Полірувальний склад

1. Полірувальний склад, який містить абразивний порошок і полірувальну рідину, яка містить суміш олігоорганосилоксану і тетраетоксисилану, C2 2 (19) 1 3 88598 4 забезпечує зменшення пружних напружень. При В якості олігоорганосилоксану використано цьому згладжування рельєфу поверхні внаслідок олігодиметилсилоксан, що містить кінцеві тримеутворення пластифікованого шару, що має гаситилсилоксанові групи, наприклад ПМС-5, або олільні властивості по відношенню до радіолюмінісгометилсилоксан, що містить гідрідсилоксанові ценції, призводить до погіршення сцинтиляційних групи Si-H, наприклад гідрофобізуюча рідина 136характеристик детектора. Окрім того, вказаний 157М. полірувальний склад не забезпечує високу оптичПолірування поверхні кристалів активованого ну якість поверхні із-за її замаслювання каучуком йодиду цезію полірувальною рідиною, що містить СКТН-Мед, а його висока вартість призводить до диметилсилоксан з кінцевими триметилсилоксазначного збільшення витрат технологічного проценовими групами або метилсилоксан з гідрідсилоксу обробки поверхні сцинтиляційних виробів. сановими групами з в'язкістю 5-50сСт, тетраетокВідомий полірувальний склад для кристалів сисилан і етиловий спирт при вказаному співвідактивованого йодиду цезію [пат. РФ. № 1746698, С ношенні компонентів, дозволяє підвищити оптичну якість поверхні за рахунок зниження замаслюван09 С1/02], що містить абразивний порошок - α-окис ня поверхні. Підвищення оптичної якості поверхні алюмінію та полірувальну рідину, що містить сусцинтиляторів через коефіцієнт світлозбирання міш з олігоорганосилоксану - низькомолекулярного відбивається й на поліпшенні їх сцинтиляційних полідиметилсилоксанового каучуку СКТН-Мед з характеристик. Використання в складі полірувальв'язкістю 0,1-0,3Па⋅с (олігодиметилсилоксану з ної рідини органосилоксану і тетраетоксисилану, кінцевими гідроксильними групами) та тетраетокщо адсорбуються на поверхні кристалів, уповільсисилану, при наступному співвідношенні компонює процес їх розчинення, що забезпечує відповінентів, мас.%: дні геометричні параметри поверхні сцинтилятокаучук 40,0 - 50,0; рів. При цьому використання в складі тетраетоксисилан 4,0 - 10,0; полірувальної рідини олігодиметилсилоксану з α-окис алюмінію 40,0 - 56,0 кінцевими триметилсилоксановими групами або Введення до полірувального складу тетраетоолігометилсилоксану з гідрідсилоксановими груксисилану, в якому кристали активованого йодиду пами і тетраетоксисилану, що виробляються вітчицезію мають малу розчинність (розчинність CsІ:Na зняною промисловістю (завод «Кремнійполімер», в тетраетоксисилані усього 0,49г/мл) забезпечує м. Запоріжжя) забезпечує її значне здешевлення. поліпшення якості полірувальної поверхні кристаВведення до полірувального складу неонолу АФ-9 лів за рахунок зниження пружних напружень при (оксиетилований моноалкилфенол на основі триполіруванні при збереженні високих характеристик мерів пропілену) знижує поверхневий натяг та погеометрії поверхні. Однак дефектність поверхні ліпшує якість полірованої поверхні. залишається, і, незважаючи на значне зменшення Обране співвідношення компонентів поліруваглибини спотвореного шару, завдяки вмісту в ньольної рідини є оптимальним та обрано в процесі му домішок (головним чином каучуку), якість поліпроведення експериментів. Зменшення вмісту нерованої поверхні не відповідає зростаючим вимоонолу АФ-9 менш ніж 0,6мас.% погіршує поліруючу гам до сцинтиляційних характеристик, що здатність рідини, а збільшення більш 1,0мас.% не пред'являються до сцинтиляторів з великим співпризводить до досягнення позитивного ефекту відношенням H/D, призначених, зокрема для комполіпшення якості поверхні. Зменшення вмісту понування сучасних електромагнітних калориметолігоорганосилоксану менш ніж 26,0мас.% та збірів та пристроїв контролю несанкціонованого льшення вмісту етилового спирту більше розповсюдження радіоактивних матеріалів. 15,0мас.%, а тетраетоксисилану більше Як прототип, за кількістю загальних признаків, 56,0мас.%, призводить до погіршення геометрії обрано останній з аналогів. поверхні. Збільшення вмісту олігоорганосилоксану В основу пропонованого винаходу поставлено більше 28,0мас.% та зменшення вмісту етилового задачу - розробити полірувальний склад для крисспирту менше 12,0мас.%, а тетраетоксисилану талів активованого йодиду цезію, зокрема з велименше 52,0мас.%, призводить до погіршення якоским співвідношенням H/D, що забезпечує поліпті поверхні за рахунок погіршення полірувальної шення сцинтиляційних характеристик детекторів здатності полірувальної рідини. Збільшення кінепри мінімальному відхиленні лінійних розмірів від матичної в'язкості олігометилсилоксанової рідини заданої геометрії. більше 50сСт призводить до подовження часу поРішення поставленої задачі забезпечується лірування без досягнення позитивного ефекту. тим, що до полірувального складу, який містить Зменшення в'язкості менш 5сСт не доцільно тому, абразивний порошок і полірувальну рідину, яка що обмежує використання асортименту метилсискладається із суміші олігоорганосилоксану й тетлоксановоі рідини. раетоксисилану, відповідно до винаходу, в складі В таблиці наведено результати вимірювань полірувальної рідини використано олігоорганосисцинтиляційних характеристик сцинтиляторів, які локсан з кінематичною в'язкістю 5-100сСт (Па⋅с), а було відполіровані у відповідності з прототипом, а також додатково введено неонол АФ-9 та етилотакож характеристики сцинтиляторів, що заявлявий спирт, при наступному співвідношенні вказаються, при різних значеннях параметрів, що заявних компонентів, мас.%: ляються. тетраетоксисилан 52,0-56,0; Приклади реалізації полірувального складу олігоорганосилоксан 26,0-28,0; Приклад 1 етиловий спирт 12,0-15,0; Пропонований полірувальний склад було пенеонол АФ-9 0,6-1,0; ревірено при виготовленні детекторів на основі абразивний порошок решта 5 88598 6 монокристалів CsI:Tl у вигляді чотирикутних зрізася досягнення поставленої мети (приклади 4-6). Вихід за граничні значення параметрів (приклади них пірамід з основою 50×50мм і висотою 327мм. 3, 7) призводить до погіршення світлового виходу Для полірування усіх поверхонь сцинтиляторів та його неоднорідності уздовж вісі. виготовляли полірувальний склад, що містить Видно, що пропонований полірувальний склад 54,0г (мас.%) тетраетоксисилану, 27,0г (мас.%) забезпечує, у порівнянні з прототипом, поліпшення полідиметилсилоксанової рідини ПМС-5 з в'язкістю середнього світлового виходу кристалів CsI:Tl не 5сСт, 0,8г (мас.%) неонолу АФ-9, 13,5г (мас.%) менш ніж на 10%, зменшує неоднорідність світлоетилового спирту і 4,7г (мас.%) поліриту (фірма вого виходу вздовж осі сцинтиляторів на 20% та ТОВ «Полірит», ТУ 1791-003-36280340-2008). Пополіпшує енергетичне розділення на 12%. лірування поверхонь сцинтилятору виготовленим Приклад 2 полірувальним складом здійснювалось після глиПропонований полірувальний склад було пебокого шліфування. Шліфування проводилось на ревірено при виготовленні детекторів на основі скляному диску складом, що містить електрокомонокристалів CsІ:Na у вигляді чотиригранних рунд з розміром зерна 40мкм. Відшліфовані поверхні протирались тканиною, яка була змочена розпризм з основою 50×50мм і висотою 500мм. Для чином етиленгліколю, що містить 50мас.% полірування усіх поверхонь сцинтиляторів виготоетилового спирту. Потім поверхня сцинтилятору вляли полірувальний склад, що містить 54г шліфувалась складом, що містить електрокорунд з (мас.%) тетраетоксисилану, 27г (мас.%) гідрофобірозміром зерна 20мкм. Відшліфовані поверхні зуючої рідини 136-157М з в'язкістю 25сСт, 0,8г протирались тканиною, яка була змочена розчи(мас.%) неонолу АФ-9, 13,0г (мас.%) етилового ном етиленгліколю, що містить 45мас.% етилового спирту й 5,2г (мас.%) α-окису алюмінію. Поліруспирту. Грубе полірування сцинтилятору проводивання поверхонь сцинтилятору здійснювалось ли на диску, який був обтягнутий м'якою тканиною виготовленим полірувальним складом після глибоокисом алюмінію з розміром зерна 0,3мкм. кого шліфування, що описано у прикладі 1. Після Полірування сцинтилятору виготовленим пополірування сцинтилятор обертали відбивачем лірувальним складом проводили на диску, який "Tyvek" та вимірювали сцинтиляційні характерисбув обтягнутий м'якою тканиною. Після полірувантики за допомогою фо-топомножувача Hamamatsu ня сцинтилятор обертали відбивачем "Tyvek" і R1307 при реєстрації γ- випромінювання з енергівиміряли сцинтиляційні характеристики. Визначаєю 662кеВ. ли світловий вихід (L) у відсотках до еталону розЯк видно з таблиці, тільки при параметрах, які міром ∅25×25мм та неоднорідність L уздовж осі відповідні тим, що заявляються, забезпечується сцинтилятору, яка дорівнює максимальному віддосягнення поставленої мети (приклади 9-11). хиленню L від середнього значення. Вимірювання Вихід за граничні значення параметрів (приклади проводили за допомогою колімованого джерела 8, 12) призводить до погіршення світлового виходу 22 Na й фотопомножувача Hamamatsu R669 та його неоднорідності уздовж осі. (λмакс=600нм) з кроком 20мм. Видно, що пропонований полірувальний склад Для полірування поверхні сцинтилятору за у порівнянні з прототипом, забезпечує поліпшення прототипом виготовляли полірувальний склад, що середнього світлового виходу кристалів CsI:Na не містить 45мас.% поліорганосилоксанового каучуку, менш, ніж на 10% й неоднорідність світлового ви7,0мас.% ефіру ортокремнієвої кислоти і ходу більш, ніж на 10%. 48,0мас.% α-окису алюмінію. Як видно з таблиці тільки при параметрах, що відповідають тим, що заявляються, забезпечуєть 7 88598 8 Таблиця № 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 Полірувальний склад, мас. % Поліметил Етиловий Неонол Тетраетоксисилан Абразив силоксан спирт АФ-9 Прототип CsI:Tl, СКТНα-окис 7,0 Мед 45,0 50×50×327 мм алюмінію Прототип CsI:Na, -II-II-II-II50×50×500 мм Пропоноване -IIПМС-5 -IIПоліріт -IICsI:Tl, 50×50×327 мм -II51 29 11 7,9 1,1 -II52 28 12 7,0 1,0 -II54 27 13,5 4,7 0,8 -II56 26 15 2,4 0,6 -II57 25 16 1,5 0,5 Пропоноване ГКЖ 136α-окис CsI:Na, -II-II-II157М алюмінію 50×50×500 мм -II51 29 11 7,9 1,1 -II52 28 12 7,0 1,0 -II54 27 13 5,92 0,8 -II56 26 15 2,4 0,6 -II57 25 16 1,5 0,5 Технічне рішення L R U 34,09 7,2 5,5 7,9 35,0 38,1 39,9 38,4 36,6 7,1 6,3 6,2 6,4 7,0 4,3 3,9 3,2 3,6 4,6 7,2 6,7 6,3 6,4 7,1 Примітка: L - світловий вихід, R - енергетичне розділення, U - неоднорідність світлового виходу уздовж осі сцинтилятору. Таким чином, пропоноване технічне рішення у порівнянні з прототипом забезпечує підвищення світлового виходу, поліпшує його однорідність уз Комп’ютерна верстка А. Крижанівський довж осі і поліпшує енергетичне розділення сцинтиляторів на основі активованих кристалів йодиду цезію. Підписне Тираж 28 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601