Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

1. Устройство для очистки газов, содержащее цилиндроконический корпус с тангенциальным входным патрубком в нижней части и осевым вы­ходным патрубком в верхней, отличающееся тем, что, с целью повышения эффективности очистки, оно снабжено соосно установленной в корпусе ци­линдрической вставкой, верхний торец которой за­глушен и расположен на уровне верхней кромки входного патрубка, и закрепленной на вставке кольцевой пластиной, расположенной на уровне нижней кромки входного патрубка и установлен­ной с образованием зазора между ней и стенкой корпуса.

2. Устройство по п.1,отличающееся тем, что рас­стояние между наружной поверхностью цилинд­рической вставки и внутренней поверхностью корпуса больше или равно ширине входного пат­рубка.

Текст

Изобретение относится к технике очистки газов и позволяет повысить эффективность очистки. Внутри корпуса 1 соосно установлена цилиндрическая вставка 4 с пластиной 7, расположенной на уровне нижней кромки входного патрубка и образующей кольцевой зазор с внутренней поверхностью корпуса. При этом расстояние между внутренней поверхностью корпуса и наружной поверхностью вставки больше или равно ширине входного патрубка. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. (Л С Фиг 1 1554983 Изобретение относится к технике очистки газов от капель жидкости или пыли и может найти применение в углеобогатительной, горной, химической 5 и других отраслях промышленности. Целью изобретения является повышен и е эффективности очистки, ' На фиг. 1 изображено устройство, продольное сечение; на фиг. 2 - раз- 10 рез А-А на фиг. 1. Устройство для очистки газов содержит циляндрокоиичєскии корпус 1 с тангенциальным входным патрубком 2 в нижней части и осевым выходным патрубком 15 З в верхней части. Внутри корпуса 1 соосно установлена цилиндрическая вставка 4, закрытая сверху крышкой 5 и имеющая в нижней части окна 6 для вывода отработанной жидкости (шлама). 20 На вставке нижней кромки входного патрубка установлена кольцевая пластина 7. Между пластиной 7 и внутренней поверхностью корпуса 1 имеется кольцовой зазор 8. В нижней части корпуса 25 1 может быть расположен гидрозатвор 9. Расстояние между наружной поверх.ностью вставки 4 и внутренней поверхностью корпуса 1 должно быть больше или равно ширине входного патрубка 2. 30 Выбор данного расстояния является оптимальным с точки зрения формирования пристенного слоя отделенной фазы и гидравлического сопротивления. Выполнение расстояния менее ширины входно- 35 го патрубка приводит к значительному увеличению гидравлического сопротивления в результате образования гидравлического удара. ном слое принудительно механическим воздействием - пропусканием смеси между наружной поверхностью вставки 4 и внутренней поверхностью корпуса 1 . Подготовленная таким образом смесь юлее эффективно сепарируется в центробежном поле, поскольку основная м^сса частиц (капель воды) оказывается уже в пристенном слое. Интенсификация процесса достигается за счет увеличения скорости вращения смеси пропусканием ее в кольцевом пространстве между вставкой 4 и внутренней поверхностью корпуса 1. Отсепарированные частицы или капли в виде пленки жидкости опускаются через кольцевой зазор 8 в коническую часть корпуса. При этом отсепарированная фаза отделяется от осевого вихретокового потока газа пластиной 7, в результате чего не происходит турбулизация сконцентрированной отделенной фазы и нет вторичного уноса. Отделенная фаза через окна 6 отводится и удаляется в водошламовую систему. Очищенный газ выбрасывается через выходной патрубок 3, Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я 1. Устройство для очистки газов, содержащее ципиндроконический корпус с тангенциальным входным патрубком в нижней части и осевым выходным патрубком в верхней, о т л и ч а ю щ е еся тем, что» с целью повышения эффективности очистки, оно снабжено соосно установленной в корпусе цилиндУстройство работает следующим об- д^ рической вставкой, верхний торец которазом. рой заглушён и расположен на уровне верхней кромки входного патрубка, и Очищаемая смесь поступает через закрепленной на вставке кольцевой } тангенциальный входной патрубок в пластиной, расположенной на уровне нижнюю часть корпуса 1. В результате такой подачи смесь приобретает внутри 4 5 нижней кромки входного патрубка и установленной с образованием зазора корпуса вращательное движение вокруг между ней и стенкой корпуса. вставки 4. Крупные частицы (капли жидкости) 2. Устройство по п. ^ о т л и под действием центробежных сил конч а ю щ е е с я тем, что расстояние центрируются в пристенном слое корпумежду наружной поверхностью цилиндса 1. Мелкие частицы (капли жидкости), рической вставки и внутренней поверхв меньшей степени подвергающиеся центностью корпуса больше или равно шириробежной силе, формируются в пристенне входного патрубка. 1554983 A'A 8 Фиг 2 Редактор В.Петраш Составитель С.Горяйнова Техред М.Дидык Корректор С.Черни Заказ 519 Тираж 470 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКІЇТ СССР 113035» Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Device for cleaning gases

Автори англійською

Zakutenkov Yevhen Oleksandrovych, Teterin Stanislav Vasyliovych, Potebenko Ivan Tymofiiovych

Назва патенту російською

Устройство для очистки газов

Автори російською

Закутенков Евгений Александрович, Тетерин Станислав Васильевич, Потебенко Иван Тимофеевич

МПК / Мітки

МПК: B04C 3/00, B01D 45/12

Мітки: очистки, газів, пристрій

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/4-16569-pristrijj-dlya-ochistki-gaziv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для очистки газів</a>

Подібні патенти