Спосіб газового захисту стінок розрядної камери плазмотрону

Номер патенту: 11901

Опубліковано: 25.12.1996

Автор: Гончар Микола Іванович

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Способ газовой защиты стенок разрядной ка­меры плазмотрона с осевым вводом порошкового обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру защитный газ кольцевым пря­моточным потоком, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона, подают за­щитный газ под углом а к направлению ввода об­рабатываемого материала, причем угол выбран в пределах 20° < а < 160°.

Текст

СПОСОБ ГАЗОВОЙ ЗАЩИТЫ СТЕНОК РАЗРЯДНОЙ КАМЕРЫ ПЛАЗМОТРОНА с осевым вводом порошкового обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру защитный газ кольцевым прямоточным потоком, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона, подают защитный газ под угломX к направлению ввода обрабатываемого материала, причем угол выбран в пределах 20 90 , на фиг.З - для предлагаемого спосоi гии. і ба при с^< 90 * Известны различные способы защиПредположим, что модули вектоты стенок разрядных камер плазморов скоростей движения частиц без тронов , 10 воздействия на них потоков защитноШироко известный способ защиты го газа и движения частиц с начальстенок [1]у включающий тангенциальной нулевой скоростью под действием ную (вихревую) подачу холодного гапотока защитного газа для прототиза вдоль внутренней поверхности разпа и предлагаемого способа соответрядной камеры, снимает тепловые наственно равны, т.е. модули I0A1 и грузки на сте ь / , ио увеличивает lOFf на фиг.1 соответственно равны степень налипс что поток газа может быть направлен как вдоль стенки камеры, если камера Заявляемый способ защиты стенок имеет конусность, так и под углом к может быть реализован как в разрядней, если она цилиндрическая. S посных камерах плазмотронов, так и в леднем случае для обеспечения надеж- 30 других реакторах с высокотемпературной защиты стенки надо создать необными потоками газа или в смеси с дисходимую плотность кольцевых сопел и, персным материалом. При этом, в стенс учетом обязательного расширения поках камеры последовательно может устоков газа после его выхода из коль" танавливаться произвольное количестцевого сопла, обеспечивается непре- 35 во кольцевых сопел для подачи плазрывный фронт газового потока, направмообразующего газа, зависящее от темленного к приосевой зоне. Постоянная пературы, скорости и др. параметров величина потока защитного газа обесвысокотемпературного потока, от сопечивается неизменной суммарной плоотношения диаметров разряда и камеры щадью критических -сечений сопел. 40 и т.д. Экспериментально установлено,что Таким образом, за счет более эфналипание на стенки разрядной камеры фективного оттеснения рециркулятивобрабатываемых частиц начинается при ных газовых и в смеси с обрабатываеугле подачи кольцевого потока рабомыми частицами потоков от стенки разчего газа к направлению ввода порош- 45 рядной камеры в приосевую высокотемкового материала большем *М60°и пературиую зону при обычных рабочих ( меньшим ^20". При 160°ccL c 20° в ^20°. расходах плазмообразующего газа пурезультате действия рециркуляции потем подачи кольцевого потока газа в токов газа траектории движения часкамеру под углом d выбранном в пре- 1 тиц приближаются к стенке камеры и 50 делах 20°<

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Gas protection method for plasmotron discharging chamber

Автори англійською

Honchar Mykola Ivanovych

Назва патенту російською

Способ газовой защиты разрядной камеры плазмотрона

Автори російською

Гончар Николай Иванович

МПК / Мітки

МПК: H05B 7/22, H05H 1/26

Мітки: захисту, газового, розрядної, плазмотрону, камери, спосіб, стінок

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/4-11901-sposib-gazovogo-zakhistu-stinok-rozryadno-kameri-plazmotronu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб газового захисту стінок розрядної камери плазмотрону</a>

Подібні патенти