Спосіб отримання с-силіконового відбитка

Реферат: UA 101321 U UA 101321 U 5 10 15 20 25 30 35 Спосіб належить до медицини, а саме до ортопедичної стоматології. Відомий спосіб отримання комбінованого с-силіконового відбитка при виготовленні куксових вкладок непрямим способом [1]. Відміряють мерником потрібну кількість базової маси ссиліконового матеріалу (наприклад зета плюс), наносять його на руку в рукавичці, і додають каталізатор, яким комплектується ця маса, в обсязі двох смужок на мірник. Після цього масу змішують руками протягом 30 секунд. Потім формують у вигляді блока, наносять на зуби в області отримання відбитка, придавлюють до зубного ряду і замикають зубні ряди в центральному положенні. Витягують отриманий базовий відбиток. Його оцінюють, промивають і просушують повітрям. Після цього на папір для замішування видавлюють коригуючу масу і каталізатор у вигляді смужок однакової довжини, енергійно змішують шпателем протягом 30 секунд, частину наносять в утворений жолобок в базовому відбитку, частина вводять в канал зуба за допомогою ротаційного інструменту каналонаповнювача (Лентуло). Базовий відбиток з нанесеною коригуючою масою встановлюють на колишнє місце на зубах і замикають щелепи в тому ж положенні. Формують краї відбитка масажними рухами руки, зміщуючи щоку вгору, вниз і вперед. Після закінчення 3 хвилин коригуюча маса застигає і отриманий комбінований силіконовий відбиток витягують з порожнини рота. Але даний спосіб має ряд недоліків. Він спотворює конфігурацію як піддатливих тканин слизової оболонки порожнини рота за рахунок доданого тиску, так і зубного ряду за рахунок компресії і декомпресії коригуючого матеріалу базисним, а також вимагає довше часу для виготовлення. В основу корисної моделі поставлено задачу отримати спосіб одержання відбитка без перелічених недоліків. Спосіб здійснюється таким чином. Готують до замішування коригуючу масу: видавлюють коригуючу масу і каталізатор у вигляді смужок однакової довжини на папір для замішування. Відміряють мірником потрібну кількість базової маси с-силіконового матеріалу, наносять його на руку в рукавичці, і додають каталізатор, яким комплектується ця маса, в обсязі двох смужок на мірник. Після цього масу змішують руками протягом 30 секунд. Потім замішують коригуючу масу протягом 30 секунд. Замішаний базовий матеріал оформляють у вигляді блока, на нього наносять коригуючий матеріал зверху і знизу шпателем. Частина коригуючого матеріалу вводять в канал зуба за допомогою ротаційного інструменту - каналонаповнювача (Лентуло). Далі встановлюють блок базового матеріалу з нанесеною на нього коригуючої масою в область робочої групи зубів без тиску і замикають зубні ряди в центральному положенні. Формують краю відбитка масажними рухами руки, зміщуючи щоку вгору, вниз і вперед. Після закінчення 3 хвилин коригуюча маса застигає і отриманий готовий комбінований силіконовий відбиток витягують з порожнини рота. Перевага способу: точність отримання відображення тканин без компресійного спотворення, зменшення часу виготовлення, менша витрата коригуючого матеріалу. Джерела інформації: 1. Трезубов В.Н., Мішньов Л.М., Жульов Е.Н. Ортопедична стоматологія / прикладне матеріалознавство. - М.: МЕДпресс-інформ, 2009. - 384 с. 40 ФОРМУЛА КОРИСНОЇ МОДЕЛІ 45 50 Спосіб отримання комбінованого С-силіконового відбитка при виготовленні куксових вкладок непрямим способом, що включає в себе заміс базисної та коригуючої маси, формування базисного матеріалу у вигляді блока, нанесення коригуючого матеріалу на базисний матеріал і в канал зуба, введення матеріалів у порожнину рота в область робочої групи зубів, змикання щелеп в центральному положенні і формування м'якими тканинами щік краю відбитка, який відрізняється тим, що коригуючий матеріал готують заздалегідь і замішують відразу після приготування базисного матеріалу, наносять з кожного боку блока базисного матеріалу, встановлюють даний блок на робочих зубах пацієнта без тиску. Комп’ютерна верстка Л. Ціхановська Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Василя Липківського, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут інтелектуальної власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 1