Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Пристрій для отримання плазмових згустків, що містить електроди, які ввімкнуті до джерела електричного живлення розряду, між якими створюється плазма, який відрізняється тим, що в пристрій введені джерела електричних і (або) магнітних імпульсів, дія яких спрямована на плазму, утворену внаслідок електричного розряду в середовищі або вибуху провідника під дією електричного струму.

Текст

Пристрій для отримання плазмових згустків, що містить електроди, які ввімкнуті до джерела електричного живлення розряду, між якими створюється плазма, який відрізняється тим, що в пристрій введені джерела електричних і (або) магнітних імпульсів, дія яких спрямована на плазму, утворену внаслідок електричного розряду в середовищі або вибуху провідника під дією електричного струму. (19) (21) u200811633 (22) 29.09.2008 (24) 25.03.2009 (46) 25.03.2009, Бюл.№ 6, 2009 р. (72) СЕВАСТЬЯНОВ ВОЛОДИМИР ВАЛЕНТИНОВИЧ, UA, КОГУТ МИКОЛА МАКАРОВИЧ, UA (73) ДЕРЖАВНЕ ПІДПРИЄМСТВО "НАУКОВОДОСЛІДНИЙ ІНСТИТУТ "ГЕЛІЙ", UA 3 2 Враховуючи, що Ek = mv = 3 kT , 2 2 де: Ек - кінетична енергія частки; m - маса; ν - швидкість; k - постійна Больцмана; Τ - температура; Одержуємо умову обмеження температури: 3 E g < Ek = kT 2 де: E g - енергія дисоціації. Звідки: T >R, де: R - радіус колового струму. Комп’ютерна верстка О. Рябко 40035 4 Збільшення часу існування плазмового згустку за рахунок збільшення концентрації диполів можливе при збільшенні тиску в плазмі або зменшення тривалості електричного розряду при достатній його енергії. Довготривалий електричний розряд пов'язаний з втратами плазми внаслідок теплового розширення, конвекції і випромінювання. При отримання плазмових згустків в пристрої, який пропонується, досягається значне збільшення часу існування плазмових згустків внаслідок використання способів збільшення запасу енергії диполів та їх концентрації (кількості). На Фіг.1 приведена схема пристрою для отримання плазмових згустків, що містить джерело імпульсного магнітного поля 1, джерело електричного імпульсного поля 2, джерело живлення електричного розряду 3, яке живить електричний розряд між електродами 5. Плазма 4 утворюється в зоні дії електричних і (або) магнітних імпульсів. Джерела 1, 2, 3 можуть живитися від мережі електричного струму, від автономних джерел живлення, або використовувати струм електричного розряду (для джерел 1 і 2). Один із варіантів реалізації пристрою приведений на Фіг.2. Пристрій працює у такий спосіб. Накопичувальний конденсатор 4 заряджається до заданого рівня напруги зарядним пристроєм 5, потім замикається контактор 3 і конденсатор розряджається через провідник 2 та індуктивність 1, внаслідок чого відбувається вибух (згоряння) провідника 2 з утворенням плазми. Напруга на конденсаторі знижується, розряд припиняється. Плазма, що утворилась внаслідок електричного розряду, потрапляє під дію електрорушійної сили самоіндукції індуктивності 1 та (або) її магнітного поля. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Device for generation of plasma wisps

Автори англійською

Sevastianov Volodymyr Valentynovych, Kohut Mykola Makarovych

Назва патенту російською

Устройство для получения плазменных сгустков

Автори російською

Севастьянов Владимир Валентинович, Когут Микола Макарович

МПК / Мітки

МПК: H05H 1/00

Мітки: плазмових, згустків, пристрій, отримання

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-40035-pristrijj-dlya-otrimannya-plazmovikh-zgustkiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для отримання плазмових згустків</a>

Подібні патенти