Маска косметична для догляду за шкірою обличчя
Номер патенту: 52783
Опубліковано: 15.01.2003
Автори: Виговський Аркадій Борисович, Євченко Михайло Анатолійович, Кірпенко Юрій Олексійович, Кірпенко Наталія Іванівна
Формула / Реферат
Косметична очисна маска для догляду за шкірою обличчя, яка відрізняється тим, що містить екстракти мікроводоростей та хвойної лапки, природні церезини, ефірні олії, сольову композицію Хенкса та як основу – гель поліетиленоксиду, при наступному співвідношенні компонентів, мас. %:
екстракт мікроводоростей
5-10,0
екстракт хвойної лапки
1-2
природні церезини
1-2
ефірні олії
сольова композиція Хенкса
у тому числі:
хлористий кальцій
хлористий магній
хлористий натрій
поліетиленоксид
Текст
Косметична очисна маска для догляду за шкірою обличчя, яка відрізняється тим, що містить екстракти мікроводоростей та хвойної лапки, природні церезини, ефірні олії, сольову компози Винахід стосується косметики - очисних засобів догляду за шкірою обличчя Композиційно до маски входять гелеутворююча основа, екстракти з мікроводоростей та хвойної лапки (білки, вітаміни, амінокислоти), природні церезини, ефірні олії, солева композиція Хенкса при наступному співвідношенні компонентів, мас % екстракти мікроводоростей 5 -10,0, екстракти хвойної лапки 5 -10,0, природні церезини 1 - 2, ефірні олії 0,5 -1,0, солева композиція Хенкса (в тому числі хлористий калій 0,2 - 0,3, хлористий кальцій 0,1 - 0,2, хлористий магній 0,1 - 0,2, хлористий натрій 0,1 - 0,5) 1,0 - 2,0, гелеутворююча основа (поліетиленоксид) останнє У такій композиції маска підвищує ступінь очистки шкіри обличчя та зберігає необхідні речовини у клітинах Маска являє собою пастоподібну речовину, яка наноситься на шкіру обличчя, запобігаючи попаданню на слизові оболонки, на 15 - 20 хвилин, після чого змивається водою Маска наноситься з метою пом'якшення, підвищення еластичності, зняття запальних явищ, загартування й очищення цію Хенкса та як основу - гель поліетиленоксиду, при наступному співвідношенні компонентів, мас екстракт мікроводоростей екстракт хвойної лапки природні церезини ефірні олії сольова композиція Хенкса утому числі хлористий калій хлористий кальцій хлористий магній хлористий натрій поліетиленоксид 5-10,0 1-2 1-2 0,5-1,0 1,0-2,0 0,2-0,3 0,1-0,2 0,1-0,2 0,1-0,5 решта шкіри Відома косметична маска для догляду за шкірою обличчя, яка у якості складових частин має каолін, окис цинку, тальк, рослинні біологічно активні речовини [пат Франції № 2362919, МКИ А 61 К 7/48, 1972р] Також відома крем-маска, до складових частин якої входять комплекс біологічно активних речовин спиртоводогліцериновий екстракт обліпихи або комплексний СС^-екстракт календули та просяного борошна, а також спиртоводогліцериновий екстракт хмелю або СС^-екстракт піхти [пат РФ № 2028796, МКИ А 61 К 7/00, 20 02 95] Відома косметична маска, яка у своєму складі має крюпорошок лікарської рослинної сировини, вітамінізоване сухе молоко, крюпорошок вівса [пат РФ № 2007162, МКИ А 61 К 7/48, 15 02 94], при наступному співвідношенні компонентів на 2,5г маски крюпорошок лікарської рослинної сировини 0,2 - 0,8г, молоко сухе вітамінізоване 0,5 -1,5г, крюпорошок вівса останнє Слід вказати ще на одну очисну маску для догляду за шкірою обличчя, до складу якої включені основа (тальк та каолін), бентонітова глина, фруктові мелені кісточки, олеат поліетиленгліколю (ПЕГ), біологічно активні речовини рослинного О со 00 ю 52783 походження (олійний екстракт ромашки, екстракт зеленої частини піхти сибірської, мелені листя кропиви), бензоат натрію, карбамід, резорцин, вантол або бронопол [пат РФ № 2030911, МКИ А 61 К 7/48, 20 03 95] Недоліками вказаних масок є низька очисна здатність, яка є слідством малої сорбційної здатності компонентів та тваринних білків, низький рівень мінеральних солів, які мають здатність очищувати глибокі шари шкіри за рахунок осмотичної дії на КЛІТИННІ системи, використання консерванту (вантол або бронопол) має шкідливу дію на шкіру Але найближчим технічним рішенням (прототипом) є очисна маска для шкіри обличчя, яка включає гелеутворюючу основу, бентонітову глину, біологічно активні речовини рослинного походження, нативний яєчний білок, збалансований солевий комплекс Ерла, вітамінний комплекс поживного середовища для культур клітин тварин (середовище Ігла) й консервант [пат РФ № 2141311, МКИ А 61 К 7/48, 02 02 98] Недоліком такої маски є порівняно низька очисна здатність, відсутність регенеративних та протизапальних властивостей, низька антимікробна СТІЙКІСТЬ Задачею винаходу є створення екологічно чистої маски, яка була б здатна підвищити ступінь очищення шкіри обличчя без видалення корисних речовин з клітин, забезпечила б поверхневе та глибоке очищення шкіри, мала б репараційні, протизапальні властивості та антимікробну дію Поставлена задача вирішується таким чином, що у косметичну очисну маску з метою догляду за шкірою обличчя, яка у своєму складі має гелеутворюючу основу, екстракти з мікроводоростей та хвойної лапки (білки, вітаміни, амінокислоти), природні церезини, ефірні олії, солеву композицію Хенкса при наступному співвідношенні компонентів, мас % екстракти з мікроводоростей 5 -10,0, екстракти хвойної лапки 5 -10,0, природні церезини 1 - 2, ефірні олії 0,5 -1,0, солева композиція Хенкса (в тому числі хлористий калій 0,2 - 0,3, хлористий кальцій 0,1 - 0,2, хлористий магній 0,1 - 0,2, хлористий натрій 0,1 - 0,5) 1,0 - 2,0, гелеутворююча основа (поліетиленоксид) останнє У якості біологічно активних речовин застосовуються екстракти мікроводоростей, хвойної лапки, ефірні олії, природні церезини, які мають збалансований набір амінокислот, вітамінів, мікроелементів і забезпечують фізіологічне харчування клітин, антимікробну та протизапальну дію та забезпечують збереження амінокислот та вітамінів у клітинах, запобігають пересиханню шкіри Збалансований солевий склад Хенкса містить чотири катіони - магній, кальцій, калій, натрій у таких пропорціях, які визначаються у крові вищих тварин, в результаті чого при використанні їх складу у косметичній масці, остання фізіологічно впливає на клітини людини й не викликає перерозподілу внутрішньоклітинних ІОНІВ, а пперосмо тична дія на клітини з величиною осмолярності 320 - 360мОсм/л викликає зменшення об'єму клітин, що приводить до збільшення МІЖКЛІТИННИХ проміжків, проникненню діючих речовин у глибокі шари шкіри та їх очищенню завдяки осмолярним властивостям від продуктів клітинного метаболізму та низькомолекулярних сполук Наповнювач - гель поліетиленоксиду являє собою водорозчинний полімер і забезпечує зручність користування маскою (нанесення маски на шкіру обличчя), пом'якшенню шкіри й гарно змивається водою після процедури За всіма відомостями винахід відповідає критеріям патентноздатності, а саме винахідницькому рівню, поскільки до складу маски вперше введені екстракти мікроводоростей, хвойної лапки та їх ПОХІДНІ (ефірні олії, природні церезини), наявність амінокислот, білку та збалансованих солевих композицій сприяє поверхневому та глибокому очищенню шкіри Для приготування маски у реактор при кімнатній температурі завантажують у вказаних вище співвідношеннях гель поліетиленоксиду, екстрати мікроводоростей та хвойної лапки, солеву композицію Хенкса, церезини та олію ефірну Суміш гомогенізують 20 - 40 хвилин при нагріванні до 55 60°С Після закінчення гомогенізації суміш фасують у тару Слід вказати, що у процесі утворення рН суміші повинно бути 7 - 8,5 (гель поліетиленоксиду має кислу реакцію) При більш низьких показниках рН у склад суміші вводять КОН у КІЛЬКОСТІ, яка достатня до досягнення вказаних величин рН Надалі суміш повторно гомогенізують 20 - ЗО хвилин і готовий косметичний засіб фасують у тару та зберігають при кімнатній температурі Нижче наводяться приклади варіантів рецептури маски залежно від віку Приклад 1 Косметична очисна маска для догляду за шкірою обличчя та шиї для любого віку з тонкою шкірою, у мас % біологічно активні речовини мікроводоростей 5, біологічно активні речовини хвойної лапки 5, природні церезини 1, ефірні олії 0,5, солева композиція Хенкса (в тому числі хлористий калій 0,2, хлористий кальцій 0,1, хлористий магній 0,1, хлористий натрій 0,1,) 1,0, гелеутворююча основа (поліетиленоксид) останнє Приклад 2 Косметична очисна маска для догляду за шкірою обличчя та шиї для людей віком 40 - 45 років (рекомендується вживати після нанесення кремів на жировій основі), у мас % екстракти мікроводоростей 10,0, екстракти хвойної лапки 10,0, природні церезини 2, ефірні олії 1,0, солева композиція Хенкса (в тому числі хлористий калій 0,3, 2,0, 5 52783 6 хлористий кальцій 0,2, дою й видаляється волога м'якою салфеткою та хлористий магній 0,2, обробляється шкіра любим вітамінізованим крехлористий натрій 0,5) мом бажано на жировій основі гелеутворююча основа (поліетиленоКосметична маска зволожує та відбілює шкіру, ксид) останнє и регулярне вживання підвищує пружність та елаКосметична маска наноситься на поверхню стичність шкіри, знімає явища запалення, пігментні шкіри легкими масуючими рухами, через 1 5 - 2 0 плями, зменшує розміри пор та кратероподібних хвилин експозиції на шкірі змивається теплою водефектів ТОВ "Міжнародний науковий комітет" вул Артема, 77, м Київ, 04050, Україна (044)236-47-24
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюFacial cleansing mask for the care of skin
Автори англійськоюKirpenko Yurii Oleksiiovych, Vygovskyi Arkadii Borysovych, Kirpenko Nataliia Ivanivna
Назва патенту російськоюМаска косметическая для ухода за кожей лица
Автори російськоюКирпенко Юрий Алексеевич, Виговский Аркадий Борисович, Кирпенко Наталия Ивановна
МПК / Мітки
МПК: A61K 8/30, A61K 8/20, A61K 8/34, A61K 8/18, A61K 8/97, A61Q 19/00, A61K 8/92
Мітки: обличчя, маска, шкірою, косметична, догляду
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-52783-maska-kosmetichna-dlya-doglyadu-za-shkiroyu-oblichchya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Маска косметична для догляду за шкірою обличчя</a>
Попередній патент: Пристрій для випарювання талої води в побутовому холодильному приладі
Наступний патент: Зворотна емульсія для обробки карбонатного колектора
Випадковий патент: Мінерально-еластомерний відділяючий прошарок