Спосіб газового захисту стінок розрядної камери вч плазмотрону

СПОСОБ ГАЗОВОЙ ЗАЩИТЫ СТЕНОК РАЗРЯДНОЙ КАМЕРЫ ВЧ ПЛАЗМОТРОНА с осевым вводом дисперсного обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру вдоль ее стенки поток плазмообразующего газа, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью увеличения ресурса плазмотрона и повышения качества обработанного материала путем оттеснения его от стенок камеры, подают плазмообразующий газ в разрядную камеру в направлении, противоположном движению дисперсного материала. со со со « to 1 991932 Изобретение относится к электроосевого ввода дисперсного материала. технике, а именно к генераторам н и з С противоположной стороны разрядной і котемпературной плазмы* камеры предусмотрено сопло 6 для выИзвестен способ защиты стенок р а з вода плазменной струи и обработаннорядной камеры ВЧ плазмотрона, при 5 го материала. котором подают плазмообразутощий газ Способ реализуется следующим обрав разрядную камеру тангенциально [ 1 ] . зом. Защитный газ кольцевым потоком При этом реализуется газодинамиподают вдоль внутренней поверхности ческая стабилизация ВЧ разряда и о т разрядной камеры в направлении, прожим его от стенок разрядной камеры 'О тивоположном движению порошкообразза счет вихревого эффекта. ного материала. Однако ввод дисперсного материала Двигаясь в направлении, противодля обработки в В разряд в этом слуЧ положном движению порошка вдоль с т е чае затруднен, так как возвратные нок разрядной камеры, поток защитнопотоки плазмы разбрасывают частицы 15 го г а з а не только снимает тепловую по стенкам камеры. нагрузку со стенок, но и препятствует движению обрабатываемых частиц от Наиболее близким к изобретению оси к стенке, увлекает их в высокоявляется способ газсаой защиты с т е температурную зону, где они обрабанок разрядной камеры ВЧ плазмотрона с осевым вводом дисперсного обраба20 тываются и затем выводятся вдоль оси из камеры. ітьіваемого материала, при котором подают в разрядную камеру вдоль ее При этом защитный поток нейтрали.стенки поток плазмообразующего г а зует действие рециркулятивных п о т о за [ 2 7 . ков, характерных для прототипа, что Недостатком известного способа 25 позволяет направить поток частиц маявляется низкий ресурс работы п л а з териала непосредственно в разрядную мотрона и з - з а налипания расплавлензону. ных частиц на стенки разрядной камеКачество полностью обработанного 'ры и недостаточное качество обрабоматериала, получаемого на выходе ретанного материала и з - з а т о г о , что 30 актора, возрастает до 100%. часть порошка либо минует высокотемТранспортирующий и защитный газь пературную зону ВЧ р а з р я д а , либо могут быть разными по составу, если время их пребывания в этой зоне неэто необходимо для технологического достаточно для полного проплавлення. процесса. Защитный г а з , кроме термоЦелью изобретения является увели- 35 изолирующей функции, выполняет также функцию транспортирующего, и может чение ресурса плазмотрона и повышеучаствовать в плазменных реакциях. ния качества обработанного материа- ла путем оттеснения его от стенок камеры. Поставленная цель достигается 40 тем, что подают плазмообразующий газ в разрядную камеру в направлении, противоположном движению дисперсного материала. Сущность способа поясняется чер-