Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Корисна модель відноситься до медицини, а саме до дерматології і може бути використана для лікування хворих на атопічний дерматит.

Атопічний дерматит (АД) є одним з найбільш поширених дерматозів, який має високу питому вагу в структурі алергічних хвороб людини. АД на сьогодні залишається важливою медико-соціальною проблемою, значимість якої визначається неухильним ростом захворюваності, більш ранньою появою перших ознак дерматозу, почастішанням тяжких клінічних форм і випадків безперервно рецидивуючого перебігу, збільшенням кількості хворих з погіршенням прогнозу.

В останні роки інтенсивно підлягає вивченню роль оксиду азоту (N0) при різних захворюваннях, в тому числі і шкірних (псоріаз, червоний вовчак, склеродермія) [О.В.Зайцева и соавт., 2002; В.А.Цепколенко и соавт., 2002; Moncada, Hidds, 1999]. NO є одним з ключових регуляторів різноманітних фізіологічних процесів. Шляхом простої дифузії NO переходить в сусідні та далеко розташовані клітини, здійснюючи таким чином міжклітинну комунікацію та регуляцію в тканинах [А.Ф.Ванин, 2000; Т.А.Золотарева, 2002; Michael, Gewalting, 2002]. Ендогенний NO, який утворюється з L-аргініну за участю NO-синтаз, є нейротрансміттером, імуномодулюючим агентом, фактором гемостазу і розглядається тепер як ендогенний вазодилятатор та активний учасник розвитку запальних реакцій [Е.Б.Манухин и соавт., 2000; Wang, Mardsen, 1995; Nakahi, 2000]. Багато фізіологічних ефектів, в тому числі регуляція судинного тонусу, антиагрегаційні властивості тощо, безпосередньо пов'язані з функціонуванням гуанілатциклази, відповідальної за накопичення цГМФ в клітині [С.И.Каштанов и соавт., 2000; И.С.Северина и соавт., 2002]. Відомо, що цГМФ - потужній регулятор метаболізму клітини, який в значному ступені визначає її функції. В результаті циклічних перетворень оксиду азоту здійснюється координація багатьох Са-залежних процесів, як клітин з NO-синтазною активністю, так і клітин, які її не мають. З активацією під впливом оксиду азоту, гуанілатциклази пов'язана функція NO, як одного з вторинних месенджерів в регуляції системи мобілізації іонів Са.

Гіперпродукція або дефіцит NO, які виникають, можливо, внаслідок гіпоксії, дія медіаторів запалення, цитокінів, екзо- та ендотоксинів можуть перетворити зміни NO як ланки адаптації в ланку патогенезу хвороби. У хворих на АД можна припустити існування змін метаболізму NO у зв'язку з дисбалансом цитокінів та кисеневою заборгованістю в дермі, наявністю вираженого запалення, яке супроводжується "кисеневим вибухом" та побільшенням концентрації активних форм кисню. Однак визначення стану системи NO (стабільних метаболітів, активності NO-синтази та аргінази) при АД не проведено, а її клінічне значення ще не з'ясовано.

Складність патогенезу, торпідність до традиційної терапії, непереносимість хворими численних медикаментів, висока частота патології з боку внутрішніх органів и систем спонукають до удосконалення традиційних заходів і пошуку нових шляхів лікування АД.

Відомим є спосіб лікування хворих на АД шляхом використання ПУВА-терапії, яку проводять по загальноприйнятій методиці. Опромінення проводять 4 рази на тиждень Перші 2 сеанси тривають по 3 хвилини, в наступному тривалість опромінювання збільшують на три хвилини і доводять до 15 хвилин [Владимиров В.В. Светотерапия в лечении кожных болезней// Les nouvelles esthetiques, 2003, 2, c.90-96].

Однак використання ПУВА-терапії у хворих на АД є недоцільним, оскільки цей спосіб терапії не є патогенетично обґрунтованим та безпечним. Відомо, що під дією ПУВА-терапії можуть розвитися такі побічні явища як еритема, нудота, свербіж, сухість шкіри, гіперпігментації (а ці клінічні симптоми відповідають клінічній картині АД й спостерігалися у більшості хворих, які знаходилися під нашим наглядом), а також гіпертрихоз, гастрити, міозити, гепатити та інше. У зв'язку з недорозвиненістю хрусталика дітям до 12 років забороняється приміняти ПУВА-терапію, а у більшості хворих захворювання маніфестує переважно у дитячому віці, а дифузні форми відмічаються і в передпубертатному віці. При використанні ПУВА-терапії відмічається можливість розвитку катаракти, рака шкіри. Протипоказання при ПУВА-терапії слідуючі: хвороби печінки і нирок, цукровий діабет, катаракта, вагітність, підвищена чутливість до УФП і сонячних променів, примінення в минулому рентгенотерапії. А у хворих на АД питому вагу займають супутні захворювання гепатобіліарної системи та кишкового тракту (87,7-89,9%) [Ревякіна В.А, 1998; Зайцева Н.Е, Пьянкова А.В., 1999], тому використання ПУВА-терапії їм протипоказане. При тривалому застосуванні цього метода рецидивуючі форми переходять у постійно-існуючі, навіть літні форми, а оскільки у хворих на АД ремісія частіше спостерігається у літній період, то у зв'язку з розвитком постійно-рецидивуючих форм , хворим ризиковане їхати на курорти в літній період [О.Ю. Олісова, РМЖ, Том 12, №4, 2004].

Найбільш близьким та обраним за прототип є спосіб лікування хворих на АД, який здійснюють шляхом призначення патогенетичної терапії, яка містить гіпоалергенну дієту, антигістамінні препарати, мембраностабілізуючі засоби, дезінтоксикаційну терапію, седативні препарати, сорбенти, кортикостероїдні засоби [Д.С.Феденко Принципы патогенетической терапии атонического дерматита.// Лечащий врач. - 2001. - №4. - С.4-7).

Недоліки способу пов'язані з тим, що лікування не враховує стан мікроциркуляторних порушень та стан обміну речовин, що лежать в основі патогенетичних механізмів при АД. Так розлади мікрогемоциркуляції при АД представлені порушенням тонусу мікросудин та реологічних властивостей шкіри. Сполучення спазму приносних судин з підвищенням в'язкості крові призводить до блокади мікросудинного русла еритроцитарними конгломератами по типу сладж-феномена. В результаті значно знижується швидкість кровообігу, порушується транскапіллярний обмін, розвивається гіпоксія.

В основу корисної моделі поставлено задачу удосконалення способу лікування атонічного дерматиту, в якому за рахунок додаткового призначення препарату досягається нормалізація мікроциркуляції, усувається гіпоксія.

Поставлена задача вирішується в способі лікування атонічного дерматиту шляхом призначення патогенетичної терапії, згідно з корисною моделлю, додатково призначають глутаргін по 0,25г 3 рази на день, протягом 15 днів, починаючи з першого дня лікування.

Вказані особливості патогенезу АД визначають включення у комплексну терапію хворих, засобів, нормалізуючих мікрогемоциркуляцію. Так важливим ендогенним регулятором, що впливає на зміни в мікроциркуляторному руслі, еміграцію лейкоцитів через судинну стінку, систему гемостаза та фагоцитоз є оксид азота (NO) [6]. Ендогенний NO утворюється з L-аргініну під впливом NO-синтази. Гіперпродукція або дефіцит NO, які виникають, можливо, внаслідок гіпоксії, дія медіаторів запалення, цитокінів, екзо- та ендотоксинів можуть перетворити зміни NO як ланки адаптації в ланку патогенезу хвороби. У хворих на АД можна припустити існування змін метаболізму NO у зв'язку з дисбалансом цитокінів та кисеневою заборгованістю в дермі, наявністю вираженого запалення, яке супроводжується "кисеневим вибухом" та побільшенням концентрації активних форм кисню.

Вітчизняний препарат Глутаргін складається з двох амінокислотних залишків: аргініну та глутамінової кислоти, які відіграють важливу роль у забезпеченні біохімічних процесів нейтралізації азотистих речовин, а також володіє мембраностабілізуючими властивостями. Враховуючи дані про різні метаболічні та мікроциркуляторні порушення у хворих на АД, нами була досліджена можливість призначення препарату "Глутаргін" у комплексній терапії хворих на АД.

Спосіб, що заявляється використовують таким чином.

Хворому на АД призначають базову терапію і додатково призначають Глутаргін по 0,25г (1 таблетці) 3 рази на день, протягом 15 днів.

Приклад 1.

Під нашим спостереженням знаходився пацієнт М., 17 років, що звернувся зі скаргами на захворювання шкіри, висипання і сверблячку шкірних покривів.

З анамнезу захворювання відомо, що дерматоз розвився в дитячому віці, перші ознаки (елементи гострозапального характеру, з тенденцією до ексудативних змін, з переважною локалізацією на шкірі щік, що супроводжуються сильною сверблячкою) виникли у віці 5 місяців із уведенням прикорму дитині (зі слів батьків). Був поставлений діагноз: Атопічний дерматит у стадії дитячої екземи. З приводу даного захворювання одержував кількаразове амбулаторне лікування, знаходився на диспансерному обліку. Захворювання носить хронічний рецидивуючий характер, 1-2 рази в рік, загострення відзначаються частіше в холодний період року. У пацієнта атопія в індивідуальному анамнезі. З перенесених раніше захворювань відзначає вірусний гепатит А, із супутніх - дискінезію жовчовидільних шляхів.

Дане загострення зв'язує зі зміною клімату, стресом. Самостійно не лікувався.

Об'єктивно: Патологічні вогнища локалізовані на шкірі великих складок переважно в області ліктьових, променевозап'ясткових суглобах, шиї, обличчя з залученням у патологічний процес носогубного трикутника, висипання характеризуються поліморфізмом з перевагою ліхеноїдних папул, ліхеніфіковані вогнища з екскориаціями на тлі сухої шкіри, відзначається біопсуюча сверблячка. У патологічний процес залучена червона облямівка губ (атопічний хеіліт).

Обстежений: (до лікування) У гемограмі відзначається еозинофілія (9%) і лімфопенія (14%), у протеїнограмі - диспротеїнемія, у-глобулін -23,0г/л.

NO2--4,17мкмоль/л (контроль 5,35±0,31мкмоль/л), NO3--4,93мкмоль/л (контроль 3,85±0,20мкмоль/л), загальна NOS-0,92мкмоль/л (контроль 0,42±0,05мкмоль/л), iNOS- 0,74мкмоль/л (контроль 0,30±0,04мкмоль/л), cNOS-0,18мкмоль/л (контроль 0,12±0,01мкмоль/л).

Установлено діагноз: Атопічний дерматит, ліхеноїдна форма, стадія загострення.

Призначено терапію, що включала гіпоалергену дієту, антигістамінні препарати (супрастин, кларитин), мембраностабілізуючі засоби (кетотифен), дезинтоксикаційну терапію (хлористий кальцій 0,25% р-р, п/к), седативні препарати (персен), сорбенти (ентеросгель), ферментативні препарати (мезим-форте) а також до комплексного лікування, з огляду на наявну в пацієнта патологію гепатобіліарної системи, був доданий препарат глутаргін у дозі по 0,25г 3 рази на день, всередину, протягом 15 днів. З зовнішньої терапії застосовували кортикостероїдні засоби, типу «Адвантан», мазь, живильні креми.

У ході лікування стан хворого покращився, суб'єктивно сверблячка не турбує, висипання зменшилися, піддаються зворотному розвитку, сухість шкіри відсутня, у місцях вогнищ ліхеніфікації шкіра трохи змінена. Шкіра обличчя і червона облямівка губ вільні від висипань.

Обстежений: (після лікування)

NO2--5,40мкмоль/л (контроль 5,35±0,31мкмоль/л), NO3--3,91мкмоль/л (контроль 3,85±0,20мкмоль/л), загальна NOS-0,48мкмоль/л (контроль 0,42±0,05мкмоль/л), iNOS-0,36мкмоль/л (контроль 0,30±0,04мкмоль/л), cNOS-0,10мкмоль/л (контроль 0,12±0,01мкмоль/л),

Приклад 2. Під нашим спостереженням знаходилася пацієнтка К., 32 року, що звернулася зі скаргами на загострення шкірного процесу, висипання і сверблячку шкірних покривів.

З анамнезу захворювання відомо, що дерматоз розвився в дитячому віці, перші ознаки (елементи гострозапального характеру, з тенденцією до ексудативних змін, з переважною локалізацією на шкірі щік і складок, що супроводжуються сильною сверблячкою) виникли у віці 3 місяців із введенням у раціон дитині фруктових соків. Був поставлений діагноз:

- атопічний дерматит у стадії дитячої екземи. З приводу даного захворювання одержувала кількаразове амбулаторне лікування, знаходилася на диспансерному обліку. Захворювання носить хронічний рецидивуючий характер, 2 рази в рік, загострення відзначаються частіше в холодний час року, однак бувають загострення зв'язані зі стресовими факторами. У пацієнтки відзначається синдром хронічної втоми, атопія в індивідуальному і сімейному анамнезах. З перенесених раніше захворювань відзначає гастродуоденіт.

Дане загострення зв'язує зі стресом. Самостійно не лікувалася.

Об'єктивно: Дерматоз носить розповсюджений характер, відзначаються дифузійні зміни шкіри тулуба, великих складок переважно в області ліктьових, променевозап'ясткових суглобах, шиї, обличчя з залученням у патологічний процес червоної облямівки губ (атопічний хейліт), висипання характеризуються поліморфізмом з перевагою ліхеноїдних папул, ліхеніфіковані вогнища з екскориаціями на тлі сухої шкіри, відзначається біопсуюча сверблячка.

Обстежений: (до лікування) У гемограмі відзначається еозинофілія (11%) і лімфопенія (13%), підвищені цифри ШОЕ (27мм/год), у протеїнограмі - диспротеїнемія.

NO2--3,68мкмоль/л (контроль 5,35±0,31мкмоль/л), NO3--6,12мкмоль/л (контроль 3,85±0,20мкмоль/л), загальна NOS-1,05мкмоль/л (контроль 0,42±0,05мкмоль/л), iNOS - 0,94мкмоль/л (контроль 0,30±0,04мкмоль/л), cNOS-0,11мкмоль/л (контроль 0,12±0,01мкмоль/л).

Установлено діагноз: атопічний дерматит, дисемінована форма, стадія загострення.

Призначено терапію, що включала гіпоалергену дієту, антигістамінні препарати (супрастин, лоратадин), мембраностабілізуючі засоби (кетотифен), дезинтоксикаційну терапію (хлористий кальцій 0,25% розчин, п/к), седативні препарати (валеріана), сорбенти (ентеросгель), ферментативні препарати (мезим-форте), а також до комплексного лікування, з огляду на наявну в анамнезі в пацієнтки патології гепатобіліарної системи, був доданий препарат глутаргін у дозі по 0,25г 3 рази на день протягом 15 днів. З зовнішньої терапії застосовували кортикостероїдні засоби, «Локоїд», мазь, живильні креми.

У ході лікування стан хворого покращилася, суб'єктивно сверблячка не турбує, висипання зменшилися, піддаються зворотному розвитку, сухість шкіри відсутня, у місцях вогнищ ліхеніфікації шкіра трохи змінена. Шкіра обличчя і червона облямівка губ вільні від висипань.

Обстежений: (після лікування)

NO2-- 5,28мкмоль/л (контроль 5,35±0,31мкмоль/л), NO3--3,81мкмоль/л (контроль 3,85±0,20мкмоль/л), загальна NOS-0,39мкмоль/л (контроль 0,42±0,05мкмоль/л), iNOS - 0,29мкмоль/л (контроль 0,30±0,04мкмоль/л), cNOS-0,10мкмоль/л (контроль 0,12±0,01мкмоль/л).

Під нашим наглядом знаходилося 36 хворих на АД, у віці від 16 до 30 років, з них 19 жіночої статі і 17 - чоловічої. Захворювання у всіх дебютувало у віці 3-5 місяців, мало хронічний рецидивуючий перебіг, з загостренням процесу 1-2 рази в рік. У більшості хворих відмічався середній ступінь тяжкості, дифузна форма спостерігалася у 12 хворих. Із супутньої патології велику вагу займали захворювання ШКТ та гепатобіліарної системи (25 випадків), органів дихання - у 10 випадках, у більшості хворих відмічалося порушення сну, підвищена дратівливість та втомлюваність. Всі пацієнти були госпіталізовані у стаціонар, де були ретельно обстежені згідно нормативам Мінздрава України.

Хворі були розділені на 2 групи по 18 чоловік, приблизно однаковим по віку та статі. Хворі першої групи поряд з комплексною, загальноприйнятою терапією отримували "Глутаргін" по 1 таб (0,25г) 3 рази в день, протягом 15 днів, починаючи з першого дня терапії. Хворі другої групи отримували комплексну терапію (дезінтоксикаційну терапію, антигістамінні препарати, седативну терапію, сорбенти, препарати для корекції розладів ШКТ, в т.ч. й ферменти. Кортикостероїди в обох група примінялися виключно топічно.

Результати власних досліджень показують, що в групі, що приймала "Глутаргін" вже на 4-5 дні покращився загальний стан, зникли свербіж, сухість шкіри, на 7-8 дні зменшилися еритеми, інфільтрація та виразність ліхеніфікації.

Таким чином, запропонований спосіб лікування атопічного дерматиту з впливом на стан системи NO, мікроциркуляції сприяє значному покращенню стану хворого.

Текст

Пристрій вакуумно-плазмової обробки виробів, який містить робочу камеру з анодом, сполучені з нею принаймні крізь один отвір, камеру з катодом, джерело живлення постійного струму, який відрізняється тим, що він має додаткову камеру з додатковим анодом, з'єднаним із додатковим джерелом постійного струму, яка сполучена з робочою камерою принаймні крізь один отвір, як анод вибраний тримач виробів, а катод виконаний у вигляді катода вакуумно-дугового розряду. (19) (21) 2002053764 (22) 07.05.2002 (24) 15.02.2006 (46) 15.02.2006, Бюл. № 2, 2006 р. (72) Саблев Леонід Павлович, Шулаєв Валерій Михайлович, Андреєв Анатолій Опанасович (73) НАЦІОНАЛЬНИЙ НАУКОВИЙ ЦЕНТР "ХАРКІВСЬКИЙ ФІЗИКО-ТЕХНІЧНИЙ ІНСТИТУТ" (56) UA 19678, 25.12.1997 SU 1473373, A1, 20.08.1995 RU 2110606, C1, 10.05.1998 RU 2051987, C1, 10.01.1996 EP 0225680, A1, 16.06.1987 US 5294322, A, 15.03.1994 US 5503725, A, 02.04.1996 3 53365 4 Катод у ньому має порожнину з каналом для подаяє збільшенню падіння напруги у зоні отвору, що чі робочого газу. При обробці робочий газ крізь веде до збільшення швидкості електронів у плазмі нього подається до камери. Відкачка джерела СРS дугового розряду та, як наслідок, до збільшення відбувається з боку робочої камери. Унаслідок потужності прогріву оброблюваного виробу. цього між камерою та робочою камерою утворюПри включенні додаткового джерела постійноється перепад тиску, величина якого визначається го струму між плазмою вакуумно-дугового розряду газовою провідністю отвору, кількістю газу, який робочої камери та додатковим анодом збуджуєтьподають, та швидкістю відкачки помпи. Робочий ся додатковий вакуумно-дуговий розряд. Іони плагаз із камери попадає до робочої камери у вигляді зми, завдяки отвору, що з'єднує додаткову та ронадзвукового струменя. При подачі напруги на бочу камери, прискорюються у бік тримача з електроди плазмового джерела в порожнині катовиробами, забезпечуючи більш ефективну, ніж да виникає тліючий розряд. Параметри тиску роелектрони дисоціацію молекул робочого газу. Збібочого газу в порожнині підбирають за умовою льшення числа атомів робочого газу прискорює стабільного існування тліючого розряду. В області процес утворення хімічних сполук згаданих атомів отвору в плазмі утворюється подвійний електричіз металами виробу, а також сприяє активній диний шар, у якому спадання напруги може досягати фузії вглиб металу. Ці обставини обумовлюють 30В. Електрони з такою енергією здатні іонізувати підвищення ефективності хіміко-термічної обробструмінь газу, що виходить із сопла. Середня енеки. ргія газових іонів, утворених джерелом, складає ~ На фіг.1 наведено принципову схему пропоно5еВ. Плазмові джерела СРS знайшли застосуванваного пристрою для одноразової обробки виробів ня при одержанні плівкових покриттів арсеніду електронами та іонами газової плазми. На фіг.2 галію й окісних плівок на склі й пластмасах. Типові наведено схему поліпшеного варіанта пристрою. електричні параметри для СРS: напруга між катоНа фіг.3 наведено графік залежності мікротвердодом і анодом 300...500В, розрядний струм сті від глибини азотованого шару, отриманої для 10...200мА, повний іонний струм насичення від 0,1 ріжучих пластин, виготовлених із стали Р6М5, для до 1мА. Змінюючи геометрію сопла, швидкість двох режимів роботи: при обробці тільки електровідкачки, й газовий потік, можна змінювати в шинами (крива 1); при обробці електронами та іонами рокому діапазоні тиск у робочій камері від 10-3 до (крива 2). 100Па. Пристрій містить робочу камеру 1, у якій устаПроте джерело з такими параметрами не моновлений тримач 2 виробу, яким є анод. З робоже забезпечити ефективну хіміко-термічну обробку чою камерою 1 з'єднано камеру 3, у якій розміщематеріалів у великих об'ємах, тому, що величина ний катод 4 вакуумно-дугового розряду. Робоча розрядного струму та, відповідно, потужність джекамера 1 сполучена з камерою 3 крізь отвір 5 нерела малі. Крім того, мала й енергія газових іонів, великого діаметра. Катод 4 та анод 2 (тримач вищо не достатньо для дисоціації газових молекул. робів) підключений до джерела 6 постійного струТому не забезпечується необхідний прогрів вирому. Додаткова камера 7 сполучена з робочою бів та активізація газового середовища. камерою 1 крізь отвір 8. Пристрій може мати друге В основу винаходу поставлено завдання ствододаткове джерело 11 постійного струму (фиг.2), рити такий пристрій вакуумно-плазмової обробки який включно між катодом 4 (від'ємний полюс) та виробів, який у порівнянні із пристроєм, обраним камерою 3. як прототип, дозволить підвищити ефективність Роботу пристрою розглянемо на прикладі хіміхіміко-термічної обробки виробів. ко-термічної обробки (азотування). Поставлена задача вирішується у пристрої, Камери 1, 3 та 7 високовакуумними помпами який містить робочу камеру з анодом, сполучені з (на кресленні не показані) відкачують до низького нею, принаймні, крізь один отвір, камеру з катотиску (наприклад, до 1,3 x 10-3Па), а потім до них, дом, джерело живлення постійного струму. Згідно за допомогою системи подачі робочого газу (на з винаходом пристрій має додаткову камеру з докресленні не показана), напускають робочий газу датковим анодом, з'єднаним із додатковим джередо тиску 0,1...1Па. При включенні джерела 6 послом постійного струму, яка сполучена з робочою тійного струму між катодом 4 та тримачем 2 із поскамерою, принаймні, крізь один отвір, як анод обтавленими на нього виробами, збуджується дугораний тримач виробів, а катод виконаний у вигляді вий розряд. Емісія електронів, які роблять катода вакуумно-дугового розряду. іонізацію газу в робочій камері 1, відбувається з При вмиканні джерела постійного струму між поверхні плазми у невеликому отворі 5 (декілька катодом та анодом (тримачем із виробами) збуміліметрів). У його зоні створюється спадання наджується дуговий розряд. Відміною катода вакуупруги, що веде до збільшення швидкості електромно-дугового розряду від катода тліючого розряду нів. В іншій частині порожнини робочої камери 1, є те, що він незалежно від площі катода, може яка примикає до отвору 5, спадання напруги незабезпечити практично любий за величиною роззначне (як правило, напруженість електричного рядний струм (величина останнього визначається поля не більше 0,5В/см). Тому, практично, вся натільки теплофізичними властивостями матеріалу пруга джерела живлення 6 прикладена до зони катода, умовами його охолодження та параметраотвору 5 і визначає енергію прискорених електроми джерела живлення). Крім того, катодне падіння нів. При силі струму розряду 100...150А та напрузі потенціалу у дуговому розряді в десятки разів меджерела живлення 150...300В потужність нагрінше, ніж у тліючому, що дозволяє ефективно вивання може досягати декількох десятків кіловат, користовувати джерело живлення. Отвір, який що дозволяє нагрівати відносно великі маси вироз'єднує робочу камеру з камерою з катодом, сприбів за короткий час. 5 53365 6 Для проведення процесу хіміко-термічної обвиробу на потрібному рівні підтримується регулюробки (наприклад, азотування) дуже важливо, щоб ванням напруги джерела живлення 6. В іншому нагріту поверхню оброблюваного виробу оточуваробота пристрою, зображеного на фіг.2 аналогічна ла газова атмосфера, яка збагачена частками роботі пристрою, зображеного на фіг.1 атомарного азоту, здатного проникати усередину Приклад 1. В камері 3 розмішували титановий кристалічної решітки матеріалу, що азотують, катод 4 (діаметром 100мм). Робоча камера 1 споутворюючи твердий розчин азоту у матеріалі. Наялучена з камерою 3 за допомогою п'яти отворів вність атомарного азоту прискорює утворення хідіаметром 10 мм, а робоча камера 1 сполучена з мічних сполук азоту з металом та сприяє дифузії додатковою камерою 7 за допомогою п'яти отворів азоту усередину поверхні матеріалу. При зіткненні діаметром 8 мм. Використовували джерело 11 електронів із молекулою дисоціація останньої непостійного струму напругою 40В, та потужністю значна із-за невеликої маси електрона. Ефективну 6кВт. Джерела живлення 6 та 10 мали напругу дисоціацію молекул газу можуть забезпечити тіль220В та потужність 10кВт. Пластини з інструменки прискорені важкі частинки (іони газу). Для здійстальної сталі Р6М5, розміром 8 x 20 x 20мм, станення ефективного процесу дисоціації молекул вили на масивний циліндр (загальною масою ~ газу на атомарні частинки у пропонованому при8кг) діаметром 250 мм та висотою 250мм. Циліндр строї є прискорювач іонів газу, який створений розташовували на тримачі 2 виробів. Обертання замкнутою порожниною додаткової камери 7, доциліндра здійснювали із швидкістю 30об/хв. Темдатковим анодом 9, робочою камерою 1 та отвопературу вимірювали за допомогою оптичного ром 8 між робочою камерою 1 та камерою 3. При пірометра. В камеру подавали суміш аргону з азовключенні джерела живлення 10, додатковий анод том. Робочий тиск підтримували на рівні 0,7Па 9 має позитивний потенціал відносно анода 2, а, (при парціальному тиску аргону 0,2Па). Нагрівання отже, і відносно плазмі, яка заповнює робочу кавиробів до температури 500°С проводили при меру 1. Тому між плазмою та анодом 9 збуджуєтьвключеному джерелі живлення 11 із струмом розся вакуумно-дуговий розряд. Плазма цього розряряду між катодом 4 та анодом 2 (циліндром) 30А і ду перетиснена отвором 8 і тому у зоні отвору 8 напрузі 200В. Час нагрівання складав ~ 8хв. Після виникає падіння напруги. Величина падіння напрудосягнення виробами робочої температури, зменги на проміжку, що прискорює може бути на рівні шували струм за допомогою регулювання джерела десятків і сотень вольт. Напруженість електричноживлення 6. Азотування пластин здійснювали без го поля у зоні отвору 8 направлена так, що іони включення прискорювача іонів (джерело живлення газу прискорюються у напрямку виробу, який пос10 відключено). Час проведення процесу хімікотавлений на тримачі 2. Зіштовхуючись із нейтратермічної обробки - 30хв. Після обробки визначали льними молекулами газу, іони з високою ймовірнімікротвердість азотованого шару в залежності від стю дисоціюють їх, що веде до активізації процесу глибини. Графік цієї залежності зображений на хіміко-термічної обробки. фіг.3 (крива 1). Практично цей процес за своєю Таким чином, завдяки отвору 5 відбувається фізичною сутністю близький до процесу, відбуваефективне нагрівання виробу прискореним електється у пристрої, обраному як прототип. ронним потоком, а завдяки отвору 8 здійснюється Приклад 2. Підтримували всі ті ж параметри, обробка виробу атомами газу, що значно інтенсищо й у прикладі 1, але після досягнення робочої фікує процес хіміко-термічну обробку. температури (500°С) включали прискорювач іонів При роботі пристрою вакуумно-плазмової обробочого газу. За допомогою джерела живлення робки виробів струм вакуумно-дугового розряду 10 підтримували розряд між катодом 4 та анодом між катодом 4 та анодом 2 не може бути нижче, 9 при напрузі 100В на джерелі 10 та силі струму мінімального струму (Iмин.) стабільного існування 30А. Час проведення процесу хіміко-термічної обдугового розряду на катоді 4. Величина цього робки - 30хв. Після обробки визначали мікротверструму залежить від матеріалу катода та конструдість азотованого шару в залежності від глибини. кції катодного вузла (як правило, цей струм склаГрафік цієї залежності зображений на фіг.3 (крива дає декілька десятків ампер). Якщо підтримування 2). температури виробу відбувається при значенні Як випливає із графіка, використання прискоструму менше, ніж Iмин., то розряд не існує, що рювача іонів газу веде до збільшення товщини зменшує ефективність процесу. Щоб виключити азотованого шару приблизно на 40% при однакотаку ситуацію, у пристрої передбачено джерело 11 вому часі проведення процесу (30хв.) (фиг,2) постійного струму, який з'єднаний з катоТаким чином, пропонований пристрій вакуумдом 4 (негативним полюсом) і камерою 3. Таким но-плазмової обробки виробів дозволяє у порівчином, додатковим анодом для катода 4 є внутрінянні із пристроєм, який обраний як прототип, одшні стінки камери 3. При такій конструкції приночасно ефективно прогрівати вироби строю мінімальний струм стабільного горіння дуприскореними електронами та активізувати газове гового розряду забезпечується не струмом між середовище прискореними іонами, що свідчить катодом 4 і анодом 2, а струмом між катодом 4 і про підвищення ефективності хіміко-термічної обвнутрішніми стінками камери 3, який підтримується робки. за допомогою джерела живлення 11. Температура 7 Комп’ютерна верстка M. Клюкін 53365 8 Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

A mechanism for the vacuum-plasma treatment of articles

Автори англійською

Shulaiev Valerii Mykhailovych, Andreiev Anatolii Opanasovych

Назва патенту російською

Устройство вакуумно-плазменной обработки изделий

Автори російською

Шулаев Валерий Михайлович, Андреев Анатолий Афанасьевич

МПК / Мітки

МПК: C23C 8/06

Мітки: обробки, пристрій, вакуумно-плазмової, виробів

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/4-53365-pristrijj-vakuumno-plazmovo-obrobki-virobiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій вакуумно-плазмової обробки виробів</a>

Подібні патенти