Патенти з міткою «фоторезиста»

Номер патенту: 5773

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Єфремов Олександр Миколайович, Гомжин Іван Васильович, Покроєв Анатолій Георгійович, Будянський Олександр Михайлович, Лебедєв Едуард Олександрович

МПК: H01L 21/306

Мітки: спосіб, плівок, плазмохімічного, зняття, фоторезиста

Формула / Реферат:

Способ плазмохимического удаления пленок фоторезиста с образцов, имеющих диэлектриче­ские слои, включающий непрерывный напуск ра­бочего газа и откачку продуктов реакции, активацию рабочего газа плазмой ВЧ-разряда, от­деление зоны активации газа от зоны обработки образца, размещение образца в зоне обработки в потоке активированного разрядом газа и удаление полимерной фоторезистивной пленки под действи­ем химически активных частиц, отличающийся...