Кляхіна Наталія Панасівна

Спосіб одержання нітридної плівки

Завантаження...

Номер патенту: 66847

Опубліковано: 25.01.2012

Автори: Кляхіна Наталія Панасівна, Дзюба В'ячеслав Леонідович, Зьома Олександр Володимирович

МПК: C23C 16/34

Мітки: нітридної, одержання, спосіб, плівки

Формула / Реферат:

Спосіб одержання нітридної плівки TiN, який полягає у розпиленні мішені, формуванні модифікованого покриття в результаті іонної імплантації у ґратку полікристалічної підкладки іонізованих атомів титанової мішені і реактивного газу азоту, який відрізняється тим, що як полікристалічну підкладку застосовують підкладку з конструкційної сталі 30X13, на яку перед імплантацією подають негативний потенціал, вмикають напругу на анод і катод, де...

Спосіб одержання нітридної плівки

Завантаження...

Номер патенту: 56823

Опубліковано: 25.01.2011

Автори: Кляхіна Наталія Панасівна, Дзюба В'ячеслав Леонідович, Васецька Лариса Олександрівна

МПК: C23C 16/34

Мітки: плівки, одержання, нітридної, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб одержання нітридної плівки, який полягає у розпиленні титанової мішені, формуванні модифікованого покриття в результаті іонної імплантації у ґратку полікристалічної підкладки, який відрізняється тим, що як полікристалічну підкладку застосовують підкладку конструкційної сталі ВСт3сп, на яку перед імплантацією подають негативний потенціал, вмикають напругу на анод і катод, де виникає дуговий розряд, одночасно подають напругу на мішень...

Спосіб одержання багатошарової нітридної плівки

Завантаження...

Номер патенту: 50837

Опубліковано: 25.06.2010

Автори: Кляхіна Наталія Панасівна, Дзюба В'ячеслав Леонідович, Васецька Лариса Олександрівна

МПК: C23C 16/34

Мітки: плівки, спосіб, нітридної, одержання, багатошарової

Формула / Реферат:

Спосіб одержання нітридної плівки W2N/TiN/TiO2, що включає розпилення мішені, формування плівки в результаті іонної імплантації у ґратку холодної полікристалічної підкладки вольфраму іонізованих атомів титанової мішені і реактивного газу азоту, який відрізняється тим, що плівку W2N/TiN покривають зовні прошарком оксиду Ті при режимі: напруга (Up) і струм (Ір) на газовому розряді 400 В і 0,5 А, на мішені Uм=3 кВ і Ім=50 мА, на підкладці Uп=25...