Установка для вакуум-плазмового напилення

Установка для вакуум-плазмового напилення, що містить генератор плазми, систему відкачки повітря з вакуумної камери, засіб для накачування робочого газу до вакуумної камери та вакуумну камеру, в якій розташовані, тримач виробу, підпалюючий електрод, катод і фокусуюча котушка, що гальванічно з'єднані з генератором плазми, а також систему управління процесом вакуумплазмового напилення, яка відрізняється тим, що установка доповнена нагрівачем, встановленим у вакуумній камері ) призначеним для попереднього нагрівання виробу, що піддають вакуумплазмовому напиленню. Пропонована корисна модель відноситься до засобів одержання покриття шляхом його вакуумплазмового напилення на поверхню деталі, а більш конкретно, до конструкцій установок для вакуум-плазмового напилення. Найбільш близькою до пропонованої за технічною сутністю є установка для вакуум-плазмового напилення, що містить генератор плазми, систему відкачки повітря з вакуумної камери, засіб для натікання робочого газу до вакуумної камери та вакуумну камеру, в якій розташований утримувач деталі, підпалюючий електрод, катод і фокусуюча котушка, гальванічно з'єднані з генератором плазми, а також систему управління процесом вакуумплазмового напилення [Нанесение износостойких покрытий на быстрорежущий инструмент / Внуков Ю.Н., Марков А.А., Лаврова Л.В., Бердышев Н.Ю./ Под ред В.И Гороховского - К.: "Техника", 1992. 141 с ] . Недолік описаної конструкції полягає у розтравленні кромок деталей в процесі іонного травлення при проведенні напилення в установці вакуум-плазмового напилення. У основу пропонованої" корисної моделі поставлена задача створення такої установки для вакуум-плазмового напилення, яка б дозволила суттєво зменшити розтравлення кромок деталей в процесі іонного травлення при проведенні напилення шляхом створення умов для попереднього розігріву виробу. Поставлена задача вирішується у пропонова ній установці, яка, як і відома установка для вакуум-плазмового напилення, містить генератор плазми, систему відкачки повітря з вакуумної камери, засіб для натікання робочого газу до вакуумної камери та вакуумну камеру, в якій розташований утримувач виробу, підпалюючий електрод, катод і фокусуюча котушка, гальванічно з'єднані з генератором плазми, а також систему управління процесом вакуум-плазмового напилення, а, ВІДПОВІДНО до пропозиції, установка доповнена нагрівачем, встановленим у вакуумній камері і призначеним для попереднього нагрівання виробу, який піддають вакуум-плазмовому напиленню. Нагрівач - непряме джерело нагрівання - доводить температуру виробу до необхідного для проведення осадження покриття значення. Суть пропонованої корисної моделі показана на схематичному кресленні Установка для вакуум-плазмового напилення, містить генератор плазми 1, систему відкачки повітря з вакуумної камери 2, засіб для натікання робочого газу (не показаний) до вакуумної камери та вакуумну камеру З У вакуумній камері 3 розташований утримувач (не показаний) виробу 4, підпалюючий електрод 5, катод 6 і фокусуюча котушка 7, гальванічно з'єднані з генератором плазми 1, забезпеченим блоком живлення (не показаний) Установка забезпечена системою управління процесом вакуум-плазмового напилення (не показана). У вакуумній камері 3 встановлений нагрівач 8, призначений для попереднього нагрівання виробу ю CM 4250 4, який піддають вакуум-плазмовому напиленню. Нагрівам 8 гальванічно з'єднаний з блоком живлення І системою керування і контролю підігрівом (не показані). Установка для вакуум-плазмового напилення працює так. У вакуумній камері 3 на утримувачі встановлюють виріб 4 Подають електричну напругу на нагрівам 8 і нагрівають виріб 4 до 300-350°С. Потім герметизують вакуумну камеру З І відкачують повітря до тиску Р=0,12-0,65 Па. Подають напругу на генератор плазми 1 і виконують дії щодо створен 4 ня плазми між електродом 5 і катодом 6. Регулюючи рівень току, що проходить по ланцюгу: блок живлення генератора плазми 1 (-Едуг), катод 6, корпус 3, блок живлення генератора плазми 1 (+ЕДуг), створюють оптимальні умови для нанесення покриття на виріб 4. Завдяки тому, що виріб 4 вже був підігрітий, він не потребує нагріву іонним потоком. Таким чином при нанесенні вакуумплазмових покриттів на вироби, що потребують збереження гострих кромок, наприклад на різальний інструмент, останні залишаються в незайманому вигляді і не розтравлюються. Фіг Комп'ютерна верстка А. Крулевский Підписне Тираж 37 прим Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП "Український інститут промислової власності", вул. Глазунова, 1, м. Київ - 4 2 , 01601