Композиція, що фотополімеризується
Номер патенту: 28007
Опубліковано: 16.10.2000
Автори: Козак Олександр Петрович, Шибанов Володимир Вікторович
Текст
1. Фо тополимеризующаяся композиция, со держащая в качестве пленкообразующей основы диенстирольный блоксополимер, в качестве сши вающего а ген та - (ме т)акрила тный мономер, в качестве фотоинициатора - 2 ,2-диметокси-2-фенилацетофенон, в качестве термоингибитора - 2,6дитретбутил-4-метилфенол, краситель и пласти фика тор, отл ичающаяс я тем, что она дополни тельно содержит в качестве пласти фикатора ва зелиновое масло или камфору, в качестве красителя - родамин-С и в качестве соединения, повышающего светочувстви тельность, - N.N-диалкиламиналкилметакрилат при следующем соотношении компонентов, мае. ч. диенстирольный блоксополимер 40,8-78,5 (мет)акрилатный мономер 6,2-16,1 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон 0,18-1,0 2,6-дитретбутил-4-метилфенол 0,02-1,0 родамин-С 0,01-0,10 вазелиновое масло или камфора 1,0-40,0 М,Ы-диалкиламиналкилметакрилат 1,0-20,0 2. Фо топо лимериз ующаяся композиция по п. 1 , отличающаяся тем, что в качестве N .N-диалкиламиналкилметакрилата она содержит соединение общей форм улы RRiN-R'-O-C(O)C(CH3)=CH2, где R=CH3; C2H5, R-F-H; -CH3; -C2H5; R'=-C 2H4-. ем Предлагаемое изобретение относится к областям синтеза и применения фотополимеризующи хся композиций (ФПК) для изготовления рельефных изображений и печатных форм, изготовления эластичных защитных слоев и покрытий, изготовления УФ-отверждаемых адгезивов, изготовления триплексных и бронированных стекол, записи и передачи информации на оптических носителях ин формации и могут найти применение в полиграфии, электронике, лакокрасочной, мебельной и смежных областях промышленности, в науке и технике. Известна композиция, включающая бутадиенстирольный блок-сополимер, жидкий форполимер полибутадиена, один или несколько виниловых мономеров или олигомеров, преимущественно мета крил атных, фотоинициатор из ряда производных бензоина, бензофенона или ацетофенона и, возможно, ингибитор термополимеризации. Недостатком такой композиции является низкая светочувствительность и липкость рельефного изображения после проявления [1]. Известна ФПК, синтезированная на основе трехблочного диен-стирольного блок-сополимера, которая содержит, кроме того, триметилол пропантриакрилат в качестве мономера, 2метилантрахинон, как фотоинициатор, ионол - в качестве ингибитора. Пластина закрыта с обеих сторон покровными слоями Существенным недостатком ФПК такого типа является низкая светочувствительность [2]. Наиболее близкой к предлагаемому изобретению является композиция, описанная в патенте [3]. Э та композиция содержит диен-стирольный блок-сополимер (бутадиен-стирольный или изопрен-стирольный); (мет)акрилатный мономер или олигомер в качестве сшивающего агента (например, гексаметиленгликольдиметакрилат, тетраметиленгликоль-диакрилат), 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон (кеталь) в качестве фотоинициатора; 2,6-ди-трет-бутил-4-метилфенол (ионол) в качестве термоингибитора, краситель и пластификатор (например, гидрированные нафтеновые или ароматические углеводороды) Для повышения озоноустойчивости такие композиции содержат дитиокарбаматы металлов или вводят их путем диффузии в полимер из раствора. Недостатком этой ФПК является длительное время проявления рельефного изображения и невысокая светочувствительность. о 00 см о> 28007 В основу изобретения положено задание создать фотополимеризующуюся композицию на основе диен-стирольных блок-сополимеров, отличающуюся высокими значениями технологических параметров, а именно: высокой светочувствительностью и небольшим временем проявления рельефного изображения. Для решения поставленной задачи в фотополимеризующуюся композицию, содержащую диенстирольный блок-сополимер в качестве пленкообразующей о сновы ; (мет)акрилатные мономеры или олигомеры в качестве сшивающих агентов; 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонпанон, в качестве фо тоинициатора; краситель родамин-С; термоингибитор - ионол, вводят пластификатор (вазелиновое масло или полифениловый эфир или камфору) и ІЧ.ІЧ-диалкиламиналкилметакрилат общей формулы в качестве повышающего светочувствительность вещества: RRiN-R'-O-C(O)C(CH3)=CH 2 где R = СНз-; С 2Н5 -; С 6Н5-; Ri=H- ; СНз-; С 2Н5 -; Изобретение иллюстрируется следующим примером. Бутадиен-стирольный блок-сополимер (78,5 мае. ч.), который содержит 30 мае. ч. полистирольных блоков (марка ДСТ-30), смешивали в резиносмесителе с мономерной фазой, которая представляет собой жидкий раствор, состоя щий из 11,7 мае. ч. диметакрилататриэтиленгликоля, 0,05 мае. ч. 2,6-дитрет-бутил-4-метилфенола, 0,08 мае. ч. красителя (родамин-С), 1,85 мае. ч. вазелинового масла, 1,23 мае. ч. N.N-диэтиламинэтилметакрилата. В последнюю очередь в композицию вводили 0,59 мае. ч. 2,2-диметокси-2фенилацетофенона (кеталя) в качестве фотоинициатора. Смесь тщательно перемешивали до гомогенного состояния при температуре 85-120°С в течение до 30 минут. Полученную композицию загружали в экструдер и через щелевую головку формировали пластину толщиной 2,84 мм при температуре в зонах экструдера от 120 до 170сС и в щелевой насадке до 180°С. Экструдированную пленку каландрировали при температуре обогреваемого вала до 120°С и ламинировали с полиэтилентерефталатной пленкой толщиной 100-110 мкм. Изготовленную таким образом фотополимеризующуюся пластину использовали для изготовления флексографской формы путем экспонирования ее через контрастный негатив в течение 3 минут и проявлении образовавшегося рельефного изображения в роторночцеточной машине с ручным приводом в этилацетате при 25°С в течение 2-3 минут. Готовую форму сушили при температуре 80°С в течение 10 минут. Параметры формы представлены в табл. 1. Таблица 1 Составы фотополимеризующихся композиций, их свойства и режимы изготовления фотополимерных форм № пп пример 1 2 3 ДСТ ДСТ-30 78,5 ДСТ-25 40,8 ДСТ-30 72,6 Состав фотополимеризующейся композиции, м. ч. Мономер ФИ ТИ Краситель Пластификатор ТГМ-3 11,7 ТеМДА 16,1 ДМЕГ 6,2 КЕТАЛЬ 0,59 КЕТАЛЬ 1,0 0,05 КЕТАЛЬ 0,18 0,02 1,00 Родамин-С 0,08 Родамин-С 0,10 Родамин-С 0,01 ВМ 7,85 КФР 40,0 ПФЭ 1,0 Амин ДЭАЭМ 1,23 ДМАЭМ 1,0 ФАЭМ 20,0 Твердость по Шору А, отн. ед. Время экспонирования, минут Время вымывания форм, минут 3 Разрешающая способность, линий/см 56 Выделяющая способность, Мкм 250 70 5 32 5 3 44 150 42 3 3 60 150 В таблице использованы следующие обозначения: ДСТ - диен-стирольный блок-сополимер; ТГМ-3 - диметакрилаттриэтиленгликоля; ТеМДА - тетраметилендиакрилат; ДМЕГ - диметакрилатетиленгликоля; ВМ - вазелиновое масло; КФР - камфора; ПФЭ - полифениловый эфир; ДЭАЭ М - диэтиламинэтилметакрилат; ДМАЭ М - диметиламинэтилметакрилат; ФАЭ М - фениламинэтилметакрилат; ТИ - инол (2,6-дитретбутил-4-метилфенол); КЕТАЛЬ - 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон. 3 28007 ДП "Український інститут промислової власності" (Укрпатент) Бульв. Лесі Українки, 26, Київ, 01133, Україна (044) 254-42-30, 295-61-97 Підписано до друку Of хОз~ 2001 р. Формат 60x84 1/8. Обсяг &
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюA photopolymerizing composition
Автори англійськоюShybanov Volodymyr Viktorovych, Kozak Oleksandr Petrovych
Назва патенту російськоюКомпозиция, которая фотополимеризуется
Автори російськоюШибанов Владимир Викторович, Козак Александр Петрович
МПК / Мітки
МПК: G03C 1/73, C08L 53/00
Мітки: композиція, фотополімерізується
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/4-28007-kompoziciya-shho-fotopolimerizuehtsya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Композиція, що фотополімеризується</a>
Попередній патент: Спосіб підсилення основи під існуючим фундаментом
Наступний патент: Крутопохилий конвеєр
Випадковий патент: Поглинальний апарат