Пристрій для обробки текучого середовища

Пристрій для обробки текучого середовища, який містить джерело випромінювання, камеру опромінювання, патрубки підводу та відводу текучого середовища, відрізняє ться тим, що він додатково обладнаний проміжною ємкістю з прямокутним щілиноподібним отвором, встановленою на підставці з можливістю регулювання висоти, а камера опромінювання виконана відкритою зі східчастоподібними виступами. (19) (21) 99031290 (22) 09.03.1999 (24) 15.02.2001 (33) UA (46) 15.02.2001, Бюл. № 1, 2001 р. (72) Ігнатьєва Нонна Іванівна, Бакалін Юрій Івановіч (73) Харківська державна академія міського господарства 33553 прямокутним щілиноподібним отвором 4, приймальну ємкість 5 та підставку 6, що мав гвинт 7. Патрубок 8 подачі текучого середовища, обладнаний краном 9, патрубок 10 відводу - краном 11. Пристрій працює у такий спосіб. Текуче середовище, наприклад, воду, подають у патрубок 8 подачі, а з нього у проміжну ємкість 3 з прямокутним щілиноподібним отвором 4. Виходячи з отвору 4, текуче середовище одержує рівномірний розподіл по всій ширині камери опромінювання завдяки східчастоподібним виступам. Світло від джерела опромінювання і потрапляє на рухоме текуче середовище і опромінює його. При цьому в місцях, де присутня більша кількість газів, світлова обробка буде ефективнішою. У результаті світлової обробки, текуче середовище активується і подається до споживача, наприклад, до дозатора води для приготування цементних розчинів або бетонів. Ефективність світлової обробки може підвищуватися за рахунок зменшення товщини обробного шару текучого середовища. Для цього прикривають кран 9 на патрубку 8, внаслідок чого напір води знижується або зменшують висоту підставки 6 гвинтом 7, за рахунок чого зменшується товщина оброблюваного шару. Наявність прямокутного щілиноподібного отвору в проміжній ємкості та східчастоподібних виступів у камері опромінювання дозволяє одержати рівномірне розтікання опромінюваного шару текучого середовища по всій ширині камери опромінювання. Регульований напір води усуває можливість проскоку необробленої рідини, тим самим підвищуючи е фективність обробки та коефіцієнт інтенсивності випромінювання. Пропонований пристрій для обробки текучого середовища виконаний конструктивно просто, що робить його широко доступним і знижує затрати праці на його обслуговування. 2 33553 Фіг. 1 Фіг. 2 3 33553 __________________________________________________________ ДП "Український інститут промислової власності" (Укрпатент) Україна, 01133, Київ-133, бульв. Лесі Українки, 26 (044) 295-81-42, 295-61-97 __________________________________________________________ Підписано до друку ________ 2001 р. Формат 60х84 1/8. Обсяг ______ обл.-вид. арк. Тираж 50 прим. Зам._______ ____________________________________________________________ УкрІНТЕІ, 03680, Київ-39 МСП, вул. Горького, 180. (044) 268-25-22 ___________________________________________________________ 4