Спосіб підвищення ефективності субмікронних фрикційних демпферів контактної дії
Формула / Реферат
Спосіб підвищення ефективності субмікронних фрикційних демпферів контактної дії, який передбачає використання механічних контактів як елементів жорсткості, який відрізняється тим, що контактні поверхні демпферів опромінюються імпульсами неодимового лазера тривалістю 1-100 наносекунд з поверхневою густиною потужності опромінення в межах 1010-1013 Вт/м2, при цьому на контактних поверхнях утворюється мікрорельєф із підвищеною нерівномірністю розподілу матеріалу по висоті шорсткого шару та зменшується середній радіус кривизни вершин контактуючих виступів мікрошорсткості, а поверхневий шар загартовується до мікротвердості в 2,5-5 ГПа, що веде до збільшення показника відносного розсіяння механічної енергії в демпфері в 2-8 разів в діапазоні амплітуд коливань 0,01-1 мкм, а також до підвищення вібростійкості демпфера.
Текст
Спосіб підвищення ефективності субмікронних фрикційних демпферів контактної дії, який передбачає використання механічних контактів як елементів жорсткості, який відрізняється тим, що контактні поверхні демпферів опромінюються імпульсами неодимового лазера тривалістю 1-100 3 35947 графу ділянки поверхні після опромінення. На Фіг. 3 наведена схема субмікронного фрикційного демпфера контактної дії: 1 - корпус, 2 - платформа демпфера, 3 - контакти, площини яких тангенційні до напрямку вібраційної дії, 4 - контакти, площини яких нормальні до напряму вібраційної дії, 5 - напрям дії сили вібрації. Спосіб підвищення ефективності субмікронних фрикційних демпферів контактної дії використовується наступним чином. Металеві контактні поверхні демпфера опромінюються імпульсами неодимового лазера з довжиною хвилі випромінювання 1,06мкм тривалістю 1-100 наносекунд при значеннях поверхневої густини оптичної потужності в межах 1010-1013Вт/м 2. При цьому на поверхні металів утворюється мікрорельєф з підвищеною нерівномірністю розподілу матеріалу по висоті поверхневого шару та зменшується середній радіус кривизни вершин виступів мікрошорсткості - Фіг. 1, 2. Зростання нерівномірності розташування вершин мікровиступів по висоті шорсткого шару веде до підвищення градієнту тиску на плямах фактичного контакту мікровиступів поверхонь корпусу та платформи демпфера. Це збільшує розсіяння механічної енергії в тангенційно навантажених контактах (позиція 3 на Фіг. 3) за рахунок тангенційних мікропроковзувань менш стиснути х виступів. Зменшення радіуса кривизни вершин контактуючих виступів веде до збільшення розсіяння механічної Комп’ютерна в ерстка Д. Шев ерун 4 енергії в нормально навантажених контактах (позиція 4 на Фіг. 3) за рахунок бокового мікропроковзування взаємодіючих виступів. В результаті відношення розсіяної за цикл коливань механічної енергії до максимальної енергії пружної деформації контактних елементів демпфера збільшується в 2-8 разів в діапазоні амплітуд коливань 0,01-1мкм зокрема, для таких металів як негартована сталь 45, сталь 45, покрита нітридом титану Ті N, гартована сталь ХГСА, титановий сплав ОТ - 4. Опромінення поверхонь металів у вказаному режимі генерації неодимового лазера веде до гартування поверхневого шару з показником результуючої мікротвердості 2,5-5ГПа, релаксації початкових поверхневих макронапружень та встановлення стискуючих макронапружень у поверхневих шарах. Це підвищує опір матеріалу контактів пластичній деформації та збільшує вібростійкість конструкції. Джерела інформації: 1. Вибрации в технике. Справочник в 6 томах. Том 6. Защита от вибрации и ударов // Под. ред. К. В. Фролова._М: Машиностроение. - 1995 2. Hinkle J. D., Peterson L. D., Warren P. A. Component Level Evaluation of a Friction Damper for Submicron Vibrations // Proc. 43rd Structures, Structural Dynamics and Materials Сonference. - Colorado, USA 22-25 April 2002, 1-8. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for increase of efficiency of sub-micron friction dampers with contact action
Автори англійськоюZaspa Yurii Petrovych
Назва патенту російськоюСпособ повышения эффективности субмикронных фрикционных демпферов контактного действия
Автори російськоюЗаспа Юрий Петрович
МПК / Мітки
МПК: F16F 11/00, F16F 7/00
Мітки: спосіб, ефективності, субмікронних, фрикційних, підвищення, демпферів, контактної, дії
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-35947-sposib-pidvishhennya-efektivnosti-submikronnikh-frikcijjnikh-dempferiv-kontaktno-di.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб підвищення ефективності субмікронних фрикційних демпферів контактної дії</a>
Попередній патент: Спосіб формування деталей швейних виробів об’ємно-просторової форми в рідинно-активному середовищі
Наступний патент: Контактний пристрій колекторно-щіткового механізму двигуна постійного струму
Випадковий патент: Елемент пельтьє