Спосіб дозування сипучих матеріалів і рідин в ємкості, що знаходяться під вакуумом

Номер патенту: 63559

Опубліковано: 15.01.2004

Автор: Беркін Дмитро Георгійович

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб дозування сипучих матеріалів і рідин в ємкості, що знаходяться під вакуумом, який відрізняється тим, що дозування здійснюють відкриванням на постійну величину і визначений час клапана дозатора або змінюють величину пропускного зазору при незмінному терміні відкриття клапана.

Текст

Винахід відноситься до способів дозування сипучих матеріалів і рідин, що використовуються переважно у макаронному виробництві. Відомий спосіб дозування сипучих і рідин, що застосований в дозаторі для макаронного виробництва DAF-80 італійської фірми "Паван Мініп'янті СпА" - прототип. (Див. Описання дозаторів типу TCDA фірми "Бюлер" і типу DAF-80 італійської фірми "Паван Мініп'янті СпА", — в кн.: Чернов В.Е. Макаронное производством. Мир, 1994. Cтop. 100-102.) Відомий спосіб є найближчим технологічним рішенням по суті і досягаємому результату, який полягає у тому, що дозування здійснюється двома фазами: наповнення і розгрузка - з управлінням процессу програмним забезпеченням та контролем електронними датчиками рівнів інгредієнтів в дозуючій камері муки і дозуючому циліндрі води Недоліком відомого винаходу є необхідність у дозуючих ємкостях та відповідному електронному обладнанні з програмним забезпеченням. В основу винаходу поставлено завдання удосконалення способу дозування сипучих матеріалів і рідин вилученням такого проміжного елементу як об'ємні дозатори. У винаході, що пропонується, дозування сипучих матеріалів і рідин здійснюється періодичним відкриванням клапану (див. фіг.1, 2) на постійну величину і визначений час, який можна змінювати. Оскільки пропускна можливість пропускного зазору постійна, змінюючи час відкриття клапану можна змінювати кількість рідини або сипучого матеріалу, що проходить через зазор між клапаном і сідлом клапану. Під клапаном знаходиться вакуум, а над клапаном рідина або сипучий матеріал під атмосферним тиском. Внаслідок чого, при відкритті клапану рідина або сипучий матеріал устрімляється через зазор в ємкість, що знаходиться під вакуумом. Винахід дозволяє також виконати дозування змінюючи величину пропускного зазору при незмінному терміну відкриття клапану. Описаний спосіб дозволяє виключити застосування проміжних елементів - таких як об'ємні дозатори, і відмовитися від застосування електронних датчиків в механізмі дозування, оскільки дозування можна змінювати механічно - при постійному терміну відкриття клапану, або за допомогою любого таймеру - при постійній величині пропускного зазору. Дозатор для макаронного виробництва, з застосуванням запропонованого способу дозування сипучих і рідин, може бути виготовлений на будь-якому машинобудівному виробництві.

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for metering out free-flowing material or liquid discharged in containers in vacuum environment

Назва патенту російською

Способ дозирования сыпучего материала или жидкости при загрузке в емкости в условиях вакуума

МПК / Мітки

МПК: G01G 13/00

Мітки: вакуумом, сипучих, ємкості, дозування, матеріалів, рідин, знаходяться, спосіб

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-63559-sposib-dozuvannya-sipuchikh-materialiv-i-ridin-v-ehmkosti-shho-znakhodyatsya-pid-vakuumom.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб дозування сипучих матеріалів і рідин в ємкості, що знаходяться під вакуумом</a>

Подібні патенти