Спосіб газового захисту стінок розрядної камери плазмотрону
Формула / Реферат
Способ газовой защиты стенок разрядной камеры плазмотрона с осевым вводом порошкового обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру защитный газ кольцевым прямоточным потоком, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона, подают защитный газ под углом а к направлению ввода обрабатываемого материала, причем угол выбран в пределах 20° < а < 160°.
Текст
СПОСОБ ГАЗОВОЙ ЗАЩИТЫ СТЕНОК РАЗРЯДНОЙ КАМЕРЫ ПЛАЗМОТРОНА с осевым вводом порошкового обрабатываемого материала, при котором подают в разрядную камеру защитный газ кольцевым прямоточным потоком, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью увеличения КПД плазмотрона, подают защитный газ под угломX к направлению ввода обрабатываемого материала, причем угол выбран в пределах 20 90 , на фиг.З - для предлагаемого спосоi гии. і ба при с^< 90 * Известны различные способы защиПредположим, что модули вектоты стенок разрядных камер плазморов скоростей движения частиц без тронов , 10 воздействия на них потоков защитноШироко известный способ защиты го газа и движения частиц с начальстенок [1]у включающий тангенциальной нулевой скоростью под действием ную (вихревую) подачу холодного гапотока защитного газа для прототиза вдоль внутренней поверхности разпа и предлагаемого способа соответрядной камеры, снимает тепловые наственно равны, т.е. модули I0A1 и грузки на сте ь / , ио увеличивает lOFf на фиг.1 соответственно равны степень налипс что поток газа может быть направлен как вдоль стенки камеры, если камера Заявляемый способ защиты стенок имеет конусность, так и под углом к может быть реализован как в разрядней, если она цилиндрическая. S посных камерах плазмотронов, так и в леднем случае для обеспечения надеж- 30 других реакторах с высокотемпературной защиты стенки надо создать необными потоками газа или в смеси с дисходимую плотность кольцевых сопел и, персным материалом. При этом, в стенс учетом обязательного расширения поках камеры последовательно может устоков газа после его выхода из коль" танавливаться произвольное количестцевого сопла, обеспечивается непре- 35 во кольцевых сопел для подачи плазрывный фронт газового потока, направмообразующего газа, зависящее от темленного к приосевой зоне. Постоянная пературы, скорости и др. параметров величина потока защитного газа обесвысокотемпературного потока, от сопечивается неизменной суммарной плоотношения диаметров разряда и камеры щадью критических -сечений сопел. 40 и т.д. Экспериментально установлено,что Таким образом, за счет более эфналипание на стенки разрядной камеры фективного оттеснения рециркулятивобрабатываемых частиц начинается при ных газовых и в смеси с обрабатываеугле подачи кольцевого потока рабомыми частицами потоков от стенки разчего газа к направлению ввода порош- 45 рядной камеры в приосевую высокотемкового материала большем *М60°и пературиую зону при обычных рабочих ( меньшим ^20". При 160°ccL c 20° в ^20°. расходах плазмообразующего газа пурезультате действия рециркуляции потем подачи кольцевого потока газа в токов газа траектории движения часкамеру под углом d выбранном в пре- 1 тиц приближаются к стенке камеры и 50 делах 20°<
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюGas protection method for plasmotron discharging chamber
Автори англійськоюHonchar Mykola Ivanovych
Назва патенту російськоюСпособ газовой защиты разрядной камеры плазмотрона
Автори російськоюГончар Николай Иванович
МПК / Мітки
Мітки: захисту, газового, розрядної, плазмотрону, камери, спосіб, стінок
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/4-11901-sposib-gazovogo-zakhistu-stinok-rozryadno-kameri-plazmotronu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб газового захисту стінок розрядної камери плазмотрону</a>
Попередній патент: Строп, що затягується, та спосіб його виготовлення
Наступний патент: Ківш землерийної машини
Випадковий патент: Спосіб автоматичного керування процесом гранулювання комбікормової маси у пресі-грануляторі