Будянський Олександр Михайлович

Номер патенту: 6260

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Будянський Олександр Михайлович, Фареник Володимир Іванович, Покроєв Анатолій Георгійович, Плетньов Василь Максимович

МПК: C23F 1/00

Мітки: плазмохімічного, пристрій, травлення, матеріалів

Формула / Реферат:

1. Устройство для плазмохимического травления материалов, включающее диэлектриче­скую реакционную камеру, перфорированный металлический экранирующий элемент, подложкодержатель с пластиной, размещенный внутри реак­ционной камеры, отверстия для напуска и откачки газа и индуктор для возбуждения ВЧ-разряда, витки которого охватывают реакционную камеру, отлича­ющееся тем, что, с целью увеличения скорости трав­ления и повышения качества обработки...

Номер патенту: 5773

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Гомжин Іван Васильович, Єфремов Олександр Миколайович, Покроєв Анатолій Георгійович, Будянський Олександр Михайлович, Лебедєв Едуард Олександрович

МПК: H01L 21/306

Мітки: фоторезиста, плівок, плазмохімічного, спосіб, зняття

Формула / Реферат:

Способ плазмохимического удаления пленок фоторезиста с образцов, имеющих диэлектриче­ские слои, включающий непрерывный напуск ра­бочего газа и откачку продуктов реакции, активацию рабочего газа плазмой ВЧ-разряда, от­деление зоны активации газа от зоны обработки образца, размещение образца в зоне обработки в потоке активированного разрядом газа и удаление полимерной фоторезистивной пленки под действи­ем химически активных частиц, отличающийся...

Номер патенту: 5772

Опубліковано: 29.12.1994

Автори: Фареник Володимир Іванович, Єгоренко Володимир Дмитрович, Крячко Юрій Петрович, Демченко Петро Васильович, Івановський Геннадій Хомич, Федоров Микола Миколаєвич, Будянський Олександр Михайлович

МПК: C23C 14/54

Мітки: контролю, процесу, пристрій, травлення, покриттів

Формула / Реферат:

1. Устройство для контроля процесса травле-ния покрытий, содержащее систему измеритель­ных электродов и подложкодержатель, размещенные в зоне разряда, откачной патрубок и блок контроля, электрически соединенный с систе­мой измерительных электродов, отличающееся тем, что, с целью повышения точности контроля процесса травления покрытий за счет исключе­ния фонового сигнала, система измерительных электродов выполнена в виде трех зондов,...

Номер патенту: 2426

Опубліковано: 26.12.1994

Автори: Зиков Олександр Володимирович, Будянський Олександр Михайлович, Фареник Володимир Іванович

МПК: H01J 27/16

Мітки: високочастотне, джерело, іонів

Формула / Реферат:

Высокочастотный источник ионов, содержащий диалектрическую разрядную камеру, ВЧ-индуктор, охватывающий камеру снаружи, потенциальный апектрод, расположенный в объеме камеры, и ионно-оптическую систему, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности и надежности рабо­ты, потенциальный апектрод соединен с источником ВЧ-напряжения через разделительный конденса­тор, а ионно-оптическая система источника состоит из одного заземленного...