Патенти з міткою «високогігроскопічних»
Спосіб обробки поверхонь високогігроскопічних галоїдних кристалів для виготовлення сцинтиляторів
Номер патенту: 113591
Опубліковано: 10.02.2017
Автори: Тарасов Володимир Олексійович, Реброва Надія Василівна, Горбачова Тетяна Євгенівна, Бобовніков Олександр Анатолійович, Андрющенко Любов Андріївна, Галенін Євгеній Петрович
МПК: G01T 1/202
Мітки: поверхонь, спосіб, сцинтиляторів, кристалів, високогігроскопічних, обробки, галоїдних, виготовлення
Формула / Реферат:
Спосіб обробки поверхонь високогігроскопічних галоїдних кристалів для виготовлення сцинтиляторів, що включає обробку торцевих поверхонь кристалів композиціями, які містять абразивний порошок з гексаметилдисилазаном в складі, промивку поверхонь гексаметилдисилазаном, полірування поверхні сцинтилятора з боку вихідного вікна абразивом з розміром зерна 3-5 мкм та обробку поверхні сцинтилятора з боку вхідного вікна, який відрізняється тим, що...