Пристрій для очистки газу

Пристрій для очистки газу, який містить корпус з вхідним та вихідним патрубками, в середині якого розташована тарілка провального типу і стабілізатор пінного шару, встановлений над площиною тарілки на висоті 0,6-3,5 еквівалентного діаметра отворів тарілки, який відрізняється тим, що стабілізатор пінного шару виконаний у вигляді крильчатки, що встановлена на вісі з можливістю обертання. Винахід відноситься до техніки вологої очистки газів, зокрема до очистки газів від твердих завислих частинок Відомий пристрій для очистки газу, який містить корпус, розташовану в середині корпуса тарілку провального типу та стабілізатор пінного шару (авторське свідоцтво СРСР № 434969, кл. B01D 47/04, 1974) Однак, у даному пристрої при підвищених витратах газу у верхньому шарі піни виникає невигідна пульсуюча струминна зона (так званий хвильовий режим роботи пінного апарата), внаслідок чого знижується ефективність його роботи. Використання коміркових стабілізаторів пінного шару створює незручності під час їх заміни внаслідок виходу з ладу. Найбільш близьким до винаходу є пристрій для очистки газу, який містить корпус з вхідним та вихідним патрубками, всередині якого розташована тарілка провального типу і стабілізатор пінного шару, встановлений над площиною тарілки на висоті 0,6 - 3,5 еквівалентного діаметра отворів тарілки (авторське свідоцтво СРСР № 691164, кл B01D 47/04, 1979) Проте, у відомому пристрої при лінійних швидкостях газу понад 4м/с внаслідок пульсації шару піни виникають прориви неочищеного газу крізь стабшізатор пінного шару, виконаний комірковим, що приводить до зменшення ефективності пристрою Тому продуктивність пристрою обмежується верхньою границею допустимої швидкості В основу винаходу поставлене завдання створення такого пристрою для очистки газу, в якому нове виконання стабілізатора пінного шару дозво лить запобігти виникненню хвильового режиму, внаслідок чого підвищується ефективність очистки газу та продуктивність пристрою Поставлене завдання вирішується тим, що у пристрої для очистки газів, який містить корпус з вхідним та вихідним патрубками, всередині якого розташована тарілка провального типу і стабілізатор пінного шару, встановлений над площиною тарілки на висоті 0,6 - 3,5 еквівалентного діаметра отворів тарілки, згідно винаходу, стабілізатор пінного шару виконаний у вигляді крильчатки, що встановлена на вісі з можливістю обертання Заміна коміркового стабілізатора крильчаткою дозволяє збільшити продуктивність пристрою в 1,2 - 1,3 рази Де досягається підвищенням лінійної швидкості газу до 5м/с, оскільки в запропонованому пристрої виключається можливість прориву неочищеного газу крізь пульсуючий пінний шар, внаслідок чого підвищується і ефективність очистки газу. На фігурі представлена принципова схема пристрою для очистки газу Пристрій для очистки газу містить корпус 1 з вхідним 2 та вихідним 3 патрубками, патрубки подачі 4 та видалення 5 рідини, розташовану всередині корпуса тарілку провального типу 6 і стабілізатор пінного шару 7, який встановлений над площиною тарілки 6 на висоті 0,6 - 3,5 еквівалентного діаметра отворів тарілки 6, та виконаний у вигляді крильчатки, що встановлена на ВІСІ З МОЖЛИВІСТЮ обертання. Корпус 1 має сепаратор 8 для вловлювання частинок рідини, які виносяться потоком газу Крім того, вісь крильчатки захищена бризковідбійником 9. CM 41520 Пристрій працює так. Необроблений газ надходить в простір корпуса 1 через вхідний патрубок 2 під тарілку провального типу 6, далі, після проходження через отвори тарілки 6, він взаємодіє з рідиною, яка надходить в корпус 1 через патрубок 4 подачі рідини і утворює на тарілці 6 шар рухомої піни. У шарі піни пил поглинається рідиною, яка після проходження через отвори тарілки 6, вловлює в підтарілковому просторі більш крупні частинки пилу. Суспензія, яка утворилася під час цього, видаляється через патрубок 5 видалення рідини Утворенню і стабілізації пінного шару на тарілці 6 сприяє стабілізатор пінного шару 7, який виконаний у вигляді крильчатки і приводиться до обертання потоком газу, при чому найефективніший процес відбувається при великих швидкостях потоку - до 5м/с Оброблений газ видаляється з корпуса 1 через вихідний патрубок З, проходячи перед цим сепаратор 8. ДП «Український інститут промислової власності» (Укрпатент) вул. Сім'ї Хохлових, 15, м. Київ, 04119, Україна (044) 456 - 20 - 90