Спосіб моніторингу крену висотних споруд
Номер патенту: 41254
Опубліковано: 12.05.2009
Автори: Хоружа Наталія Вікторівна, Ларченко Віталій Григорович
Формула / Реферат
Спосіб моніторингу крену висотних споруд, що полягає в реєстрації положення вертикальної осі висотного об'єкта, який відрізняється тим, що реєстрацію ведуть по променю лазерного приладу, розміщеного поза зоною нахилу фундаменту висотних споруд, при цьому промінь направляють на відбивач (дзеркало), а відбитий промінь фіксують на градуйованому й орієнтованому по сторонах світу екрані.
Текст
Спосіб моніторингу крену висотних споруд, що полягає в реєстрації положення вертикальної осі висотного об'єкта, який відрізняється тим, що реєстрацію ведуть по променю лазерного приладу, розміщеного поза зоною нахилу фундаменту висотних споруд, при цьому промінь направляють на відбивач (дзеркало), а відбитий промінь фіксують на градуйованому й орієнтованому по сторонах світу екрані. (19) (21) u200815055 (22) 26.12.2008 (24) 12.05.2009 (46) 12.05.2009, Бюл.№ 9, 2009 р. (72) ЛАРЧЕНКО ВІТАЛІЙ ГРИГОРОВИЧ, UA, ХОРУЖА НАТАЛІЯ ВІКТОРІВНА, UA (73) ДОНБАСЬКИЙ ДЕРЖАВНИЙ ТЕХНІЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ, UA 3 екраном 5 установлюють захисний навіс 6 з підсвічуванням 20 (фіг.2), призначений для захисту екрана 5 від дощу і снігу. Біля об'єкта 1 установлена перша захисна шухляда 7, у яку поміщене дзеркало 8 на трегері 13 з рівнями 15 і мікрометренними гвинтами 17 для відбиття променя 9 від лазерного приладу 10. У вільному від вібрації місці в другій захисній шухляді 12 на твердій опорі 11 установлений лазерний прилад 10. Дзеркало 8, як і лазерний прилад 10 установлене на трегері 13 (фіг.З) з піднімальними гвинтами 14, рівнями 15 і мікрометренними гвинтами 17 для приведення його в робоче положення і розташовано на іншій твердій опорі 16. Мікрометренні гвинти 17 дзеркала 8 необхідні для установки променя 9 лазерного приладу 10 у точці екрана 5, що відповідає будівельному (початковому) крену, визначеному традиційним геодезичним способом із трьох пунктів. Поруч із дзеркалом 8 установлена зорова труба теодоліта (кіпрегеля) 18 зі збільшенням не x менш 30 та з призменною насадкою 19 для спостереження за моніторингом крену на градуйованому й орієнтованому екрані 5. 41254 4 Встановлений у верхній частині висотного спорудження градуйований і орієнтований екран 5 (фіг.2) на матовому склі з підсвічуванням 20 дозволить вести постійні спостереження за змінами величини і напрямку крену (вертикальної осі 21 об'єкта 1 у верхній його частині) від впливу швидкості і напрямку вітру, теплового нагрівання труби, зміни температури повітря, нахилу фундаменту 2 висотних об'єктів по зміні положення променя 9, відбитого дзеркалом від нерухомого лазерного приладу 10. Використання пропонованого способу моніторингу крену висотних споруд дозволяє: 1. Вести постійний моніторинг із високою точністю. 2. Виключити необхідність геодезичних вимірів і їхньої математичної обробки. 3. Установлювати залежність крену від впливу швидкості вітру, від температури. 4. Значно знизити трудомісткість і підвищити комфортабельність спостережень. 5. Вибрати оптимальний матеріал для споруджень висотного типу. 5 Комп’ютерна верстка Д. Шеверун 41254 6 Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for monitoring of tilt of high-rise constructions
Автори англійськоюLarchenko Vitalii Hryhorovych, Khoruzha Natalia Viktorivna
Назва патенту російськоюСпособ мониторинга крена высотных сооружений
Автори російськоюЛарченко Виталий Григорьевич, Хоружа Наталья Викторовна
МПК / Мітки
МПК: G01C 1/00
Мітки: споруд, моніторингу, крену, спосіб, висотних
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-41254-sposib-monitoringu-krenu-visotnikh-sporud.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб моніторингу крену висотних споруд</a>
Попередній патент: Подрібнювач
Наступний патент: Вимикаючий пристрій постійного струму
Випадковий патент: Спосіб вирощування монокристалів купрум(і) пентатіофосфату(v) броміду cu6ps5br методом спрямованої кристалізації з розплаву