Спосіб отримання тонких ванадієвих плівок термічним резистивним нагрівом

є МІЖ ; HOI37 / 16 C23CU / 26 Спосіб отримання тонких ванадієвих плівок термічним резистившм нагрівом. Винахід відноситься до технології отримання тонких плівок тугоплавких металів, які можуть використовуватися в мікро* електроніці для створення елементів Інтегральних схем* Шдомо,що для отримання ПЛІВОК1/( ванадію ) застосовують _ЄЛЄ_КТрОг> тодиудугового та електронно-променевого розігріву ( Техноло • гия тонких пленок. T.I, Справочник под рвд» Л.Майселла,Р.Глэн» га.пер. с англ. М,: Сов. радио * - 1977, * С. 59» 71,» Однак ці методи мають слідуючі недоліки* Оскільки складно керувати режимами електричної дуги та швидкістю випаровування ванадію (V j »a також ма-е місце невеликий діапазон зміни швидкостей випаровування,ТО Існує Імовірність забруднення конденсатів матеріалами конструкцій. Це не дозволяв отримувати висок очи сті тонкі плівки Y^ • Найбільш близьким до запропонованого способу в спосіб отри» мання тонких плівок термічним резистйвним нагрівом,згідно яко* го розташовують навашку з випаровуваного матеріалу на дротяно3* вольфрамовому випарнику І осаджують плівки в вакуумі на діелектричних підкладках при заданих режимах ( Технология тонких пленок. Т.І* Справочник под ред. Л, майселла,Р. Глэнга. Пер . с англ. Я,: иов. радио » - ІУ7У. - О. 4y- Vl ). Однак ,цеі спосіб не дозволяв отримувати високочисті тонкі ванадієві плі вки. В основу винаходу поставлено завдання - створення способу отримання ТОНКЯА ванадієвих плівок термічним резистивним нагрівом,в якому підбір технолог! ЧНИА режимі в ,ж бір конструкції *' 2 m випарника дозволили б отримати високочисті тонкі плівки у з керованими параметрами ( П » у>й )• Поставлене завдання вирішується тим.що в способі отримання тон* ких ванадієвих плівок термічним резистивним нагрівом»згідно якого розташовують наважку з випаровуваного матеріалу на дротяному вольфрамовому випарнику І осаджують плівки у вакуумі на дівлек * тричішх підкладках при заданих режимах, з г і д н о ходу, в и н а * як наважку вибирають ванадієву стрічку.яку спірально намотують на робочу частину вольфрамового випарника Sl~ подїб • ноі конфігурації ,а проміжок між випарником І намоткою заповнюють двома І більше ванадієвими стрічками,при цьому температуру випар-* нику задають в межах 1850 - 20S0 °С» температуру підкладки * ЗЬО - *Ю0 °С ,а глибина вакууму складав 9,3« І О" 5 Па, запропонована конструкція випарника дозволяв проводити процес випаровування при температурах 1850 - 20Ь0 °С»розміщення наваж* ки » ванадієвої стрічки по всі* довжині робочої частини вольфра* у О/ тервалі температур І швидкосте* випарру:вання ♦ Крім цього.випаровувана речовина рівномірно розподіляється вздовж поверхні випаровування, чим забезпечується рівномірність товщини плівкиі с Вказана глибина вакууму І температура підкладки ( р ж У,3»І0 На , Т 0 * Зї*> 4t>0 ° С j забезпечують високу чистоту І дозволяє ють оптимізувати структурні параметри плівок,осаджених на ситалі» Випаровувальна система дозволяє візуалізуватя етапи процесу * початок плавлення V І його випаровування»що підсилює керованість процесу. Спосіб отримання тонких ванадієшх плівок термічним резистивним нагрівом здійснюють шляхом розташування наважки у вигляді ванадієвої стрічки на дротяному вольфрамовому шпарнику,при мового випарника S1 - подібної конфігурації запобігає його швидкому руйнуванню 1 дозволяє експлуатувати його в широкому Ін~ ~ зника S2. --подібної конфігурації ,а проміжок мі к випарником І на моткою заповнюють двома І більш* ванадієвими стрічками,при цьому температуру запарнику задають в межах І8ЬО • £050 °С,дІелектрйЧ* ній підкладці - ЗЬСМОО °С,а глибина вакууму складає 9,3*ІСГ 5Па, І осаджують тонкі плівки ванадію. Приклад конкретного виконання, Для отримання плівок використовували як базову установку УВН 2М-2 ,вдо забезпечувала вакуум 9 ,3» 10 На «Виготовляли вольфрамовий випарник S2 -подібної кон* фігурації з дрот у діаметром І мм, на робочу частину якого спі « рально намотували 1/ *• стрІчкуВ8Л~І, а проміжок мі» випарником І намоткою заповнювали двома- трьома ванадієвими стрічками Із слідуючими розмірами: довжина 40-45 мм,ширина 3,0 мм,товщина 0,3 мм. К І НЦІ випарника ,запресо вані в оболонк у з МІД І вак ^шої плавки.з допомогою силових затискачів ,виготовлених з титану,пІд~ еднували до джерела живлення з оптимальними режимами: напруга U » 8 В, струм І * 20U А* Температура випаровування задавалась величиною робочого струму І , І випарник попередньо градуювався по температурі. Для осадження плівок використовували ситалові підкладки,які в КІЛЬКОСТІ Ь ШТ* закріплювались на карусельному тримачі з відповідним підігрівом* швидкість конденсації складала 10 - 100 А /с ^то вщина оса джени х плівок /7 р а « І - I0U Ом/D * в ОД-1,0 мкм Д х