Радіаційнотвердіючий склад для покриттів
Номер патенту: 26934
Опубліковано: 29.12.1999
Автори: Віденіна Нелі Григорівна, Бондаренко Павло Олександрович, Бокало Григорій Андрійович
Текст
Радиационноотверждаемый состав для покрытий, содержащий ненасыщенный олигоэфир, олигомер-растворитель, фотои нициатор и добавку, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что в качестве ненасыщенного олигоэфира он содержит олигоэтиленмалеинатэндометилентетрагидрофталат, в качестве олигомера-растворителя - диметакрилат триэтиленгликоля, в качестве добавки - оксиэтиленорганосилоксановый блок-сополимер КЭП -2 и, дополни Изобретение относится к области получения пленкообразующих композиций на основе ненасыщенных олигоэфиров, отверждаемых УФ-излучением или излучением высоких энергий и образующих глянцевые защитно-декоративные покрытия на древесине, картоне, цементе и прочих материалах для мебельной, деревообрабатывающей, судостроительной и других отраслей промышленности. тельно высококипящий активный мономеррастворитель общей формулы -С-0 -R сн 3 о где R - С4Н9 НО(СН2)2 при следующем соотношении компонентов, мае. ч.: Олигоэтиленмалеинатэндометилентетрагидрофталат 45 -55 Диметакрилат триэти ленгликоля 45 - 55 Фотоинициатор 2 - 9 Указанный высококи пящий активный моно мер-растворитель 12 - 20 Оксиэтиленорганосилоксановый блоксополимер КЭП -2 0,06 - 0,18 Известно ингибирующее действие кислорода при полимеризации композиций, содержащих ненасыщенные компоненты, а также используемые в технике приемы его устранения (Берлин А.А., Кефели Т.Я., Королев Г.В. Полиэфиракрилаты. - М.: "Наука", 1967). Так, отверждение покрытий ускоренными электронами проводят в атмосфере инертного газа при минимальном и контролируемом содержании в нем' О 26934 кислорода (Заявка 57 -159693 Япония, МКИ В 41 М 7/00, С 08 F 2/44) При фотохимическом отверждении чаще всего осуществляют защиту прозрачными пленками и всплывающими добавками (Док- 5 лады III Всесоюзного совещания по применению ускорителей заряженных частиц в народном хозяйстве. 26 -28 июня 1979 г. 9 Ленинград, НИИФА - С, 205 -212). Известны пленкообразующие компо- 10 зиции на основе ненасыщенных олигоэфи-ров, отличающиеся повышенной устойчивостью к ингибирующему воздействию кислорода. Эффект достигается модификацией олигомерных цепей (Фомина Н.В., 15 Белов М.Ю., Ширяева Т.В. Олигоэфиры, отверждаемые ускоренными электронами на воздухе // Лакокрасочные материалы и их применение. - 1981. - № 3. - С. 18 -22), либо введением в состав компо- 20 зиции различных противоингибирующих добавок (Отверждение композиций на основе ненасыщенных олигоэфиров ускоренными электронами на воздухе (Н.В. Фомина, Т.А. Большакова, Т.В. Ширяева и 25 др. // Радиационная химия и технология олигомерных систем. Сб. науч. тр. - М.: НИИТЭХим. - 1986. - С. 64 - 76). При отверждении этих композиций на поверхности покрытий образуются пузыри, крате- 30 ры, проколы, шагрень, что обуславливает необходимость шлифовки и полировки. В промышленности выпускается лак ПЭ -284А (ТУ 6 -10 -1715 -79), используемый для получения радиационноотверж- 35 даемых пок рытий. Лак отверждается в инертной атмосфере. Покрытие имеет дефекты, требует шлифовки и полировки. Выпускается также лак УФ отверждения ПЭ 2136 (ТУ 6 -10 -1060 -37 -86). В состав 40 лака входит токсичный низкокипящий компонент - стирол, присутствие которого вызывает экологические проблемы при применении лака и эксплуатации изделий. Композиции, способные отверждаться как 45 ускоренными электронами так и УФ-излучением, практически отсутствуют. Известен состав для покрытий, отверждаемый ускоренными электронами, содержащий ненасыщенный олигоэфир, моди- 50 фицированный неполными простыми эфирами аллилового спирта, мономер-растворитель и резиловую смолу (А.с. 754847 СССР, кл. С 09 D 3/68, С 08 F 289/00, С 08 L 67/06. Состав для покрытий, отверж- 55 даемый ускоренными электронами / Авескина О.Х., Астахова Р.С., Штанько Н.Г. и др. Опубл. 30.09.87, Бюл. № 36). При нанесении данного состава на загрунтованную деревянную поверхность и отверж дении в среде инертного газа при дозах поглощенной энергии 100 -160 кГр получают ровные глянцевые покрытия, не требующие шлифовки и полировки. Недостаток известного состава заключается в том, что отверждение покрытий ускоренными электронами может быть осуществлено только в инертной среде (азот, углекислый газ и др.). Данный состав отличается высокой вязкостью, что требует при нанесении на подложку прогрева лака. Ближайшим аналогом предлагаемого изобретения является состав для получения защитно-декоративных покрытий на древесине, отверждаемый УФ-излучением, содержащий ненасыщенную попиэфирную смолу, стирол, 2,2'-диметокси-2-фенилацетофенон в качестве фотоинициатора и всплывающую добавку, в качестве которой используют продукт взаимодействия высокодисперсной двуокиси кремния, парафина, жирной кислоты (стеариновой, пальметиновой, олеиновой) и неионогенного поверхностно-активного вещества (пентаэритрита, сорбита, ксилита, оксиэтилированного изооктилфенола) (А.с . 1479480, кл. С 09 D 3/68, С 08 L 67/06. Лаковый состав фотохимического отверждения / Яремчук Л.А., Хома М.И., Романюк Б.М. и др. - Опубл. 15.05.89, Бюл. № 18). При нанесении данного состава на деревянную поверхность и отверждения УФ-излучением получают покрытия не устойчивые к действию знакопеременных температур, ударных нагрузках и распиловке подложек, что имеет особое значение при сборке мебели, телевизоров и других изделий, а также при эксплуатации изделий при смене температур. Данный состав представляет собой мутную вязкую массу вследствие введения всплывающей добавки, что не позволяет получать высокоглянцевые прозрачные покрытия не требующие шлифовки и полировки. Кроме того, указанный состав содержит стирол - высокотоксичный, легколетучий, пожароопасный растворитель. Задачей предлагаемого изобретения является разработка радиационноотверж,даемого состава, обеспечивающего получение покрытий, отверждаемых на воздухе как УФ-излучением, так и излучениями высоких энергий, не требующих шлифовки и полировки, повышение стойкости покрытий к знакопеременным температурам, исключение из состава стирола и других легколетучих растворителей. Поставленная задача достигается тем, что согласно изобретению, радиационноотверждаемый состав для покры 26934 6 тий, включающий ненасыщенный олиго- или 2-гидрокси-2-мётил-1-фенил-пропан-1-он эфир, олигомер-растворитель, фотоини- ("Даракур 1177"), или другие подобные циатор и добавку, содержит в качестве не- соединения. насыщенного олигоэфира- олигоэтилен- В качестве высококипящего мономемалеинатэндометнлентетрагидрофталат, в ка- 5 ра-раствориіеля используют монометакчестве олигомера-растворителя - диметак- риловый эфир этиленгликоля (ТУ 6 - 0 1 - 426 рилат триэтиленгликоля, в качестве добавки 75, Т п = 373°С) или бутилметакри лат - оксиэтиленорганосилоксановый блок-со- (ГОСМ6756 -71, Тк и п = 163°С). Применяемый полимер КЭП -2 и, дополнительно, высоко- оксиэтиленорганосилоккипящий активный мономер-растворитель 10 сановый блок-сополимер, пеностабилизатор для полиуретанов, выпускается под общей формулы названием "Пенорегулятор кремнийорганический - КЭП -2" (ТУ 6 -02 -813 -84). СН^СН-С -0-R 2 Сопоставительный анализ предлагаеI I! 15 мого решения с ближайшим аналогом позсн 3 о воляет сделать вывод, что заявляемый рагде R = С4Н9; НО(СН2)2 при диационноотверждаемый состав для покрытий следующем соотношении компонентов, отличается от известного тем, что в качестве мае. ч.: ненасыщенного олигоэфира исОлигоэтиленмалеинат20 пользуется олигоэтиленмалеинатэндометиэндометилентетрагидлентетрагидрофталат, в качестве олигомерарофталат 45 растворителя диметакрилат три55 этиленгликоля, дополнительно он содержит Диметакрилат триэти высокоактивный мономер-растворитель ленгликоля 45 - 55 25 и оксиэтиленорганосилоксановый блок-соФотоинициатор 2- 9 полимер КЭП -2. Высококипящий Анализ литературных данных и известных активный мономертехнических решений показал возможность растворитель 12-2 0 использования ненасыщенных Оксиэтиленорганоси 30 олигоэфиров, модифицированных дициклоксановый блок-со лопентадиеном (Полимерные покрытия, отполимер КЭП -2 0,06 - 0,18 верждаемые радиационным способом / З.Г. Ненасыщенный олигоэфир представ Загорская, Е.В. Маслова, Ю.С. Деев и др. // ляет собой продукт взаимодействия ди- Пласт, массы. - 1934. Г із 8. карбонозых кислот или их ангидридов и 35 - С. 29 -31., Фоми-'з Н.В., Ширяева Т.В. многоатомных спиртов. Олигоэтилен- Радиационное отверждение ненасыщенных малеинатэндометилентетрагидрофталат полиэфиров в присутствии кислорода воздуха // (ОЭМЦ) получают поликонденсацией в Лакокрасочные материалы и их применение. расплаве в токе азота с одновременным - 1977. - № 6. - С. 39 протеканием реакции Дильса -Альдера. 40 42), в качестве компонентов композиций Для этого в реактор, снабженный мешал для покрытий, отверждаемых на воздухе. кой, обратным холодильником и насадкой Однако, эти композиции предусматривают Дина -Старка, загружают 1,1 моль эти- обязательное использование в качестве моленгликоля (ГОСТ 19710 -83), 1,0 моль номера-растворителя высокотоксичного малеинового ангидрида и 0,3 моль дицик- 45 легколетучего стирола с ПДК = 5 мг/м 3 . лопентадиена (ТУ 14-6 -35 -86) и в токе Известно также применение в качестве инертного газа при температуре (185 ±5)°С мономера-растворителя ТГМ -3, но в случае методом полиэтерификации синтезируют проведения процесса отверждения в инертной ОЭМЦ с кислотным числом (35 ±5) мгКОН/ среде или при использовании г, стабилизируют продукт 0,15% гидрохи 50 других механических способов защиты от нона (ГОСТ 19627 -74). проникновения кислорода (Берлин А.А., Ко-фели В качестве олигомера-растворителя Т.Я., Королев Г.В. Полиэфиракрила-ты. - М.: используют диметакрилат триэтиленглико- "Наука", 1967). ля (ТГМ -3), который представляет собой Сущность заявляемого технического рг продукт этерификации метакриловой кис- 55 шения заключается в совместном испольлоты триэтиленгликолем в среде раство- зовании олигоэтиленмалеиьатэндомогмрителя - толуола (ТУ 16-16 -2010 -82). лентетрагидрофталата, димеї акриллта В качестве фотоинициатора радикальной триэтиленгликоля, высококипящего актив-ного полимеризации используют изобути- мономера-растворителя и окситти-лєноргаї ловый эфир бензоина (ТУ 6 -14 -319 -83) юсилоксанового блок-согюл им еили 2,2'-диметокси-2-фенилацетофенон, 7 26934 pa КЭП -2. Сочетание этих признаков дает новый эффект: состав может быть отвержден на воздухе как ускоренными электронами так и УФ излучением, стойкость покрытий к действию знакопеременных температур повышается в 2 раза, они не требуют шлифовки и полировки, характеризуются хорошей прочностью на изгиб и относительной твердостью. Наличие в заявляемом составе фотоинициатора позволяет применять для его отверждения УФ-излучение. При отверждении ускоренными электронами фотоинициатор не мешает полимеризации, напротив, способствует проведению неингибированной полимеризации (Сухарева Л.А. Полиэфирные покрытия: структура и свойства. М.:, Химия, 1987. С. 112 -114). Положительное влияние каждого из компонентов радиационноотверждаемого состава проявляется только при их сочетании в заявляемых соотношениях. Введение олигоэтиленмэлеинатэндометилентетрагидрофталата (ОЭМЦ) в состав, благодаря наличию легкоокисляющихся фрагментов в бициклогептеновом кольце, приводит к устранению ингибирующего влияния на полимеризационные процессы кислорода. При превышении содержания ОЭМЦ выше оптимальных пределов увеличивается вязкость состава, покрытия становятся жесткими, имеют дефекты, снижается стойкость к действию знакопеременных температур (табл. 2, контр, прим. 18, 28). Уменьшение содержания ОЭМЦ ниже оптимальных пределов приводит к возрастанию времени/дозы отверждения состава до неприемлемых с технологической точки зрения величин. Усиливается ингибирующее влияние кислорода, покрытия становятся липкими (табл. 2, контр, прим. 17, 27). Диметакрилат триэтиленгликоля (ТГМ -3) в составе играет роль сополимеризационного агента. При возрастании содержания ТГМ -3 выше оптимальных пределов повышается время/доза отверждения состава до неприемлемых с точки зрения технологии величин, образованию покрытий с липкой поверхностью. Покрытия имеют низкую твердость, в них появляются дефекты (табл. 2, контр, прим. 20, 30). Уменьшение содержания ТГМ -3 приводит к повышению вязкости состава, покрытия становятся жесткими, имеют дефекты, снижается устойчивость к действию знакопеременных температур (табл. 2, контр, прим. 19, 29). Введение в состав высококипящего активного мономера-растворителя повышает реакционную способность системы, улуч З шает технологические параметры применения состава. При увеличении содержания высококипящего активного мономерарастворителя выше оптимальных пре-5 делов усиливается ингибирование полимеризации, что приводит к получению липких покрытий (табл. 2, контр, прим. 21, 23, 31, 33). При уменьшении содержания высококипящего активного мономера-раст10 ворителя ниже оптимальных пределов снижается активность состава, уменьшается выход трехмерного полимера, покрытия имеют дефекты (табл. 2, контр, прим. 22, 24, 32, 34). 15 Фотоинициатор выступает при облучении состава потоком ускоренных электронов дополнительным продуцентом свободных радикалов. При возрастании содержания фотоинициатора выше оптималь20 ных пределов покрытия становятся хрупкими, растрескиваются, не выдерживают воздействия знакопеременных температур (табл. 2, контр, прим. 38). При уменьшении содержания фотоинициатора ниже оп25 тимальных пределов снижается активность состава, уменьшается выход трехмерного полимера, увеличивается липкость покрытий, снижается их твердость (табл. 2, контр, прим. 37). 30 Оксиэтиленорганосилоксановый блоксополимер КЭП -2 работает как поверхностно-активное вещество, снижает поверхностное натяжение системы. КЭП -2 улучшает розлив и устраняет дефекты в 35 покрытиях. При увеличении или уменьшении содержания КЭП -2 выше или ниже оптимального содержания покрытия имеют дефекты в виде сильной шагрени (табл. 2, контр, прим. 25, 26). 40 Предлагаемый с остав в с оответствии с рецептурой (табл. 1) готовят следующим образом: олигоэтиленмалеинатэндометилентетрагидрофталат растворяют в диметакрилате триэтиленгликоля, добавляют высоко45 кипящий активный мсномер-растворитель и перемешивают. Затем вводят КЭП -2, фотоинициатор и перемешивают до получения однородной массы. Полученные составы представляют собой прозрачные однород50 ные жидкости от желтого до светло-коричневого цвета. Массовая дола нелетучих веществ (ГОСТ 17537 -72) составляет не менее 90%, кислотное число (ГОСТ 23955 -80) - (20±5) мгКОН/г. Условную вязкость лако55 вых составов определяют по вискозиметру ВЗ -246 с диаметром сопла 4 мм при температуре (20,0±0,5)°С (ГОСТ 8420 -74). Технология нанесения состава состоит в следующем: состав наносят на предварительно загрунтованную поверх 26934 10 ность двухслойным наливом с расходом Анализ приведенных в табл. 1, 2 данных показывает, что заявляемый состав 250 -300 г/м2 при рабочей вязкости (50 для покрытий при указанных оптимальных 70) с по вискозиметру ВЗ -4 при (20±1)°С. соотношениях компонентов может быть отОтверждение лакового слоя осуществляется потоком ускоренных электронов в воз- 5 вержден на воздухе как ускоренными душной среде с дозой отверждения (70 электронами (примеры 5 -10), так и УФ100) кГр или УФ излучением ртутно-кваризлучением (примеры 11 -16). Получают цевой лампы среднего давления типа ДРТ ровные, гладкие, глянцевые покрытия не требующие шлифовки и полировки. на воздухе. Мощность лампы 1 кВт, расстояние от светящегося тела лампы до об- 10 Отверждение состава по ближайшему аналогу ускоренными электронами (табл. лучаемого образца - 20 см. 2, контр, прим. 2) приводит к образоваВ полученных покрытиях определяют нию покрытий с липким поверхностным содержание гель-фракции методом исчерслоем (10 -20) мкм, легко царапающихся пывающей экстракции в ацетоне, содер- 15 и нестойких к действию растворителей. жание неотвержденного полимера в поНаличие всплывающей добавки не устраверхностном слое, относительную твердость няет поверхностной липкости. Состав по известному решению (табл. 2, прим. 3) по маятниковому прибору МЭ -3 (ГОСТ 5233 отверждается ускоренными электронами -89) и стойкость к воздействию знакопеременных температур (Карякина М.И. Лабо- 20 только в инертной среде. раторный практикум по испытанию лакокПолучен положительный эффект, сосрасочных материалов и покрытий. - М.: тоящий в значительном повышении (в 2 Химия. - 1977. - 239 с). Свойства покраза) по сравнению с ближайшим аналорытий приведены в табл. 2. гом стойкости покрытий к действию знаИзобретение иллюстрируется приме- 25 копеременных температур. Эффект достигается, согласно заявляемому оптимальрами 1 -38. П р и м е р 1. Состав по ближайному соотношению компонентов, за счет шему аналогу наносили на загрунтованиспользования смеси ненасыщенных ную поверхность древесины и отверждали олигоэфиров (ОЭМЦ и ТГМ -3) с высокоУФ-излучением в течение 90 с в воздуш- 30 кипящим активным мономером-растворителем и оксиэтиленорганосилоксановым ной среде. Получены образцы и опредеблок-сополимером КЭП -2. Данный покалены их свойства (табл. 2). затель для полиэфирных покрытий осоП р и м е р 2 (контрольный). Состав бенно важен из-за их склонности к растпо примеру 1 наносили на загрунтованную поверхность древесины и отверждапи 35 рескиванию не только при температурных на воздухе потоком ускоренных электроперепадах, но и в процессе технологинов при дозе поглощенной энергии 100 ческих операций (сверление, распиловка кГр. После облучения покрытие оставаи т.п.). Несмотря на высокое содержание лось липким, что подтверждено данными по содержанию неотвержденного полиме- 40 гель-фракции (91,5 -95,9%) и твердость (0,59 -0,78 усл. ед.), покрытия характерира в поверхностном с лое (табл. 2). П р и м е р 3. Иллюстрирует известзуются высокой прочностью на изгиб (3 ный состав, условия отверждения и свойст5 мм) (табл. 2, прим. 5 -16). ва покрытий на основе используемого в В примере 4 приведены данные по промышленности лака радиационного от- 45 фотохимическому отверждению лака ПЭ 2136, основой которого является ненаверждения ПЭ -284А jy 6 -10 -1715 -79). сыщенный полиэфир, модифицированный П р и м е р 4. Иллюстрирует известный состав, условия отверждения и свойстдиаллиловым эфиром триметилолпропана ва покрытий на основе используемого в в сочетании со стиролом в к ачестве мопромышленности лака ПЭ -2136 (ТУ 6 - 50 номера-растворителя (ПДК - 5 мг/м3). Это 10 -1060 -86). Основой указанного лака летучий пожароопасный мономер (темпеявляется ненасыщенный олигоэфир, моратура вспышки паров - 30°С) при кондифицированный диаллиловым эфиром центрациях, превышающих ПДК (а в реальтриметилолпропана, также как и в применых условиях его содержание в воздухе ре 3. В качестве мономера-растворителя 55 рабочей зоны составляет 100 -140 мг/м3) использован летучий, токсичный стирол. пары стирола раздражают слизистые обоП р и м е р ы 5-16. Иллюстрируют лочки глаз, верхние дыхательные пути, рецептуру заявляемого состава и свойсткожу, действуют на кроветворные органы, нервную систему. Предлагаемый состав ва покрытий по формуле изобретения. является экологически безопасным лакокП р и м е р ы 5- 1 6 контрольные. 11 26934 расочмым • материалом по сравнению с лаком по ближайшему аналогу, лаком ПЭ -2136 (Россия), лаками фирм Фоттелер, Рейхольд-Хеми, содержащими стирол. В контрольных примерах изменены предложенные соотношения компонентов в одну и другую стороны. Данные, приведенные в контрольных примерах 17 -28 (табл. 2) показывают, что использование любых сочетаний исходных компонентов, отличающихся от оптимальных, не позволяют достигнуть поставленной цели. Наблюдается увеличение содержания неотвержденного полимера в поверхностном слое, образование дефектов на поверхности покрытий, не позволяющих получить "готовый эффект", уменьшается стой 12 кость пок рытий к действию знакопеременных температур. Технические характеристики радиационноотверждаемого состава для покры5 тий позволяют использовать его в качестве глянцевого полиэфирного лака с готовым эффектом на линиях радиационного отверждения и многочисленных мебельных фабриках России и государств СНГ, осна10 щенных линиями фотохимического отверждения. Заявляемый состав для покрытий является фактически материалом со 100%ным сухим остатком, т.е. не содержит летучих растворителей, в том числе инертных 15 (ацетон, бутилацетат и т.п.). Применение состава позволит значительно улучшить положение с охраной окружающей среды на мебельных предприятиях. Таб лиц а 1 Состав композиций Содержание компонентов, массовые части ПрИмер Ненасыщенный полиэфир, модифицированный диаллиловым эфиром триметилолпропана Диметакриловый эфир триэтиленгликоля (ТГМ3) 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 48,5 62,7 46,0 45 50 55 48 51 54 45 50 55 47 50 55 45 55» 40 60 45 50 48 55 50 Всплы- Стирол Ненасыщенная вающая полидобав ка эфирмалеинатная смола 0,7 0,7 40 40 33,8 Продукт 167174(50-% ный раствор в толуоле) Раствор смолы ГФК-6 в ТГМ-3 Олигоэтиленмалеинатэндометилентетрагидрофталат Высококипящий мономеррастворитель Бутил метакрилат Монометакрилат этиленгликоля Оксиэтиленорганосилоксановыи блоксополимер КЭП-2 Фотоинициатор 60 — 0,2 60 5,6 20 15 12 20 16 12 20 15 25 10 12 0,06 0,09 0,18 0,08 0,12 0,18 0,06 0,18 0,18 0,08 0,12 0,18 0,06 0,09 0,18 0,08 0,10 0,15 0,11 0,06 0,03 0,2 2,5 2 2 2 2 2 2 2 6 9 3 5 9 2 2 2 2 2 2 2 2 2 1 45 50 55 48 51 54 45 50 55 47 50 55 40 60 50 55 45 50 48 55 49 20 14 12 20 16 14 12 12 25 10 го CD (О СО Продолжение табл. 1 Пример Содержание компонентов, массовые части Всплывающая добав ка Стирол Ненасыщенная ПОЛИэфирмалеинатная смола Продукт 167174(50-% ный раствор в толуоле) Раствор смолы ГФК-6 в ТГМ-3 Олигоэтиленмалеинатэндометилентетрагидрофталат Высококипящий мономеррастворитель Бутилметакрилат Монометакрилат этиленгликоля Оксиэтиленорганосилоксановый блоксопслимер КЭП-2 Фотоинициатор I І І 1 І І І І І І І І І І І І I I I I І І І 47 42 60 47 55 45 55 47 52 45 55 47 . 52 20 16 20 25 10 20 16 І І І 1 і 48 50 50 40 60 45 55 47 52 45 55 47 52 І ел 1 1 І І І І І І І І І І і І 26 27 28 29 ЗО 31 32 33 34 35 36 37 38 і ный диал-л иловым эфиром триметилолпропана Диметакриловый эфир триэтиленгликоля (ТГМ3) 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 Ненасыщ енный полиэфир, модифицирован 12 12 25 10 12 14 0,23 0,06 0,10 0,18 0.08 0,12 0,16 0,10 0,08 0,04 0,20 0,06 0,10 22 69 35 84 72 51 10 П р и м е ч а н и е . Примеры: 1 - по ближайшему аналогу, 2 - контрольный по ближайшему аналогу; 3-4 - по известному решению, 5-16 - по изобретению; 17 -38 - контрольные по изобретению. О) (О со Т аб л иц а Свойства композиций и покрытий на их основе 2 Наименование показателей Условная Пример вязкость при (2О±О,5) °С по в искозиметру ВЗ246 с диаметром сопла 4 мм, с Доза отверждения, кГр Внешний в ид покрытия Содержание гель-фракции, % Содержание неотвержденного полимера в поверхностном слое покрытия. г/см^Ю4 1 36 90 93,0 0,75 50 0,50 16 36 100 80,3 190 55 0,07 18 3 120 150 88,5 1,5 50 0,50 15 4 120 120 90,5 2,3 60 0,58 20 5 50 80 94,8 0,28 100 0,68 3 6 60 90 93,4 0,26 100 0,78 5 7 70 100 92,8 0,24 100 0,70 5 8 53 70 Ровное, гладкое Ровное, сильно липнет Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое 2 96,9 0,35 100 0,75 3 Огюидо DfJtJMH ЛТОАП^ГЮииОІ ОТ Bv\jM f.ifarwW при (20±2) °С при облучении лампой ДРТ-1000.С • 9 58 80 і Стойкость к действию знакопеременных температур, % Тв ердость покрытия по маятниковому прибору МЭ-3, услов. ед. Прочность покрытия на изгиб по прибору ШГ-1, мм ^ 1 1 і 52 оо 95,8 0,30 100 0,72 • 3 Ш ^Ш 1 Продолжение табл. 2 Пример Наименование показателей Условная вязкость при (20*0,5) °С по вискозиметру ВЗ-246 с диаметром сопла 4 мм, с Время отверждения при (20±2) °С при облучении лампой ДРТ-1000.С 10 11 65 55 95 12 58 65 13 70 50 14 60 94 15 63 63 16 67 49 _ 17 40 — 120 18 85 — 100 19 95 — 80 20 60 — 120 21 40 — 90 — 120 22 • 80 • Доза отверждения, кГр 90 — 23 50 _ 110 24 80 — 120 25 70 _ 90 Внешний вид покрытия Содержание гель-фракции, % Содержание неотвержденного полимера в поверхностном слое покрытия, г/см Jx 10* Стойкость к действию знакопеременных температур, % Твердость покрытия по маятниковому прибору МЭ-3, услов в д. Прочность покрытия на изгиб по прибору ШГ-1, мм Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое Ровное, гладкое, глянцевое с Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Очень сильная шагрень 94,8 91,5 0,28 0,23 100 100 0,72 0,59 5 5 92,3 0,19 100 0,63 3 93,0 0,15 100 0,67 5 93,2 0,25 100 0,60 3 93,9 0,22 100 0,65 5 94,5 0,21 100 0,68 5 80,0 2,4 90 0,25 3 93,8 0,22 50 0,86 15 94,2 0,24 50 0,85 10 89,0 0,85 100 0,35 3 88,5 1,38 60 0,45 3 79,2 0,25 55 0,82 15 88,0 1,30 0,43 3 80,5 0,26 60 0,85 15 92,5 0,26 100 0,68 5 *65 ♦ (О 8 (О го о Продолжение табл. 2 Наименование показателей Условная вязкость при (20±0,5) Пример "С по в искозиметру ВЗ246 с диаметром Содержание неотверж время ПТООПЖ ПСМ-ІМО при (20±2) °С при об Доза отверждения, кГр Внешний вид покрытия Содержание гель-фракции, % пойДРТ-1000,с сопла 4 мм, с Стойкость к Твердость Прочность денного полимера в поверхностном слое покрытия, действ ию Знакопеременных температур, % покрытия по маятниковому прибору МЭ-3, услов. ед. покрытия на изгиб по прибору ШГ-1, мм г/см^Ю* 26 52 — 90 27 47 120 28 110 60 29 80 85 — 30 60 110 31 40 110 32 75 60 33 55 110 34 80 72 35 55 100 36 70 62 37 60 120 38 60 49 Очень сильная шагрень Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратер Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень, кратеры Проколы, шагрень Проколы, шагрень Очень сильная шагрень Очень сильная шагрень Покрытие мягкое Покрытие с трещинами 93,4 0,26 100 0,74 5 88,2 0,81 90 0,40 3 94,3 0,18 50 0,85 15 90,0 0,24 50 0,84 10 89,5 0,80 100 0,48 3 87,0 1,36 60 0,41 3 83,8 0,21 55 0,62 15 88,8 1,20 70 0,42 3 83,0 0,21 65 0,78 20 90,0 0,25 100 0,55 3 93,0 0,21 100 0,65 5 75,0 2,20 100 0,28 3 97,2 0,18 50 0,70 20 П р и м е ч а н и е . Примеры: 1 - по ближайшему аналогу; 2 - контрольный по ближайшему аналогу; 3-4 - по известному решению; 5 -1 6 - по изобретению; 17 -38 - контрольные по изобретению. 8 (О со 26934 Упорядник Техред М. Ке ле ме ш Корек тор М.Куль Замовлення 540 Тираж Підписне Державне патентне відомство України, 254655, ГСП, Київ-53, Льві вська пл. , 8 Ві дкрите акціонерне това риство "Патент", м. Уж город, вул. Га гаріна, 101
ДивитисяДодаткова інформація
Автори англійськоюBondarenko Pavlo Oleksandrovych, Bokalo Hryhorii Andriiovych
Автори російськоюБондаренко Павел Александрович, Бокало Григорий Андреевич
МПК / Мітки
МПК: C09D 167/06
Мітки: склад, покриттів, радіаційнотвердіючий
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/12-26934-radiacijjnotverdiyuchijj-sklad-dlya-pokrittiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Радіаційнотвердіючий склад для покриттів</a>
Попередній патент: Вічний двигун
Наступний патент: Спосіб визначення попереднього стискаючого напруження у перетворювачі та пристрій для його здійснення
Випадковий патент: Спосіб лікування холедохолітіазу