Патенти з міткою «резистивним»

Обігрівальний виріб з листовим нагрівальним резистивним елементом

Завантаження...

Номер патенту: 81440

Опубліковано: 25.06.2013

Автори: Захарова Юлія Олександрівна, Прокопенко Артем Станіславович

МПК: H05B 3/36, H05B 3/10

Мітки: елементом, нагрівальним, резистивним, обігрівальний, листовим, виріб

Формула / Реферат:

1. Обігрівальний виріб з листовим нагрівальним резистивним елементом, який характеризується тим, що має декоративну тепловипромінювальну панель, або іншу тепловипромінювальну основу, до якої прилягає нагрівальний резистивний елемент, зовні вкритий шаром термостійкого ізоляційного матеріалу, наприклад, лаком чи будь-яким іншим твердим чи застигаючим матеріалом, який його одночасно утримує на декоративній панелі та ізолює зовні, причому...

Рециркуляційний вимірювальний перетворювач з резистивним сенсором та часовим представленням інформації

Завантаження...

Номер патенту: 7263

Опубліковано: 15.06.2005

Автор: Шабатура Юрій Васильович

МПК: G01R 27/00

Мітки: перетворювач, часовим, рециркуляційний, сенсором, інформації, представленням, резистивним, вимірювальний

Формула / Реферат:

Рециркуляційний вимірювальний перетворювач з резистивним сенсором та часовим представленням інформації, що містить електронний RC-генератор, у якому в часозадавальне RC-коло ввімкнений резистивний сенсор, який відрізняється тим, що в нього введені другий електронний RC-генератор, формувач імпульсу запуску і схема суматора по модулю два, причому перший і другий електронні RC-генератори ввімкнені в режимі одновібраторів, їх входи запуску...

Спосіб отримання тонких ванадієвих плівок термічним резистивним нагрівом

Завантаження...

Номер патенту: 33147

Опубліковано: 15.02.2001

Автори: Варшава Славомир Степанович, Набитович Йосиф Дмитрович, Сусол Петро Іванович

МПК: C23C 14/26, H01C 17/075

Мітки: ванадієвих, резистивним, тонких, плівок, спосіб, отримання, нагрівом, термічним

Текст:

...заповнюють двома І більше ванадієвими стрічками,при цьому температуру випар-* нику задають в межах 1850 - 20S0 °С» температуру підкладки * ЗЬО - *Ю0 °С ,а глибина вакууму складав 9,3« І О" 5 Па, запропонована конструкція випарника дозволяв проводити процес випаровування при температурах 1850 - 20Ь0 °С»розміщення наваж* ки » ванадієвої стрічки по всі* довжині робочої частини вольфра* у О/ тервалі температур І швидкосте* випарру:вання...