Пристрій для випарування матеріалів
Номер патенту: 37466
Опубліковано: 25.11.2008
Автори: Криночкін Роман Володимирович, Новіков Анатолій Олександрович
Формула / Реферат
Пристрій для випарування матеріалів, що складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель з встановленим над ним колектором пари, і розташованих ззовні послідовно функціонально з'єднаних нагрівника, мікропроцесорної системи керування нагрівником і системи контролю стану процесу, який відрізняється тим, що в нього введено ваговий тензометричний сенсор, розташований над технологічною камерою в окремому корпусі, з зондом, розміщеним всередині технологічної камери, причому вихід вагового тензометричного сенсора з'єднаний зі входом системи контролю стану процесу.
Текст
Пристрій для випарування матеріалів, що складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель з встановленим над ним колектором 3 37466 з'єднаний зі входом системи контролю стану процесу. На креслені представлена структурна схема пропонуємого пристрою, де позначено: 1 - нагрівник; 2 - тигель; 3 - мікропроцесорна система керування нагрівником 1; 4 - колектор пари; 5 - технологічна камера; 6 - система контролю стану процесу; 7 - ваговий тензометричний сенсор (ВТС); 8 - корпус; 9 - зонд. При цьому тигель 2 і розміщені над ним колектор пари 4 та зонд 9 знаходяться в технологічній камері 5. А нагрівник 1, мікропроцесорна система керування нагрівником 3, функціонально зв'язана з нею система контролю стану процесу 6, корпус 8 і встановлений в ньому ВТС 7 розміщені зовні технологічної камери 5, причому вихід ВТС 7, зв'язаний зі входом системи Комп’ютерна в ерстка Л. Купенко 4 контролю стану процесу 6, а ви хід мікропроцесорної системи керування нагрівником 3 зв'язаний зі входом керування нагрівника 1. Пристрій працює наступним чином. Під час проведення процесу пара матеріалу з тигля 2 осаджується на колекторі пари 4 і зонді 9. Технологічна камера 5 та корпус 8 є вакумованими об'ємами. При отримані сигналу від ВТС 7, про зміну ваги нанесеного на зонді 9 і відповідно на колекторі пари 4 покриття, система контролю стану процесу 6 здійснює через мікропроцесорну систему керування нагрівником 3 відповідно до програми заданого технологічного процесу вплив на нагрівник 1, результатом якого є підтримка стану процесу в рамках заданих те хнологічних умов. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for vaporation of materials
Автори англійськоюKrynochkin Roman Volodymyrovych, Novikov Anatolii Oleksandrovych
Назва патенту російськоюУстройство для выпаривания материалов
Автори російськоюКриночкин Роман Владимирович, Новиков Анатолий Александрович
МПК / Мітки
МПК: C23C 14/00
Мітки: пристрій, матеріалів, випарування
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-37466-pristrijj-dlya-viparuvannya-materialiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для випарування матеріалів</a>
Пристрій для випарювання матеріалів
Номер патенту: 10471
Опубліковано: 15.11.2005
Автори: Криночкін Роман Володимирович, Новіков Анатолій Олександрович, Божко Анатолій Опанасович
МПК: C23C 14/00
Мітки: пристрій, матеріалів, випарювання
Формула / Реферат:
Пристрій для випарювання матеріалів, що складається з технологічної камери, в якій розміщений нагрівник, тигель, колектор пари, мікропроцесорної системи керування нагрівником і системи вимірювання і контролю густини пари, які встановлені зовні технологічної камери, який відрізняється тим, що в тигель та колектор пари введені калориметричні вимірювачі потужності нагрівника та колектора пари, виходи яких з'єднані з входом мікропроцесорної...
Пристрій для захисту електролітів гальванічних ванн та травильних розчинів від випарування
Номер патенту: 22247
Опубліковано: 30.06.1998
Автор: Лелюк Василь Петрович
МПК: C25D 21/00
Мітки: гальванічних, розчинів, пристрій, ванн, травильних, електролітів, випарування, захисту
Формула / Реферат:
Устройство для защиты электролитов гальванических ванн и травильных растворов от испарения, состоящее из защитного экрана в виде поплавков из полимерных материалов, состоящих из полусфер и шести гранной пластины, отличающееся тем, что на верхних и нижних плоскостях шестигранной пластины расположены шаровые сегменты, радиус основания которых равен радиусу вписанной окружности шестигранника, а высота сегмента равна 0,7-1,1 части толщины...
Пристрій для обробки матеріалів різальним диском
Номер патенту: 53014
Опубліковано: 15.01.2003
Автори: Зарубицький Євген Улянович, Покинтелиця Микола Іванович, Клименко Юрій Валерійович, Бондар Тетяна Анатоліївна, Рубанов Михайло Євгенович
МПК: B23D 23/00
Мітки: матеріалів, диском, різальним, пристрій, обробки
Формула / Реферат:
Пристрій для обробки матеріалів різальним диском, що містить корпус різального диска та елементи його кріплення на шпинделі верстата, який відрізняється тим, що пристрій оснащений нагрівником, наприклад багатосопловим пальником, закріпленим на рухомому кронштейні, який з'єднано за допомогою шарніра з державкою.
Пристрій для переробки відходів вольфрамо-кобальтових композиційних матеріалів
Номер патенту: 6550
Опубліковано: 16.05.2005
Автори: Поліщук Володимир Сидорович, Дарда Юрій Антонович
МПК: B22F 9/16
Мітки: відходів, вольфрамо-кобальтових, матеріалів, композиційних, пристрій, переробки
Формула / Реферат:
1. Пристрій для переробки відходів вольфрамо-кобальтових композиційних матеріалів, що має піч з тиглем, вібратор, що з'єднаний з цим тиглем, ковпак з патрубками для нагнітання в тигель і відкачування з нього газу та контролю температури і патрубок, що приєднаний до дна тигля, який відрізняється тим, що пристрій обладнано підйомником, на який встановлено тигель з двома вібраторами, один з цих вібраторів має збудник коливань високої частоти з...
Пристрій для теплової обробки сипучих матеріалів у середовищі газу
Номер патенту: 33443
Опубліковано: 25.06.2008
Автори: Алімов Валерій Іванович, Штихно Алла Петрівна, Афанасьєва Марія Вікторівна
МПК: C22B 1/00
Мітки: теплової, середовищі, матеріалів, сипучих, пристрій, газу, обробки
Формула / Реферат:
1. Пристрій для теплової обробки сипучих матеріалів у середовищі газу, що містить футерований корпус із нагрівачами, установлений з можливістю переміщення, і поміщений у нього металевий тигель із кришкою й підвідними і відвідними патрубками, який відрізняється тим, що кришка встановлена з можливістю зміни об'єму робочого простору тигля й оснащена шипами-пальцями.2. Пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що кришка встановлена з...
Попередній патент: Спосіб ключового хешування теоретично доведеної стійкості
Наступний патент: Спосіб лікування дуоденогастроезофагеального рефлюксу
Випадковий патент: Спосіб вирощування стиглих еталонних соснових культур у свіжій судіброві господарства швидкого приросту