Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах
Номер патенту: 87068
Опубліковано: 27.01.2014
Формула / Реферат
Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах, що полягає у визначенні місця розташування джерела аероіонного випромінювання при зміні вхідних параметрів, який відрізняється тим, що визначення місця розташування джерела аероіонного випромінювання відбувається на двох сполучених площинах: одна горизонтальна, друга - нахилена відносно горизонтальної, з урахуванням кута нахилу, розрахунок значення зміщення джерела випромінювання () відносно проекції лінії сполучення площин
у бік горизонтальної площини виконується за формулою:
,
де - висота підвішування джерела аероіонів, м,
- кут нахилу площини, град.
Текст
Реферат: Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах полягає у визначенні місця розташування джерела аероіонного випромінювання при зміні вхідних параметрів. Визначення місця розташування джерела аероіонного випромінювання відбувається на двох сполучених площинах: одна горизонтальна, друга нахилена відносно горизонтальної, з урахуванням кута нахилу. Розрахунок значення зміщення джерела випромінювання ( d ) відносно проекції лінії сполучення площин O1 у бік горизонтальної площини виконується за формулою: 1 cos dH . sin UA 87068 U (54) СПОСІБ ОПТИМІЗАЦІЇ РОЗМІЩЕННЯ ДЖЕРЕЛ АЕРОІОННОГО ВИПРОМІНЮВАННЯ НА ДВОХ СПОЛУЧЕНИХ ПЛОЩИНАХ UA 87068 U UA 87068 U 5 10 15 20 25 30 35 40 Корисна модель, що пропонується, належить до іонно-електронної технології і може бути використана для вибору місця розташування джерел розсіювального аероіонного випромінювання при проектуванні технічних систем іонізації у виробничих і побутових приміщеннях, які мають похилу підлогу, а саме лекційні аудиторії, зали театрів, кінотеатрів тощо. Відомий спосіб визначення однакового рівня концентрації аероіонів від двох розсіювальних джерел аероіонного випромінювання [Пат. 48805 Україна МПК(2009) A62L 9/22, A61N 1/44 Спосіб визначення однакового рівня концентрації аероіонів від двох розсіювальних джерел/ Строкань О.В., Івженко О.В., Чураков А.Я.; заявник і патентовласник Строкань Оксана Вікторівна. - № 2009 04661; Заявлено 12.05.2009; Опубл. 12.04.2010, Бюл. № 7], який полягає у визначенні відстані від розсіювального джерела аероіонного випромінювання до розрахункової точки на площині. Недоліком способу визначення однакового рівня концентрації аероіонів від розсіювального джерела аероіонного випромінювання є відсутність можливості корекції місця розташування джерела аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах: одна горизонтальна, друга - нахилена відносно горизонтальної. Як прототип вибрано спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання [Патент № 79668 від 25.04.2013 р. ПМК A61L 9/22(2006.01) A61N 1/44(2006.01) Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання/ Чураков А.Я., Строкань О.В.], який включає визначення місця розташування джерела аероіонного випромінювання при зміні кута ' нахилу розрахункової площини 1 відносно горизонтальної . 1 Недоліком способу, взятого за прототип, є неможливість корегування місця розташування джерела аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах: одна горизонтальна, друга - нахилена відносно горизонтальної. В основу корисної моделі поставлена задача удосконалення способу оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання шляхом введення коефіцієнта зміни кута нахилу площини, що значно підвищує ефективність проектування технічних систем іонізації повітря у приміщеннях, які мають сполучені площини. Поставлена задача вирішується завдяки тому, що у способі оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання, що полягає у визначенні місця розташування джерела аероіонного випромінювання при зміні вхідних параметрів, відповідно до корисної моделі, визначення місця розташування джерела аероіонного випромінювання відбувається з урахуванням кута нахилу площини відносно горизонтальної. Визначене оптимальне місце розташування джерела аероіонного випромінювання з урахуванні кута нахилу площини відносно горизонтальної забезпечує необхідний рівень іонізації повітря у робочій зоні і підвищує ефективність проектування аероіонізаційних систем. Суть способу, що пропонується, пояснюється графічним матеріалом, на якому: на Фіг. 1 зображено принцип оптимізації місця розташування джерела аероіонного випромінювання при зміні кута нахилу на двох сполучених площинах: одна горизонтальна, друга - нахилена відносно горизонтальної; на Фіг. 2 - загальна проекція ізоліній сполучених площин представляє двофокусний еліпс. Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання, що пропонується, ' полягає у наступному: похила площина 1 розташовується під кутом ( 90 ) відносно горизонтальної площини . 1 45 ' Щоб отримати зображення концентрації аероіонів на похилій площині 1 , аналогічне ' зображенню концентрації аероіонів на площині 1 , необхідно визначити точку N1 , яка віддалена від джерела випромінювання N на відстані H . Для цього джерело випромінювання необхідно змістити відносно проекції лінії сполучення площин O1 у бік горизонтальної площини 50 на величину d : 1 cos , dH sin де H - висота підвішування джерела аєроіонов, м, - кут нахилу площини, град. Запишемо рівняння визначення величини концентрації аероіонів на площині 1 : 1 UA 87068 U n 1 a[x d y 2 ) b 2 , ' а на площині 1 : n 5 10 1 , a[x d y 2 ) b 3 де n - концентрація аероіонів в розрахунковій точці на площині, іон/см ; a - коефіцієнт, притаманний кожному окремому графіку в залежності концентрації аероіонів на площині від прикладеної напруги U [2]; b - коефіцієнт, який залежить від випромінювальної здатності джерела аероіонів [2]; x,y - координати розрахункової точки, яка належить заданій ізолінії концентрації аероіонів, м; (0; 0) - координати лінії сполучення О. Отриманий аналітичний опис визначення концентрації від'ємних аероіонів на двох сполучених площинах може бути використаний для автоматизації процесу оптимізації розміщення джерела аероіонного випромінювання за допомогою комп'ютерних програм. 2 15 ФОРМУЛА КОРИСНОЇ МОДЕЛІ 20 25 Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах, що полягає у визначенні місця розташування джерела аероіонного випромінювання при зміні вхідних параметрів, який відрізняється тим, що визначення місця розташування джерела аероіонного випромінювання відбувається на двох сполучених площинах: одна горизонтальна, друга - нахилена відносно горизонтальної, з урахуванням кута нахилу, розрахунок значення зміщення джерела випромінювання ( d ) відносно проекції лінії сполучення площин O1 у бік горизонтальної площини виконується за формулою: 1 cos , sin де H - висота підвішування джерела аероіонів, м, - кут нахилу площини, град. dH 2 UA 87068 U Комп’ютерна верстка А. Крижанівський Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 3
ДивитисяДодаткова інформація
Автори англійськоюChurakov Anatolii Yakovych
Автори російськоюЧураков Анатолий Яковлевич
МПК / Мітки
Мітки: двох, джерел, розміщення, оптимізації, сполучених, аероіонного, випромінювання, площинах, спосіб
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/5-87068-sposib-optimizaci-rozmishhennya-dzherel-aeroionnogo-viprominyuvannya-na-dvokh-spoluchenikh-ploshhinakh.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб оптимізації розміщення джерел аероіонного випромінювання на двох сполучених площинах</a>
Попередній патент: Спосіб термічної обробки швидкорізальної сталі
Наступний патент: Токарний різець
Випадковий патент: Клавіатура комп'ютера та спосіб позначення її багатофункціональних клавіш