Пристрій для обробки рідин
Номер патенту: 63582
Опубліковано: 10.10.2011
Автори: Борщ Григорій Михайлович, Синявський Олександр Юрійович, Савченко Віталій Васильович
Формула / Реферат
Пристрій для обробки рідин, який містить джерело високої випрямленої напруги, дві послідовно з'єднані робочі камери для обробки імпульсами електромагнітного поля та електроіскровим розрядом, систему регулювання і контролю параметрів обробки, систему подавання і відведення рідини, який відрізняється тим, що в циліндричну робочу камеру для обробки імпульсами електромагнітного поля введено допоміжний коаксіальний електрод для створення нерівномірного електростатичного поля високої напруженості.
Текст
Пристрій для обробки рідин, який містить джерело високої випрямленої напруги, дві послі 3 прямокутної робочої камери для електроіскрової обробки - заземлено. В робочу циліндричну камеру для обробки імпульсами електромагнітного поля уведено допоміжний коаксіальний заземлений електрод для створення нерівномірного поля високої напруженості, коли відсутні імпульси електромагнітного поля. Робочі камери для обробки рідин імпульсами електромагнітного поля і електроіскровим розрядом виконані з діелектричного матеріалу. Обмотка для створення імпульсів електромагнітного поля виконана високовольтним ізольованим проводом, який намотаний поверх камери обробки імпульсами електромагнітного поля. Приклад виконання даної корисної моделі ілюструється кресленнями, на яких зображено: Фіг. 1 - Система живлення пристрою для обробки рідин (систему подавання і відведення рідини, що обробляється (не показано); Фіг. 2 - робоча камера для обробки рідин імпульсами електромагнітного поля і нерівномірним електростатичним полем високої напруженості (повздовжній переріз по осі симетрії); Фіг. 3 - робоча камера для обробки рідин електроіскровим розрядом, рівномірним електростатичним полем високої напруженості і імпульсами електричного струму (повздовжній переріз по осі симетрії). Роботу пристрою розглянемо для одного з варіантів підключення елементів пристрою: система контролю і регулювання параметрів обробки блок для отримання високої випрямленої напруги камера обробки рідин імпульсами електромагнітного поля і нерівномірним електростатичним полем високої напруженості - камера обробки рідин електроіскровим розрядом, рівномірним електростатичним полем високої напруженості та імпульсами електричного струму. Пристрій для обробки рідин містить систему контролю і регулювання параметрів обробки 1, яка живить блок високої випрямленої напруги 2, один з полюсів якого 3 приєднано до початку 4 високовольтної обмотки 5 для створення імпульсів електромагнітного поля, яка намотана на діелектричний циліндричний корпус 6 камери обробки імпульсами електромагнітного поля, а другий полюс 7 блока високої випрямленої напруги 2 заземлено. Кінець 8 високовольтної обмотки 5 під'єднано до виводу 9 плоского іскроутворюючого електрода 10, який розміщено над поверхнею рідини 11 всередині прямокутної камери 12 для електроіскрової обмотки. Між поверхнею плоского іскроутворюючого електрода 10 і поверхнею рідини 11 існує повітряний проміжок 13. Інший плоский електрод 14, який розміщений в рідині 11 на дні робочої камери електроіскрової обробки 12 - заземлено. Усередину робочої камери 6 для обробки імпульсами електромагнітного поля уведено циліндричний заземлений коаксіально розташований електрод 15 для створення періодичного нерівномірного електростатичного поля високої 63582 4 напруженості. Обидві робочі камери 6 і 12 мають патрубки 16 для подавання і відведення рідин. Пристрій для обробки рідин працює так. При його вмиканні від блока високої випрямленої наруги 2 прикладається постійна напруга до високовольтної обмотки 5 і циліндричного, коаксіально розташованого, електрода 14, що призводить до утворення нерівномірного електростатичного поля високої напруженості в робочій камері 6 з рідиною 11 для обробки імпульсами електромагнітного поля. Одночасно прикладається напруга між плоским іскроутворюючим електродом 10 і плоским електродом 13, зануреним у рідину 11, які створюють рівномірне електростатичне поле високої напруженості у шарі рідини, яка обробляється. При цьому відбувається одночасна обробка рідини в обох камерах 6 і 12 електростатичним полем високої напруженості. При збільшенні напруги між виводами 3 і 7 блока високої випрямленої напруги 2 напруженість електростатичного поля зростає. Коли вона досягає значення напруги електроіскрового пробою повітряного проміжку 13 між плоским іскроутворюючим електродом 10 і поверхнею рідини 11 виникає іскровий пробій повітряного проміжку 13, створюючи імпульс електричного струму в шарі рідини 11 камери електроіскрової обробки 12 та імпульс струму в високовольтній обмотці 5, який викликає імпульс електромагнітного поля в робочій камері 6. Під час виникнення електроіскрового розряду в робочій камері 12 електростатичні поля в обох робочих камерах 6 і 12 зникають. Після закінчення електроіскрового розряду процес повторюється. Частоту іскрових розрядів, періодичність впливу електростатичних полів в робочих камерах 6 і 12 для обробки рідин можна змінювати величиною напруги між виводами 3 і 7 блока високої випрямленої напруги 2, а також відстанню між іскроутворюючим електродом 10 і поверхнею 13 рідини 11 в робочій камері електроіскрової обмотки 12. Застосування пристрою, який забезпечує комплексну обробку рідин імпульсами електромагнітного поля, електростатичним полем високої напруженості, електроіскровим розрядом і імпульсами електричного струму в рідині, дозволяє: - знижувати загальне забруднення рідин мікроорганізмів в 2 рази; - збільшувати рН води і розчинів до 0,9 одиниці; - підвищувати біологічну активність води. Запропонований пристрій для обробки рідин відрізняється тим, що забезпечує комплексну обробку рідин без застосування генератора високовольтних імпульсів з контактором, що спрощує пристрій і дає можливість здійснювати ширшу електрофізичну, електрохімічну і електробіологічну дію на рідини, а заміна генератора високовольтних імпульсів з комутатором на блок високої випрямленої напруги дає можливість суттєво економити електроенергію. 5 Комп’ютерна верстка Д. Шеверун 63582 6 Підписне Тираж 23 прим. Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for treatment of liquids
Автори англійськоюBorsch Hryhorii Mykhailovych, Savchenko Vitalii Vasyl, Syniavskyi Oleksandr Yuriiovych
Назва патенту російськоюУстройство для обработки жидкостей
Автори російськоюБорщ Григорий Михайлович, Савченко Виталий Васильевич, Синявский Александр Юрьевич
МПК / Мітки
МПК: C02F 1/00
Мітки: пристрій, рідин, обробки
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-63582-pristrijj-dlya-obrobki-ridin.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для обробки рідин</a>
Попередній патент: Робочий орган для розколювання деревини
Наступний патент: Економічна консервна банка
Випадковий патент: Пристрій для утилізації теплоти відхідних димових газів доменних повітронагрівників