H05G 2/00 — Апарати або процеси, спеціально пристосовані для генерування рентгенівського випромінювання, без використання рентгенівських трубок, наприклад з формуванням плазми

Кероване джерело рентгенівського випромінювання

Завантаження...

Номер патенту: 72569

Опубліковано: 27.08.2012

Автори: Комбєгова Катерина Віталіївна, Терещенко Микола Федорович, Держук Володимир Андронович

МПК: H01J 35/00, A61B 6/00, H05G 2/00 ...

Мітки: джерело, випромінювання, рентгенівського, кероване

Формула / Реферат:

Кероване джерело рентгенівського випромінювання, яке містить джерело пучка заряджених частинок, вакуумний корпус, де знаходиться мішень для генерації рентгенівського випромінювання, яку встановлено з можливістю обертання і оснащено системою охолодження, а на виході з джерела пучка заряджених частинок встановлено електростатичні лінзи, на шляху рентгенівського випромінювання до досліджуваного об'єкта знаходиться рентгенооптична система, при...

Спосіб генерації рентгенівського випромінювання

Завантаження...

Номер патенту: 49032

Опубліковано: 12.04.2010

Автори: Вершинський Сергій Олексійович, Ілляшенко Максим Вікторович, Дрозденко Олександр Олексійович, Денисенко Віталій Леонідович, Сторижко Володимир Юхимович

МПК: H05G 2/00, H01J 35/00

Мітки: спосіб, випромінювання, рентгенівського, генерації

Формула / Реферат:

Спосіб генерації рентгенівського випромінювання, в якому рентгенівське випромінювання генерують у вакуумі шляхом направлення пучка заряджених частинок на мішень, яку при цьому охолоджують та обертають, який відрізняється тим, що перед направленням на мішень пучок заряджених частинок фокусують, після взаємодії з мішенню рентгенівське випромінювання, що генерується, перед направленням на досліджуваний зразок також фокусують, при цьому як пучок...

Джерело рентгенівського випромінювання

Завантаження...

Номер патенту: 49031

Опубліковано: 12.04.2010

Автори: Ілляшенко Максим Вікторович, Дрозденко Олександр Олексійович, Сторижко Володимир Юхимович, Вершинський Сергій Олексійович, Денисенко Віталій Леонідович

МПК: H05G 2/00, H01J 35/00

Мітки: рентгенівського, випромінювання, джерело

Формула / Реферат:

Джерело рентгенівського випромінювання, яке містить джерело пучка заряджених частинок, вакуумний корпус, де знаходиться мішень для генерації рентгенівського випромінювання, яку встановлено з можливістю обертання і оснащено системою охолодження, яке відрізняється тим, що на виході з джерела пучка заряджених частинок встановлено електростатичні лінзи, а на шляху рентгенівського випромінювання до досліджуваного зразка знаходиться рентгенооптична...

Спосіб генерування рентгенівського випромінювання

Завантаження...

Номер патенту: 18932

Опубліковано: 25.12.1997

Автори: Дунаєвський Олександр Володимирович, Ломако Андрій Олександрович, Чорниий Валентин Васильович, Моргун Олексій Миколайович

МПК: G21G 4/00, H05G 2/00

Мітки: рентгенівського, генерування, випромінювання, спосіб

Формула / Реферат:

Способ генерирования рентгеновского излучения, включающий генерирование электронного пучка и последующее его торможение на рентгеновской мишени в азимутальном магнитном поле токонесущего проводника, отличающийся тем, что вначале электронный пучок инжектируют в переходную область, а затем в рабочую, заполненную газом при давлении 0,5-3 атм., при этом магнитные поля в переходной и рабочей области создают при помощи аксиальных проводников с...

Спосіб розділення за масою сумішей ізотопів, елементів та сполук, що знаходяться в плазмовому стані

Завантаження...

Номер патенту: 11772

Опубліковано: 25.12.1996

Автори: Залюбовський Ілля Іванович, Власов Вячеслав Васильович, Рожков Алім Михайлович, СОСІПАТРОВ МИХАЙЛО ВАСИЛЬОВИЧ, Степанов Костянтин Миколайович, Фареник Володимир Іванович, Кривоніс Михайло Григорович

МПК: H05G 2/00, B01D 59/00

Мітки: стані, масою, знаходяться, елементів, розділення, плазмовому, спосіб, ізотопів, сумішей, сполук

Формула / Реферат:

Способ разделения по массам смесей изотопов, элементов и соединений, находящихся в плаз­менном состоянии, включающий воздействие на них скрещенными электрическим и магнитным по­лями осесимметричной конфигурации в условиях замагниченности ионов, отличающийся тем, что, с целью снижения энергозатрат на разделение пу­тем избирательного воздействия на выделяемый компонент смеси, напряженности электрического и магнитного полей выбирают из...

Спосіб газового захисту стінок розрядної камери вч плазмотрону

Завантаження...

Номер патенту: 11900

Опубліковано: 25.12.1996

Автори: Гончар Микола Іванович, Звягінцев Олександр Васильович

МПК: H05G 2/00, H05B 7/18

Мітки: спосіб, розрядної, камери, стінок, захисту, плазмотрону, газового

Формула / Реферат:

Способ газовой защиты стенок разрядной ка­меры ВЧ плазмотрона с осевым вводом дисперсного обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру вдоль ее стенки поток плазмообразующего газа, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса плазмотрона и повыше­ния качества обработанного материала путем от­теснения его от стенок камеры, подают плазмообразующий газ в разрядную камеру в направлении, противоположном движению...