продукції. Таблица 1 N п/п Матеріал зразка Форма зразка 1 2 3 1a целюлоза нитка Характеристика g 1 , зразка нм 4 5 пофарбов ана 205 С3@0,15 g2 , kE l 1 , Dk , Emin , Emax , Emax 0 Ew/ r , d, Фіг. mJ/cm 10 mJ/cm 11 mJ/cm 13 mJ/cm' 14 % 15 341 0,61 291 1,3 70 160 90 75 99,5 213 344 0,28 296 2,1 100 215 115 104 100 10 нм 6 7 нм 8 % 9 2 2 2 16 9 2 3-) 4 5 СА СТА CAP CAB нитка нитка Не пофарбов ана СЗ (1) @0,15 С3@0,81 C3@2,76 СЗ@0,10/2,10(2) C3@1,00/1,80(3) 241 258 255 256 345 345 333 334 0,41 0,37 0,39 0,33 290 289 286 285 2,2 2,3 2,4 2,2 89 78 88 73 181 168 182 164 92 90 94 91 91 84 92 79 100 100 100 100 11 12 13 14 6 7 8 9 10 11 PETI PEТ/PCDT PETN PTT PET PBT нитка нитка нить нитка плів ка плів ка 2% ізофталата 212 12% PCDT 205 5% нафталата 215 212 211 210 305 309 317 307 304 309 0,47 0,52 0,41 0,47 0,59 0,59 255 255 258 260 256 259 0,6 0,8 0,5 0,7 0,8 1,0 62 69 78 68 55 53 146 159 169 154 124 125 84 90 91 86 69 72 67 75 82 74 60 59 96,5 99,0 96,0 98,5 99,5 99,0 15 16 17 18 19 20 1b 12 13 PEN PBN 14 PA 6 214 210 нитка 15а 15b нитка PA 6, 6 нитка PA 4, 6 PA 6, 12 PA 12 мононитка мононитка мононитка 15с 16 17 18 Не пофарбов ана пофарбов ана AB25(4) пофарбов ана AY135(5) нитка 19 PAN/VDC нитка 20 PAN/VC/VDC нитка 21 PVC/VA нитка 22 PVDC/MA нитка 23 PVC/BA плів ка 24а PVC пластина1 24b PVC пластина2 25 PVC/VDC пластина 26 PVDC пластина 65% VDC 12% VC/VDC 10% VA 12% MA 15% BA 12% VDC 340 0,32 315 0,6 347 0,35 321 0,7 110 119 230(1,80) (8) 240(1,91) (8) 120 121 114 120 98,0 21 98,0 22 237 плів ка плів ка 285 0,82 280 2,0 50 114 64 55 100 23 254 299 1,50 289 1,7 44 133 89 50 100 24 254 324 2,23 295 1,0 50 112 62 56 100 25 255 260 259 230 315 311 305 277 325 264 311 225 282 J6) 280 205(7) 263 205(7) 230 238 273 248 2,70 0,96 2,33 2,57 287 303 296 287 0,7 3,9 1,6 1,5 49 39 38 69 124 89 120 153 75 50 82 84 55 44 42 75 99,5 100 100 100 26 27 28 29 4,0 3,2 7,3 8,1 295 239 254 264 266 311 263 310 292 0,5 0,4 2,0 1,7 1,9 3,0 2,2 3,1 2,9 101 131 46 54 54 31 29 34 56 244 280 132 150 140 87 64 99 129 143 149 86 96 86 56 35 65 73 105 136 50 59 60 35 34 40 60 94,0 92,5 100 100 100 100 100 100 100 30 31 32 33 34 35 36 37 38