Патенти з міткою «плазмотрону»

Номер патенту: 11900

Опубліковано: 25.12.1996

Автори: Гончар Микола Іванович, Звягінцев Олександр Васильович

МПК: H05B 7/18, H05G 2/00

Мітки: плазмотрону, стінок, камери, спосіб, розрядної, газового, захисту

Формула / Реферат:

Способ газовой защиты стенок разрядной ка­меры ВЧ плазмотрона с осевым вводом дисперсного обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру вдоль ее стенки поток плазмообразующего газа, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса плазмотрона и повыше­ния качества обработанного материала путем от­теснения его от стенок камеры, подают плазмообразующий газ в разрядную камеру в направлении, противоположном движению...

Номер патенту: 11901

Опубліковано: 25.12.1996

Автор: Гончар Микола Іванович

МПК: H05H 1/26, H05B 7/22

Мітки: плазмотрону, спосіб, газового, стінок, захисту, камери, розрядної

Формула / Реферат:

Способ газовой защиты стенок разрядной ка­меры плазмотрона с осевым вводом порошкового обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру защитный газ кольцевым пря­моточным потоком, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона, подают за­щитный газ под углом а к направлению ввода об­рабатываемого материала, причем угол выбран в пределах 20° < а < 160°.